美媒:阿斯麦可以远程瘫痪光刻机,结果阿斯麦一天蒸发600亿欧元?

从最先进的极紫外(EUV)光刻机技术垄断者到在中美博弈中被频频施压的棋子,阿斯麦的商业命运因美国的介入发生了颠覆性转变。美国的限制措施早在2023年,美国政府就对荷兰光刻机技术进行了一系列干预,试图以阿斯麦为“卡脖子”手段,阻碍我国芯片技术的自主突破。由于阿斯麦在EUV光刻机技术上有着无法替代的地位,美国...

美荷网友同发声,对中国独立研发的光刻机技术给予了强烈批评!

我国作为芯片消费大国，因技术受限，长期依赖从荷兰进口光刻机。然而，随着中美博弈日趋升级，荷兰在美国的压力下对我国实施了光刻机出口限制，这严重阻碍了我国的芯片自主化进程，迫使我国必须自主研发光刻机技术。今年9月，根据路透社报道，荷兰政府再次加强了对光刻机出口的限制，向中国出口TWINSCANNXT：1970i和1980...

荷兰决策:对中国交付60台高端光刻机,背后政策转向揭秘

简而言之，光刻机虽在手中，核心技术与服务却不在自己掌控范围内。这笔交易，是否真的划算？中国光刻机自主研发：挑战与策略"为何中国不自主研发光刻机？看似简单，实则复杂。光刻机作为高端精密设备，不仅需要高超的技术，更需长时间的技术积累。近年来，中国已认识到“卡脖子”技术的重要性，并在积极追赶。目前...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。此次推出的65纳米光刻机,虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距,但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域,28纳米及以上的芯片需求庞大,而中国自主研发的光刻机正好填补了这一...

美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸

01中国工信部宣布氟化氩193nm波长、8nm的套刻精度光刻机已进入推广目录,标志着国产光刻机取得重大突破。02尽管与国外先进光刻机存在较大代差,但28nm光刻机的突破意味着中国在众多工业化领域已实现自主。03由于国内对光刻机的需求极度迫切,产业前进速度往往比预想中快,光刻机突破打破芯片制造瓶颈指日可待。

俄国重磅投资25.4亿美元,计划自主研发光刻机与芯片制造工具!

Shpak透露，他们计划在2024年开始生产350nm光刻机，以及在2026年推出130nm芯片的光刻机项目(www.e993.com)2024年11月6日。此外，俄罗斯甚至在展望能在2028年研发出生产7纳米芯片的光刻机，矢志挑战ASML等国际巨头的地位。为此，俄罗斯政府已将超过25.4亿美元的资金用于支持国产半导体相关设备、CAD工具和原材料的研发。这项计划已启动41个研发项目，...

国产光刻机取得重大突破 深市产业链公司迎来发展新机遇

申万宏源证券(000562)认为,官方披露核心设备进展提振市场信心,国产光刻机相关产业链受益,国内晶圆厂扩产自主可控可期,国产半导体设备整体受益。受益于政策利好,半导体设备上市公司迎来机遇。以深圳证券交易所市场(以下简称“深市”)上市公司为例,同飞股份(300990)、凯美特气(002549)、奥普光电(002338)、新莱应材(300260...

中国自主研发光刻机:将突破5nm,找回中国半导体产业失去的30年

机关算尽一场空。美国人万万没想到,其在半导体行业,针对我国数年的科技封锁、贸易限制等一系列“卡脖子”战略,非但没有让我们屈服,反而激发中国科技自主研发进程。光刻机技术迅速崛起,7nm胜利在望,5nm也将获得突破,我们落后于世界半导体行业发展的30年,亦将一一补齐。

俄罗斯首台光刻机制造完成 自主技术突破局限

俄罗斯首台光刻机制造完成自主技术突破局限俄罗斯在“工业俄罗斯数字产业”会议中宣布,成功自主研发并制造了首台光刻机,正进行测试阶段。这台设备适用于350nm制程的芯片生产,有望服务于汽车、能源和电信等行业,成本约为4.95万美元。若此成就属实,俄罗斯将成为第五个完全掌握光刻技术的国家,也是在美国制裁压力下自主...

让中国光刻机成废铁?ASML官宣惊人决定,我国院士:放弃幻想

面对ASML的决定,中国采取了双管齐下的策略,一方面加快光刻机自主研发进程,另一方面积极探索与全球伙伴的合作机会,旨在构建更加多元和稳定的供应链体系。中国深知在光刻机领域实现自主可控的重要性。因此,政府和企业层面都加大了对光刻技术研发的投入,目标是在不远的将来能够生产出媲美EUV光刻机的国产设备。