大事件!国产EUV光刻机最新进展来了!

要说国产半导体产业中最让人“牵肠挂肚”的无疑就是光刻机了；终于国产EUV光刻机的最新进展来了。9月10日国家专利网站公布了上海微电子一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，专利申请日期为2023年3月9日，申请号为CN202310226636.7。据了解，此项专利主要解决的是极紫外光刻过程中锡碎屑污染收...

国产EUV光刻机,万众瞩目,成美国芯片禁令的破局点

一旦我们拥有了EUV光刻机，那么就意味着我们自己能够制造5nm及以下的芯片了，那么美国限制先进的芯片，设备等卖到中国来，就相当于自我放弃了中国这个最大的市场。如果我们研发不出EUV光刻机，而ASML的EUV光刻机我们买不到，就代表着我们就无法制造5nm及以下的芯片，那么我们就有求于美国，美国就能够一直用禁令来...

【电子】产业政策持续加码,国产光刻机任重道远——半导体行业跟踪...

根据观知海内信咨询,2020年全球光刻机市场规模为170.9亿美元,预计2024年将达315亿美元。ASML、Nikon和Canon三分天下,ASML垄断高端EUV光刻机市场,Nikon、Canon占据中低端市场。ASML龙头地位显著ASML在10纳米节点以下有100%的市占率,是全球唯一能够生产EUV光刻机(极紫外光刻机)的公司,龙头地位显著。ASML2023年营收2...

国产光刻机离浸润式DUV技术仅一步之遥,期待新突破

要理解国产光刻机的崛起，先要搞清楚光刻机的发展脉络。光刻机说白了，就是利用光把电路图刻在晶圆上的设备。按照光源的波长，光刻机技术被分为很多代：最早的G线、I线、到后来的KrF（248nm）、ArF（193nm）和最新的EUV（13.5nm）。在这些代际演进中，ASML牢牢占据着高端市场的头把交椅，EUV和浸润式DUV光...

28台,“中标”结果出炉!国产光刻设备又传来好消息

有消息传出,在本周杭州积海半导体新增设备招标89台、上海积塔新增设备招标7台以及华虹宏力、华虹半导体等企业的招标当中,中国光刻机制造企业累计中标了28台相关的设备,其中就包括了光刻机、蚀刻机以及一些其他的清洗设备、工艺检查设备等。国产光刻设备再度突破,新消息传出...

中国芯的好消息:EUV光刻机没有下一代,芯片工艺达到极限

近日,媒体报道称,台积电计划在1.6nm芯片工艺时,继续使用目前标准的EUV光刻机,也就是数值孔径=0.33NA的光刻机,而不是最新的HighNAEUV(www.e993.com)2024年12月19日。台积电说是因为其太贵了,一台要3.5亿欧元,接近30亿人民币,不划算。另外,也因为ASML的这种HighNAEUV产量有限,一年才几台,或10来台左右,已经被intel预订了大部分产能,...

绕开EUV光刻机:中国芯片产业开始破局,能实现“弯道超车”吗?

绕开EUV光刻机,是中国芯片产业面对外部封锁和限制的必然选择。虽然道路充满挑战和未知,但只要我们坚定信心、勇于创新、持续奋斗,就一定能够突破技术壁垒、实现自主可控、开创国产半导体产业的新篇章。正如人民日报所言:“抛弃一切幻想”,才有可能实现弯道超车!

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

9月9日,工业和信息化部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知:目录中的“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中,氟化氩光刻机的核心技术指标为:光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。有消息称,国产氟化氩光刻机的研发主要由中国的几家领先半导体设备制造商...

...超越半导体制造业标准界限,功耗比传统EUV光刻机降低90%【附...

日前,据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校的津守教授设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

起因,是9月9日国家工信部发布的一个通知:《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》。有人发现,《目录》里有2行,不对劲。很不对劲。看图。这两行,是什么意思?是连一个形容词都没有,就突然静悄悄地官宣了中国自己的新光刻机吗?