国产EUV光刻机,万众瞩目,成美国芯片禁令的破局点

对于芯片制造商而言，EUV光刻机是实现先进制程芯片生产的“钥匙”。它利用波长仅为13.5纳米的极紫外光来刻画电路图案，使得芯片上的晶体管数量可以进一步增加，同时减小了芯片尺寸和功耗。根据国际半导体技术路线图（ITRS），EUV光刻技术是未来7nm及以下节点的关键技术之一。目前，全球仅有荷兰ASML公司能够生产商用级别的...

大事件!国产EUV光刻机最新进展来了!

要说国产半导体产业中最让人“牵肠挂肚”的无疑就是光刻机了；终于国产EUV光刻机的最新进展来了。9月10日国家专利网站公布了上海微电子一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，专利申请日期为2023年3月9日，申请号为CN202310226636.7。据了解，此项专利主要解决的是极紫外光刻过程中锡碎屑污染收...

想要解决卡脖子的情况,发展国产EUV光刻机,有两个核心问题至今没有...

剩下的五成,就是解决EUV光刻机的供应链问题。供应链中,最难的地方就是光学镜头。光刻机的镜头,已经被德国蔡司完全垄断,而且一时半会儿找不到相匹配的供应商,这也是我们现在国产高端光刻机被卡脖子最严重的地方。只要解决了镜头的供应问题,那么我们在打造EUV光刻机上面,会轻松许多。往期经典回顾:10万+阅读...

中国芯的好消息:EUV光刻机没有下一代,芯片工艺达到极限

近日,媒体报道称,台积电计划在1.6nm芯片工艺时,继续使用目前标准的EUV光刻机,也就是数值孔径=0.33NA的光刻机,而不是最新的HighNAEUV。台积电说是因为其太贵了,一台要3.5亿欧元,接近30亿人民币,不划算。另外,也因为ASML的这种HighNAEUV产量有限,一年才几台,或10来台左右,已经被intel预订了大部分产能,...

28台,“中标”结果出炉!国产光刻设备又传来好消息

有消息传出,在本周杭州积海半导体新增设备招标89台、上海积塔新增设备招标7台以及华虹宏力、华虹半导体等企业的招标当中,中国光刻机制造企业累计中标了28台相关的设备,其中就包括了光刻机、蚀刻机以及一些其他的清洗设备、工艺检查设备等。国产光刻设备再度突破,新消息传出...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机(www.e993.com)2024年12月18日。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘

2024年9月9日,工信部印发了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》通知,在文件列表中包含国产氟化氪(KrF)光刻机,和氟化氩(ArF)光刻机的内容。9月10日,SMEE(上海微电子)公开一项关于极紫外(EUV)辐射发生装置及光刻设备的新专利。今年以来,以国产光刻机为代表的国产先进半导体前道设备消息频发,其产业...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

01国产光刻机官宣后,国外网友沸腾,而美国荷兰却沉默,原因可能是国产光刻机技术突破尚未触及ASML的核心利益。02ASML在高端EUV光刻机上的护城河很深,28nm距离威胁到它的地位还很远。03然而,美荷可能还在等待华为Mate70的发布,以更好地看清国产光刻机的发展情况。

国产光刻机解决0到1,更先进的光刻机有了希望,ASML慌了

国产光刻机取得的进展,对于全球最大光刻机企业ASML来说当然不是好消息,随着芯片制造逐渐接近瓶颈,光刻机的市场越来越小了,这已让ASML感到担忧。2019年ASML量产了EUV光刻机,随后几年ASML的EUV光刻机迅速满足了三星、台积电和Intel的需求,EUV光刻机的需求就迅速下降,曾经是ASML最大客户的台积电,台积电早已停止采购...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!

据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞线)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氩)、ArFi(浸润式氟化氩)、EUV(极紫外)五大类。此次入选推广目录的氟化氩光刻机,应属于干式ArF光刻机。在具体指标上,与ASML旗下TWINSCANNXT:1470以及TWINSCANXT:1460K类似。