一个零件6000万!国产光刻机核心部件终被攻破!外媒:第二个ASML

光刻机技术的发展过程可以追溯到20世纪60年代，最初的光刻机只是能够将芯片上电路图形从硅片一侧投射到另一侧的设备。然而随着科技的不断进步，光刻机的技术也在不断迭代升级。核心部件—光刻机镜头，经历了从最初的1倍到现今的13.5nm光刻机镜头的革命性变化，其中的技术难度可想而知。公认的公认的最高光刻机...

大事件!国产EUV光刻机最新进展来了!

要说国产半导体产业中最让人“牵肠挂肚”的无疑就是光刻机了；终于国产EUV光刻机的最新进展来了。9月10日国家专利网站公布了上海微电子一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，专利申请日期为2023年3月9日，申请号为CN202310226636.7。据了解，此项专利主要解决的是极紫外光刻过程中锡碎屑污染收...

光刻机龙头,全面国产替代,主力持仓上百亿,有望大涨500%!

又称光刻对准曝光机或掩模对准曝光机,是光刻工艺乃至整个芯片制造过程中的核心设备。光刻机的工作原理是利用光刻技术,采用类似照片冲印的技术,将电子器件的图形图案转移到半导体材料或薄膜上,以制造集成电路(IC)和其他微纳米器件。消息面上,2026年,中国科技领域迎来了具有重大历史意义的突破,光刻机实现全流程国产化...

国产光刻机突围!上海国产光刻机在国内产线上实际应用情况

最近，一条新闻引爆了科技圈：由上海微电子制造的600系列光刻机已经在国内实现了90nm工艺的批量生产，这意味着我国的光刻机技术终于取得了一个“里程碑”式的进步。要知道，90nm工艺这个节点并不简单，它标志着中国光刻机从落后多年的状态中猛然迎头赶上，打破了国际技术的天花板。不仅仅是上海微电子，工信部发布的...

国产光刻机终于来了!官方已正式发消息,不过

最近呀,工业和信息化部公布的《2024版重大技术装备推广应用指导目录》里,氟化氩光刻机的那些具体技术指标特别显眼地在那儿呢,这消息一下子就在国际上掀起了好多波澜。这不但意味着中国在低端光刻机这块已经完成了国产化的大跨越,还能看出中国有批量生产28纳米以及更厉中国在高科技这一块儿呀,这些年一直在努力找...

28台,“中标”结果出炉!国产光刻设备又传来好消息

有消息传出,在本周杭州积海半导体新增设备招标89台、上海积塔新增设备招标7台以及华虹宏力、华虹半导体等企业的招标当中,中国光刻机制造企业累计中标了28台相关的设备,其中就包括了光刻机、蚀刻机以及一些其他的清洗设备、工艺检查设备等(www.e993.com)2024年12月19日。国产光刻设备再度突破,新消息传出...

光刻机唯一低估大龙头,研发出第一只国产ArF光刻胶,已被错杀80%

而截至今天收盘时,光刻机板块的平均涨幅达到了4.1%,这说明这个板块是今天的热点。所以今天翻译官将深入分析一家光刻机板块中唯一的大龙头,它就是南大光电。这家企业是从事先进电子材料研发、生产和销售的高新技术企业,产品广泛应用于集成电路、平板显示,第三代半导体、光伏和半导体激光器的制造。

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

上海微电子装备(集团)股份有限公司曾完成国内首台氟化氩(ArF)光刻机研制,并实现产品流片。并且早在2023年初,市场就有传言上海微电子已经开始着手第二代浸没式光刻机的研发。近日,荷兰政府表示将扩大光刻机出口管制范围。荷兰将与美国的管制要求“对齐”,两款中端浸没式DUV光刻机要对外出口(NXT:1970i和NXT:1980...

国产光刻机重大突破 工信部印发推广指导

目前来说,光刻机共经历了六代的发展,从最早的436nm波长,再到第二代光刻机开始使用波长365nmi-line,第三代则是248nm的KrF激光,第四代就是193nm波长的ArF光刻机,属于干式DUV光刻机。第五代是ArFi,即浸没式DUV光刻机。第六代指的是极紫外EUV光刻机。

重大“芯”突破!国产DUV光刻机问世,相关概念股集体大涨

目前来说,光刻机共经历了五代的发展,从最早的436nm波长,再到第二代光刻机开始使用波长365nmi-line,第三代则是248nm的KrF激光,第四代就是193nm波长的ArF光刻机,属于干式DUV光刻机。根据信息,其中ArF(氟化氩)光刻机,光源为193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。