中国自研光刻机亮相!三大厂商慌忙下调预期

全球现在主要就是四家光刻机厂商，荷兰的ASML，日本的尼康和佳能，还有咱们国内的上海微电子。但是呢，这四家里头，荷兰的ASML是老大，占了全球八成多的市场份额。尼康和佳能两家分了剩下的近一成半。至于咱们国内的上海微电子嘛，它的市场份额基本可以忽略不计。技术差距导致市场份额不均为啥份额这么不平均呢？...

光刻机巨头阿斯麦业绩暴跌,掐别人脖子,怎么自己翻白眼了?

阿斯麦只是开始,最近国内才关注到韩国的三星似乎也遇到了问题。其实三星股价已经跌了一段时间了。阿斯麦的问题其实是显而易见的,最主要的就是跟随美国制裁中国造成的。本来中国市场属于光刻机新兴市场,也是目前唯一一个有可能继续扩大需求的市场了。然后制裁了,不让卖给中国,全世界所有发达国家人就加起来也就十几亿,...

纳米光刻机龙头 国产光刻机厂家

纳米光刻机龙头国产光刻机厂家纳米光刻机，尤其是高端纳米光刻机（如极紫外光EUV光刻机）的市场，目前呈现出明显的寡头垄断格局。在全球范围内，荷兰的ASML公司（AdvancedSemiconductorMaterialsLithography）是这一领域的领军企业，其生产的EUV光刻机被认为是当前最高端的光刻设备，广泛应用于14纳米及以下制程的...

官宣!一家国产光刻机工厂落地,可生产100台设备

董事长说了,他们既能根据市场需求研发国产光刻机,又能对国外的光刻机进行个性化改造和调试,技术覆盖了ASML、尼康、佳能这些大牌的部分型号。听起来挺厉害的,但咱们得细品,这“国产”光刻机,其实是基于国外设备的二次创作,有点像是买了辆二手车回来改装和调试。这就引出了几个问题。首先,这改造过的光刻机能...

双光束超分辨光刻技术的发展和未来

EUV光刻机的制造极限及高昂造价光刻机能够实现的精度和分辨率决定芯片制造的质量和性能。随着芯片的单位存储密度的提升,对光刻机的光源要求越来越高,随着所用光源改进和工艺创新,光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。光刻机的技术迭代历程及分辨率的变化如表1所示。

堪比光刻机的冷冻电镜,采购量年年提升,何时才能国产化?

回到冷冻电镜,它和光刻机一样,国外的产品经过几十年的技术积累才发展至此,如果急于在高端电镜领域竞争,以国内现有的技术积累,条件并不成熟(www.e993.com)2024年11月10日。冷冻电镜设备或技术的研发涉及材料、光学、生物、计算科学、半导体、系统集成和先进制造等多个技术领域,加之冷冻电镜在过去很长一段时间都是一个相对小众的领域,我国缺乏对相关...

激光外差干涉技术在光刻机中的应用

导读:基于激光外差干涉技术的超精密位移测量系统具备亚纳米级分辨率、纳米级精度、米级量程和数米每秒的测量速度等优点,是目前唯一能满足光刻机要求的位移测量系统。激光外差干涉技术在光刻机中的应用张志平*,杨晓峰复旦大学工程与应用技术研究院上海市超精密运动控制与检测工程研究中心,上海201203...

柔弱的雕刻大师——EUV光刻机

(Ps:目前的5nm、3nm之类工艺名称,更多的是厂家宣传,已经没有实际的物理意义,实际的精度还是会比5nm、3nm要粗糙不少)既然是利用极紫外光的光刻机第一步自然是如何生成极紫外光线了,目前有四种方式可以获得极紫外光,分别是:同步辐射光源、自由电子激光、放电生成等离子体和激光产生等离子体。

我国现有的光刻机技术在国际上处于什么水平?

一般来说,最常见的封装生产厂家是高通、qorvo、德州仪器、华为海思等,传统封装厂商则如富士康等,经过多年研发,都积累了大量的微小封装器件和逻辑fpc基板的生产工艺和仪器设备和高精度生产线,这些可以规模化生产这些微小封装微缩模块所用的光刻胶。

什么是EUV光刻机?为什么大家都在追求它?

接下来ASML在2006年推出了EUV光刻机的原型,2007年建造了10000平方米的无尘工作室,在2010年造出了第一台研发用样机NXE3100,到了2015年终于造出了可量产的样机,而在这研发过程中,Intel、三星、台积电这些半导体大厂的输血是绝对不少的。作为全球唯一一家能EUV光刻机的厂家,ASML自然获得了大量的订单,截止至2019年第...