首台纳米压印光刻机,佳能出货了

首台纳米压印光刻机,佳能出货了佳能宣布,向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻NIL系统FPA-1200NZ2C。本文引用地址:这台纳米压印光刻机将交付给德克萨斯电子研究所,该研究所是德克萨斯大学奥斯汀分校支持的联盟,成员包括英特尔和其他芯片公司以及公共部门和学...

国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

在当前全球科技竞争态势日益升温的背景下，芯片产业的自我突破显得尤为重要。2024年很可能成为中国芯片发展的一个重要转折点。随着国内在5纳米光刻机领域取得显著进展，尤其是在RISC-V架构的崛起下，中国正在重塑芯片产业的格局。在经济命脉和国家安全的双重考量下，这是一场不容忽视的技术革命。光刻机，这个芯片制造过...

光刻机:国产光刻机迎重大突破,光刻机核心龙头一览(名单)!

公司用于集成电路等离子蚀刻的高纯六氟乙烷是国内首家，用于光刻机的光刻气系列产品都是国内首家，市占率都大于50%。公司的光刻气产品包括A/F/Ne、G/e、Ar/Ne和K/任F/Ne混合气等，4种光刻气均为国内唯一供应商﹐通过全球最大的光刻机公司ASML产品认证。

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

全球光刻机龙头企业荷兰ASML,几乎垄断了最先进的光刻机生产,并依赖多个国家的技术合作。这意味着,对于其他国家来说,单凭一国之力很难打破技术垄断。面对这种全球性封锁,中国的芯片行业长期受制于设备短缺的困境。尤其是在2018年美国开始对华实施技术禁运后,光刻机成为中国芯片产业最大的“卡脖子”难题。没有...

稳了,国内193nm的DUV光刻机,也能制造5nm芯片

但是,在没有EUV光刻机的前提之下,利用这种193nm的浸润式DUV,确实是可以生产5nm的芯片出来的。不过,虽然技术是这样,但我认为,我们没有必要强上5nm而5nm,就只制造7nm也蛮好的,因为7nm和5nm相比,性能并不会有实际性的大提升,7nm也够用的情况下,强行上马5nm并无商业意义,你觉得呢?

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米(www.e993.com)2024年11月22日。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

需强调的是,上述套刻精度标准是基于单次曝光而言。实际情况中,阿斯麦跳过了65纳米光刻机直接进入浸没式技术,用于32纳米、28纳米芯片的大规模生产。不过,历史资料显示,该公司曾探索使用数值孔径为0.93的65纳米干式光刻机,通过双重曝光技术实现40纳米分辨率,这在2006年的IEEE会议上有论文记载。

厉害了!俄罗斯首台光刻机制造完成,可生产350纳米工艺的芯片

目前,我国可以生产7纳米芯片,但仍有很多人指出远远落后于欧美国家。其实,14纳米的芯片可以满足70%的生产需要。更高端的5纳米目前绝大部分用于手机和其他对体积要求较高的移动智能设备!如今,俄罗斯生产出首台350纳米光刻机,就感到非常满足和自豪。因为这样可以满足他们最重要的能源和电信行业的需求。

今年5nm,2026年2nm,光刻机迎来搅局者,日本终于要量产了

日本光刻机厂商佳能近年来在NIL(纳米压印技术)领域取得了显著进展。经过几年的研发与合作,佳能与SK海力士共同推出了用于存储芯片的NIL纳米压印机,并在不久前发布了可用于5nm芯片制造的全新纳米压印半导体设备FPA-1200NZ2C。这一创新技术不仅为芯片制造领域带来了新的可能性,更对传统EUV光刻机市场构成了挑战。

纳米压印能否打破EUV光刻机垄断?佳能需要先兑现今年量产的诺言

来自荷兰的ASML一家公司就占据了全球八成以上的市场份额,其生产的光刻机当下常常一机难求,于是探索另一种技术路线、寻找替代性方案成为了行业公司自然而然的选择。佳能就是其中的代表。这家日本相机巨头花二十年时间研发与ASML光刻路线不同的纳米压印技术,今年年初终于传出重要成果。