中国自研光刻机亮相!三大厂商慌忙下调预期

全球现在主要就是四家光刻机厂商，荷兰的ASML，日本的尼康和佳能，还有咱们国内的上海微电子。但是呢，这四家里头，荷兰的ASML是老大，占了全球八成多的市场份额。尼康和佳能两家分了剩下的近一成半。至于咱们国内的上海微电子嘛，它的市场份额基本可以忽略不计。技术差距导致市场份额不均为啥份额这么不平均呢？...

德国光刻机suss 观察光刻机厂家

SUSS光刻机是德国SUSSMicroTec公司生产的一系列高精度光刻设备，广泛应用于半导体制造、微纳加工、光电子等领域。以下是对SUSS光刻机的详细介绍：一、产品系列与特点MJB4系列特点：MJB4是广受欢迎的手动光刻机MJB3的全新换代产品，操作方便，占地面积小，是实验室研究和小批量生产的理想设备。它针对直径达100mm的...

纳米光刻机龙头 国产光刻机厂家

日本佳能（Canon）和尼康（Nikon）：这两家公司是全球知名的光学设备制造商，也生产光刻机。它们的光刻机主要应用于20纳米至160纳米制程的芯片制造，与ASML的产品形成互补。尽管在EUV光刻机方面不及ASML，但在传统光刻机市场上仍占据重要地位。中国本土企业：近年来，中国在光刻机领域也取得了显著进展，一些本土企业...

双光束超分辨光刻技术的发展和未来

第3代扫描投影式光刻机(KrF)是一种基于投影方式的光刻机,采用248nm的KrF准分子激光光源,工作原理是使用一个透镜将掩模上的微观图案投射到光刻胶上,通过对光的控制和透镜的移动,可以形成所需的微观结构。第3代扫描投影式光刻机相对于第2代接近式光刻机,可以使用更高质量的透镜和更精细的光控制技术,把光刻技...

堪比光刻机的冷冻电镜,采购量年年提升,何时才能国产化?

回到冷冻电镜,它和光刻机一样,国外的产品经过几十年的技术积累才发展至此,如果急于在高端电镜领域竞争,以国内现有的技术积累,条件并不成熟。冷冻电镜设备或技术的研发涉及材料、光学、生物、计算科学、半导体、系统集成和先进制造等多个技术领域,加之冷冻电镜在过去很长一段时间都是一个相对小众的领域,我国缺乏对相关...

柔弱的雕刻大师——EUV光刻机

荷兰ASML的EUV光刻机众所周知,既然要“雕刻”,那影响雕刻精细程度的因素除了匠人的技艺,最重要的就是刀刃的大小了,而光刻机这种以光为刀的设备,其发展方向便是追求更极致的“刀刃”的大小(www.e993.com)2024年11月5日。那么,对于光来说,刀刃的大小,自然就是光的波长。从第一代和第二代光刻机,其使用光源分别为436nm的g-line和365nm...

中国离造最先进的光刻机还有多远?(二)镜头差距分析

因为国内目前还没能提供相应水平的镜头,上微电子600系列的光刻机镜头应该是国外采购,目前全球能够生产此镜头厂家有德国蔡司和日本尼康,蔡司在中国设有半导体制造技术业务部门,上微电子采用蔡司镜头可能性较大。|03国家02专项攻关进展长春国科精密承担了中国02项目中的光学系统,2018年长春国科精密光学系统通过了...

资本壁垒迅速提升,先进制程成为晶圆制造的分水岭

摩尔定律引领半导体产业,实现产业持续升级需要贯穿整条产业链,包括上游(设备如光刻机厂商ASML)、晶圆制造(台积电、英特尔、三星)以及下游(IC设计如苹果、AMD、海思、高通、联发科等)等环节的厂商协同。光刻机从DUV到浸入式DUV,再升级成EUV,成为推进摩尔定律的重要环节。根据ASML预测,晶圆代工领域节点会持续升级;内存...

晶圆代工行业专题报告:制造业的桂冠,制程追赶者的黎明

摩尔定律引领半导体产业,实现产业持续升级需要贯穿整条产业链,包括上游(设备如光刻机厂商ASML)、晶圆制造(台积电、英特尔、三星)以及下游(IC设计如苹果、AMD、海思、高通、联发科等)等环节的厂商协同。光刻机从DUV到浸入式DUV,再升级成EUV,成为推进摩尔定律的重要环节。根据ASML预测,晶圆代工领域节点...

...组件及光学设计、光学系统方案,主要为设备及整机、仪器厂家...

公司部分激光光学产品经设备厂家集成后可用于智能手机及其部件的加工制造环节,公司暂不掌握具体终端产品的信息。感谢您对公司的关注!投资者:董秘您好,近期荷兰宣布加大光刻机出口限制,对国产光刻机替代带来一定机遇,贵司是否有产品或技术能给国产光刻机提供支持?波长光电董秘:您好!类似的问题已回复,请您参考相关回复...