华林科纳新一代槽式一体机——湿法刻蚀清洗一体机
一、工作原理湿法刻蚀:在将产品放入槽内后,槽盖密封关上,体内开始进行抽真空模式同时超声波开启,此方式利用超声波清洗在一定真空度下优质的空穴效应,增强化学蚀刻溶液与被蚀刻物体表面发生化学反应,排除工件表面和孔隙中的空气,从而有效的剥离或去除部分杂质或材料。DIW清洗:在刻蚀完成后,酸液回收冷却,槽内依然在一...
晶圆制造刻蚀工艺面试常见问题
请解释刻蚀工艺的基本原理以及在半导体制造中的重要性。在选择刻蚀工艺时,如何确定是使用干法刻蚀还是湿法刻蚀?请描述RIE(反应离子刻蚀)工艺的工作原理和应用场景。什么是选择性刻蚀,如何在实际工艺中实现高选择性?在刻蚀工艺中,如何控制侧壁的形貌以避免倒锥形或梯形剖面?等离子体刻蚀中的“异向性”和“各向同...
英国纽卡斯尔大学工程学院高级研究员新著!《碳化硅器件工艺核心...
第8章可作为SiC干法刻蚀的综合指南。它的第一部分解释了为什么含氟试剂主要用于SiC刻蚀,讨论了工艺中添加其他气体的影响及其可能的刻蚀机制。第二部分致力于通过各种等离子体参数控制刻蚀速率。第三部分涉及与刻蚀表面形貌有关的问题。硬掩模材料,尤其是它们对SiC的选择性是第四部分的主题。在后续部分,讨论了等离子体刻...
详解刻蚀清洗机的结构和工作原理
其工作原理是先从该槽体上部喷淋以及底部注入去离子水,等到一定量后在把去离子水快速排空。通过把去离子水快速排走带走杂质离子。这一过程一般要反复进行3-4个循环。其工作原理如图1所示。▲图1QDR槽清洗原理图超声槽是指利用槽体底部或侧面超声发出振板产生超声波,超声波,超声波在水中或溶液中生成...
光伏设备行业研究:从原理端看光伏电池技术发展
其工作基本原理与普通太阳能电池相同,都是利用PN结的原理产生光生电流,不同的是HJT电池的发射级是一层非常薄的非晶硅层,然而由于非晶硅本身的特性以及晶格失配产生的缺陷,使得产生的载流子在接触表面附近很容易复合,因此要在晶体硅和非晶硅之间添加一层本征非晶硅薄层来减小载流子的复合。
蚀刻机和光刻机有什么区别,原理有什么不一样
刻蚀机和光刻机的区别:光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分(www.e993.com)2024年10月19日。刻蚀相对光刻要容易。如果把在硅晶体上的施工比成木匠活的话,光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线,刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。蚀刻机和光刻机...
端面泵浦系列激光打标机的原理
端面泵浦系列激光打标机的原理端面泵浦激光器,泵浦光由晶体端面射入晶体,优点是高效率、长寿命、光束质量高、稳定性好、结构紧凑小型化的第二代新型固体激光器。1端泵红光泵浦源:半导体激光模组,工作介质YAG/Nd:YVO4,波长808nm,输出激光1064nm泵绿光...
科普|半导体刻蚀设备国产化
刻蚀原理及分类刻蚀是用化学、物理或两者结合的方法有选择地去除没有被抗蚀剂掩蔽的薄膜层,从而将图形从光刻胶转移到待刻蚀的薄膜上。按照工艺划分,刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀,由于湿法刻蚀在小尺寸及复杂结构应用中的局限性,当前市场应用以干法刻蚀为主,市占率高达90%以上。湿法刻蚀是用液体化学剂去除衬底表面的...
制绒、扩散、后清洗(刻蚀/去PSG)工艺与异常处理
可能出现过刻或刻蚀不足的情况,一般不超过2mm,通过肉眼观察,也可通过冷热探针测量边缘电压来判断是否刻通。刻蚀不足:一般首先通过调节参数保证腐蚀深度在工艺控制范围内即可。检验方法冷热探针法检验原理热探针和N型半导体接触时,传导电子将流向温度较低的区域,使得热探针处电子缺少,因而其电势相对于同一材料上的...
等离子清洗机具备刻蚀活化清洗等作用,可提升产品附着力。
(1)材料表面的刻蚀-物理作用:等离子体中的大量离子.激发态分子.自由基和其他活性粒子作用于固体样品表面,等离子清洗技术不仅可以去除表面原有的污染物和杂质,而且产生腐蚀作用,使样品表面粗糙,提高固体表面的润湿性能。(2)激活键能,交联功能:等离子体作用于固体表面后,固体表面的原化学键可以断裂,等离子体中的自由基...