消息称三星将于2025年初从ASML引进High-NA EUV光刻机

据报道援引消息人士称,三星电子将从ASML引进首台High-NAEUV光刻机EXE:5000,预计2025年初到货。半导体设备安装通常需要较长测试时间,该光刻机预计最快2025年中旬开始运行。High-NAEUV为2纳米以下先进制程所需设备,韩国业界预期,三星也将正式启动1纳米芯片的商用化进程。

7nm光刻机研发成功 挣脱美国的「枷锁」

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-ab71dd7e2c230e78f6ce8255eaac29917nm光刻机研发成功挣脱美国的「枷锁」2024-10-0523:09发布于浙江|1万观看7371220手机看锌财经粉丝2.1万|关注4+关注...

中国首台芯片光刻机成功交付,振奋人心的重大进展!

这台光刻机的成功研发，凝聚了无数科研人员的心血。有报道称，为了攻克某个技术难题，有科研人员连续工作72小时不眠不休。这种艰苦奋斗的精神，正是我国科技发展的强大动力。光刻机的突破，带动了整个芯片产业链的发展。光刻胶是光刻机不可或缺的配套材料。随着光刻机技术的进步，国产光刻胶也取得了长足发展。据...

西方计谋受挫:中国宣布研发成功氟化氩光刻机

1.**技术自给自足**：通过设定高标准的技术指标，中国旨在促进国内企业在氟化氩光刻机等高端设备领域的研发和生产，减少对外部进口的依赖，实现关键核心技术的自主可控。2.**市场竞争加剧**：中国市场的开放和需求增长，为本土企业提供了更多的发展机会，同时也对国际供应商提出了更高要求，促使他们在价格、交付...

美国破防!荷兰气愤!美荷两国强烈批评中国独立研发光刻机成功了

2018年以来欧美对我国发动数轮科技大战,特别是对芯片产业和光刻机不断出台更加严格的限售措施。随着我国光刻机研发的不断突破,美国破防!荷兰气愤!美荷两国强烈批评中国独立研发光刻机成功了

制造光刻机40年,ASML成功的秘密

这次合作和SVG的交易为ASML的EUV研发奠定了基础(www.e993.com)2024年11月1日。由于EUV光无法穿过任何物体,光刻机中所有的透镜都要换成反射镜,而且只能在真空环境下运行。ASML和蔡司为此花巨资建立了全球最大的真空腔体实验室,模拟真空环境下可能出现的问题。反射镜片的制造工艺也非常复杂,需要使用镀膜工艺,将不同的材料堆叠数十个...

媒体曝国产DUV光刻机成功研发,这意味着什么

氟化氩光刻机的研发成功,确实为我国半导体产业带来了新的希望,但要彻底打破制裁的技术瓶颈,依然面临诸多挑战。目前,全球顶尖的光刻机市场仍然由ASML等少数几家公司垄断,特别是在更先进的EUV光刻机领域,国内技术与国际领先水平尚有明显差距。即使是在氟化氩光刻机领域,如何进一步提升设备的稳定性、产能和良率,也是我国...

国产光刻机官宣成功 产业链这些上市公司迎来机遇

工信部的一份文件,将国产光刻机研发再度推入公众的视线。尽管上证指数在过去一周承压,但A股的光刻机板块上涨了近5%,成为近期表现比较亮眼的一个板块。仅9月18日当天,光刻机概念板块就上涨了5.35%,领涨A股所有概念板块。个股方面,同飞股份、波长光电录得20%的涨幅,新莱应材、蓝英装备、海立股份等股价均涨逾9%。

国产DUV光刻机研制成功,各国反应:荷兰气愤,韩国美国意外

近日,中国工业和信息化部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》,其中包括“氟化氩光刻机”,这项突破标志着中国在DUV(深紫外)光刻机研发领域取得了显著进展,表明中国半导体全产业链国产化迈出了关键一步。随着这一核心设备的研制成功,全球半导体技术强国如美国、荷兰、日本和韩国的反应十分引人注目。

中国自主研发光刻机成功,美荷日韩一致反对:这违反了我们的规矩

美国、荷兰、日本及韩国之所以一致反对中国自主研发光刻机，其根本原因在于他们担忧中国会建立起自己的半导体供应链，从而摆脱他们对中国的“卡脖子”限制，甚至在某些方面，中国还可能反过来对其实施制裁。不得不承认，美荷日韩的制裁行为虽然给中国带来了痛苦，但同时也警醒了中国。他们使我们深刻认识到，唯有掌握在自己...