中国院士谈论光刻机:中国曾有光刻机,但国外的好,就买国外的了

在这种恶性循环中，国外的芯片产业和光刻机设备发展迅速，在产品性能和成本上占据越来越大的优势。实际上，购买外国制造的设备所需的资金，往往比自己研发设备要更加节省。此外，国际设备已经在市场上得到了验证，其质量和效果均可考量。而我们的设备虽然已完成研发，但仍需进行测试；如果测试不合格，还需查找问题并解...

印度媒体称中国光刻机为20年前技术,引发国际网友热议嘲讽

光刻机的工作原理类似于一种“高科技版的印刷机”。其主要任务是将电路图形“印”在芯片的硅晶片上，利用光的作用将电路“刻蚀”出来。这种设备对芯片的性能有着决定性的影响，光刻机能实现的刻蚀精度越高，芯片的性能就越出色。在半导体行业中，“制程”是一个非常重要的概念，它用来描述光刻机的刻蚀精度，通常...

中国首台光刻机成功量产,喜讯传来!

反观美国的态度，从一开始的强硬到现在的无奈，已经显示出他们对中国科技发展的无可奈何。当看到中国研制光刻机取得如此突破时，美国一开始的超然与自信已经被现实打了脸。从曾经的高高在上，到如今不得不重新评估中国的科技实力，进而试图在舆论上进行掩饰和解脱。科技战的背后，恰恰体现了国际关系的复杂性与微妙之处...

ASML可远程锁死光刻机,我国如何关上半导体制造“后门”

产率是光刻机的核心指标,其中,分辨率直接决定制程,极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求,是光刻机最重要的指标,而套刻精度影响良率,产率影响光刻机的产能及经济性,此外,多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程,应用较为广泛。

中科院中紫外光刻设备研制成功,国产光刻机有望突破

该设备的成功研制,是光刻设备研发与光刻工艺应用结合的产物,将促进光刻工艺的革命性改进,符合国际光刻设备研究发展趋势,也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。EUV光刻机,摩尔定律的拯救者关于EUV技术可以溯源到20世纪70年代,那时候业界刚好开发出X光光刻,那是一种依赖于大型同步回旋加速器的技术。但由于X光光...

中科院、上微自主研制成功新型光刻机 有望局部实现国产化替代

日前,中科院光电技术研究所自主研制成功紫外纳米压印光刻机(www.e993.com)2024年11月1日。与此同时,上海微电子也发布了平板显示光刻机,产品良率高达95%(原本的良率为70%-80%)的高亮度LED光刻机,MEMS和功率器件光刻机。虽然媒体仅仅轻描淡写报道,但这些消息却蕴含着不同寻常的意义。

1977年中国已成功研制光刻机,有时间优势为何没成为垄断巨头

也因为国内政策等等因素搁置了对于光刻机的研发,再加上技术积累薄弱等等原因,导致目前我国最先进的光刻设备也只能提供90nm的工艺技术。而这一产品从指标来看,基本上也只是和ASML的低端产品PAS5500系列属于同一档次。在历史的长河里,我们用舍去芯片的代价争取了宝贵的时间,换回了世界顶级的计算力基础设施——云计算。

重大突破:中国成功研制超强光刻机,可加工10纳米级芯片

而购买不到、自己又没能力制造顶级光刻机,是一直以来我国芯片技术无法突破的重要原因!所以,中国此台拥有完全知识产权、技术领先的光刻机的问世,加之随后的技术升级,将完全改变世界光刻产业、芯片产业的版图,可谓意义非常重大!特别是中国的光刻技术完全不同于欧美日路线,伴随着持续研发,或许我国将在这一领域实现弯道...

我国光刻机研制起了个大早,却赶了个晚集!

进入21世纪后,由于海外人才的回归及国家层面开始对半导体产业予以重视的原因,我国的半导体产业步入了发展的快车道。但是由于基础研究欠账太多、配套产业技术水平较低、人才不足等诸多因素的影响,直到2007年我国第一台90nm光刻机才由上海微电子研制成功,预计明年我国第一台28nm光刻机才能交付使用,但与荷兰ASML的EUV光刻机...

中科院宣布自主研发光刻机,摆脱被“卡脖子”的命运,荷兰光刻机...

很大一个原因就在于他们在光刻机研究方面,确实掌握了世界上最先进的技术,虽然上海微电子已经有丰富的实战经验,但上海微电子与荷兰ASML还有着很大的差距,有人甚至说其中的差距起码相差了20年!面对荷兰光刻机高管的挑衅,任正非也直言:目前不只是中科院,包括我们华为在内的国内一流企业,对于芯片研发的掌握技术确实跟人...