东威科技取得驱动装置、配合结构及磁控溅射双面镀膜系统专利,便于...
利用第一驱动件和第二驱动件分别通过驱动第一转移件和第二转移件进入或者退出镀膜腔,以带动溅射磁极结构和镀膜辊结构进入或者退出镀膜腔,在溅射磁极结构中的阴极靶材使用结束后,利用第一驱动件驱动第一转移件带动溅射磁极结构退出镀膜腔,以对阴极靶材进行更换,更换过程是在退出镀膜腔后以外的工作空间,操作更换阴极...
玻璃基板电极层镀膜核心技术---高性能溅射靶材
中商情报网讯:溅射靶材是指通过磁控溅射等镀膜系统在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域,是国家重点支持和鼓励发展的行业。根据中商产业研究院的数据,2016-2023年,全球溅射靶材市场规模从113亿美元上升至258亿...
2024成都国际靶材产品及镀膜工业展览会
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机可以在高真空或低真空条件下,将各种金属、非金属材料通过物理或化学的方法,将材料沉积或溅射到基...
博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗-博远微纳-新品
靶头:双靶靶材尺寸:直径50mm×厚3mm(因靶材材质不同厚度有所不同)靶材料:标配一块直径50mm×3mm的铜靶及直径50mm×3mm的铝靶靶枪冷却方式:水冷极限真空度:5×10-5Pa(10分钟可到5×10-3Pa)电源:直流恒流电源:输入电压:220V输出电压:0-600v输出电流:0-1.6A射频电源和匹配器:功率500W。...
东威科技取得磁控溅射双面镀膜系统专利,提高镀膜操作的便捷性
金融界2023年11月30日消息,据国家知识产权局公告,昆山东威科技股份有限公司取得一项名为“一种磁控溅射双面镀膜系统“,授权公告号CN220099166U,申请日期为2023年6月。专利摘要显示,该
宝来利蒸发镀膜和溅射镀膜分析
真空镀膜设备镀膜技术大方向来分有三种,蒸发镀膜技术,离子镀膜技术,磁控溅射镀膜设备,每种镀膜技术都有各自的优缺点,镀制不同的基材,不同的靶材,选择的镀膜技术是不相同的(www.e993.com)2024年10月23日。电阻蒸发镀膜技术采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术,一般用于蒸发低熔点材料,如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等;加热电阻一般采用...
2024年中国溅射靶材行业市场现状及未来发展前景
中商情报网讯:溅射靶材是指通过磁控溅射等镀膜系统在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域,是国家重点支持和鼓励发展的行业。一、溅射靶材行业概况
曼恩斯特获得实用新型专利授权:“一种可调节的阳极装置和磁控溅射...
镀膜腔体的内侧壁设有用于对基板进行磁控溅射的靶材,阳极装置包括:两组阳极组件,分别位于靶材的两侧并沿水平方向滑动连接在镀膜腔体内,且阳极组件位于靶材和基板之间;驱动组件,设置在镀膜腔体上,且输出端与阳极组件连接,适于驱动阳极组件沿水平方向滑动,解决了现有的辅助阳极装置的调整方式较为繁琐,操作难度较大,调整...
中金:玻璃基板新材料,孕育TGV设备需求|玻璃通孔技术研究进展_新浪...
磁控溅射:提高靶材利用率在电镀之前,种子层需要先经过溅射形成镀膜。根据HarborSemi,溅射镀膜主要是在靶材表面形成等离子体,并且利用等离子体中荷能粒子轰击靶表面,使被溅射出来的粒子在基体表面形成镀层,即利用溅射现象而成膜的方法。近年来,磁控溅射技术在增加金属电离、提高靶材利用率、提高沉积速率和避免反应溅射中...
日久光电2023年年度董事会经营评述
从全球市场来看,日东电工ITO导电膜的市场占有率约37%,日久光电的市场占有率约为30%。结合湿法精密涂布、精密贴合、真空磁控溅射镀膜三项核心技术,公司不断加大研发投入,从单一产品结构逐渐发展成包含导电膜产品、光学膜产品、光学胶产品、配套原材料产品的多元化业务结构。