小米的3nm和燕东微用的光刻机

最近一则消息沸沸扬扬,北京电视台在一次例行的新闻播报中,称小米自研了3nm的手机芯片。开香槟的和冷嘲热讽的皆有之,后者居多。华为的麒麟系列复出时,也是各种唱衰。最近又有媒体称昇腾芯片是通过其他公司从台积电代工的,这个消息比较离谱,因为一方面台积电的客户信息几乎是实时报告的,另一方面ASML的高端光刻机都是...

中美科技圈传出消息,美国芯片战要输,2款国产光刻机问世

同样的道理，中国想要在光刻机这部分达到今天的成就少说也要十年。可也正是因为美国唆使荷兰阿斯麦公司不把高端光刻机出售给中国，这也可以说是帮了中国的大忙。前几天我还在和一个科技圈的朋友谈到了国产光刻机的进度，他说：“套刻是多次曝光，相当于相机光学分辨率不够软件插值来凑，但已经很棒了”。所以，中...

A股:光刻机技术革命:国产替代,打破技术封锁,迈向自主可控!

光刻机在芯片制造过程中起着至关重要的作用,是半导体产业核心战略产品。为阻止中国的科技发展,荷兰政府多次颁布光刻机出口管制条例。2023年6月,荷兰政府颁布出口管制条例(2023年9月1日生效),对光刻设备的限制包括EUV光罩保护膜和EUVpellicle生产设备。海外出口管制愈发严苛,光刻机国产化重要性增强。重大技术装备...

从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘

今年以来,以国产光刻机为代表的国产先进半导体前道设备消息频发,其产业发展到了什么阶段?投融市场表现如何?本文尝试分析和探讨。综述光刻机是半导体制造中的一种关键设备,它使用特殊的光源通过光罩照射到涂有光敏材料的硅片上,形成有效电路图案。根据光源的不同,光刻机可分为G-line光刻机、I-line光刻机、KrF光...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

波长为193nm(纳米)、分辨率≤65nm、套刻≤8nm……日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。9月9日,工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的关于印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知文件,通知...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

01国产光刻机官宣后,国外网友沸腾,而美国荷兰却沉默,原因可能是国产光刻机技术突破尚未触及ASML的核心利益(www.e993.com)2024年11月1日。02ASML在高端EUV光刻机上的护城河很深,28nm距离威胁到它的地位还很远。03然而,美荷可能还在等待华为Mate70的发布,以更好地看清国产光刻机的发展情况。

国产光刻胶通过验证!

国产光刻胶通过验证!据“中国光谷”消息,光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破:武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150A光刻胶产品,已通过半导体工艺量产验证,实现配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列...

光刻机重大突破!国产替代主旋律下,三大关键领域或率先爆发!

9月18日光刻机概念股集体高开,人气龙头张江高科竞价涨停,同飞股份、海立股份、富乐德等涨超10%。消息面上,工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm)和氟化氩光刻机(65nm)的内容。

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

另据东兴证券,波长光电为国内激光光学元件的主要供应商,目前,公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力,公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。波长光电也曾于2023年9月15日披露投资者活动记录表称,公司在半导体领域主要涉及两个领域:一个是生产领域,即曝光机、光刻,公司可提供大口径光...

天大的好消息,全新国产光刻机曝光,套刻≤8纳米,什么水平?

其中包含了两款国产光刻机，一款是氟化氪光刻机，另一个是氟化氩光刻机，技术更加先进，是这次的重头戏。氟化氩光刻机，就是传说中的DUV光刻机，根据分辨率65纳米，可得知是干式DUV，水平和阿斯麦“XT:1460K”相近。大概和全球最先进的光刻机还差2代，一代是浸润式DUV，一代是极紫外式，也就是EUV。其中浸润...