光刻机巨头ASML:在合规合法情况下,持续为中国客户提供服务和支持

自1988年ASML首台光刻机进入中国，我们已进入中国市场30余年。在中国，ASML积极响应中国集成电路行业的需求，为客户提供包括光刻机台、计算光刻、光学与电子束量测在内的全景光刻解决方案。此外，ASML旗下的光源公司Cymer也为中国客户提供用于DUV光刻机的ArF和KrF光源产品组合。如今，我们在中国拥有超过1800名员工，设...

ASML将携全景光刻解决方案参加第七届进博会

今年,ASML将在展台着重介绍全景光刻解决方案下的三款应用广泛的DUV光刻机和一款新型的电子束量测设备,以及计算光刻业务。参观者可以近距离感受ASML如何凭借持续创新帮助客户实现更多价值。●DUV产品:NXT:1470和NXT:870:这两款从XT气浮平台升级至NXT磁浮平台的干式DUV产品,能为客户显著提升产能并降低单位成本;其中NX...

中国光刻胶,离日本还有多大差距?

光刻胶,顾名思义,就是光刻机在光刻过程中使用的聚合物薄膜材料,英文直译过来是光致抗蚀剂,能在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下,发生聚合或解聚反应,把图案留在硅片上。光刻胶工作原理我们平常说的光刻胶,其实是一类产品的统称。按形成的图像来分,有正性和负性两大类。按曝光光源和辐射源...

在嘉兴,600多位专家谈光刻未来

他表示对于步进扫描投影光刻机而言，掩模台与晶圆台的同步伺服性能将直接影响光刻机的技术指标。掩模台与晶圆台是典型的六自由度超精密运动平台。其核心控制问题是在耦合动力学以及复杂内外部干扰的条件下平衡高动态与超精密运动。集成电路光刻机超精密运动平台控制技术的研究与开发对于实现高端光刻机的国产化制造具有重...

冠石科技:2024年7月引入首台电子束掩膜版光刻机

冠石科技：2024年7月引入首台电子束掩膜版光刻机金融界8月15日消息，有投资者在互动平台向冠石科技提问：根据公司前期公开披露信息，公司已于2023年初启动关键进口设备采购工作，包括光刻机、制程设备、量测设备等已经签订采购合同并预计首批设备交付期为2024年第三季度，请问目前相关设备采购进度如何？是否已经起运或...

泽攸科技自主研制的电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

近日,据知情人士透露,国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室,在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展(www.e993.com)2024年11月25日。他们成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。

泽攸精密携手松山湖材料实验室成功研制出电子束光刻系统

导读:松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心产业化项目研发再获新突破:项目团队成功研制出电子束光刻系统,初步实现了电子束光刻机整机的自主可控,标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。国产电子束光刻机实现自主可控,是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日,松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心...

光刻技术,有了新选择

近日,电子束光刻技术的主要参与者Multibeam推出了MBPlatform,——全球首创的多柱电子束光刻(MEBL:MulticolumnE-BeamLithography)。据介绍,其新光刻系统是专为大规模生产而打造的系统。全自动精密图案化技术将用于快速成型、先进封装、高混合生产、芯片ID、复合半导体和其他应用。Multibeam表示,公司刚发布的平...

替代EUV光刻机光源,日本方案详解

在LPP光源中,由CO2驱动激光器和锡液滴产生的锡等离子体为具有EUV光源的光刻机系统提供强烈的EUV光。锡的碎屑对反射式集光镜的污染是该系统的主要问题之一。EUV光刻的另一个问题是随机效应。在极紫外光刻技术中,由于光子能量高得多,在相同剂量下,晶片上单位面积吸收的光子数要比准分子激光器少得多。如果曝光能量不...

我们弯道超车的机会来了,EUV光刻机,有了新技术,更先进

也意味着,目前国内也可以研究这项技术,且这种EUV-FEL电子加速电子束技术、振荡器技术,我们并不落后,我们也完全有希望在这一技术上,实现弯道超车的。更重要的是,前面已经提到了,这种EUV-FEL技术,可以生产出更短波长的BEUV光源,如果用这种光源来制造光刻机,那就比EUV光刻机更厉害了,那么我们的光刻机难题,就不...