拓荆科技深度报告:国内薄膜沉积设备龙头地位稳固,PECVD进入大幅...
薄膜沉积是半导体制造过程中构造晶体管的关键步骤之一,薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积,薄膜沉积工艺的不断发展,形成了较为固定的工艺流程,同时也根据不同的应用演化出了CVD(化学气相沉积)设备、PVD(物理气相沉积)设备和ALD(原子层沉积)设备等不同工艺。图5:PVD、CVD、ALD成膜效果简示工...
这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关
这场展会上,微导纳米还推出全新升级的“夸父”批量式ALD系统,在维持卓越设备性能的同时,整体体积较上一代产品缩减了约30%,产能也提升10%,真正实现了“小而精”的设计理念。需要指出的是,“夸父”背后的ALD技术之所以能成为光伏市场上的“香饽饽”,就源于微导纳米的突破性贡献。ALD技术全称为原子层沉积技术,在半...
负载型双金属催化剂在原子层面上的精细可控合成取得重要进展
近日,中国科学技术大学化学物理系路军岭教授课题组在原子层面上精细设计与合成负载型双金属催化剂领域取得新进展。路军岭教授通过与美国阿贡国家实验室的J.W.Elam博士合作,成功探索到了一种普适的利用原子层沉积(ALD)技术精细合成负载型双金属催化剂方法:通过选择适当的反应温度和ALD过程所需的氧化剂或还原剂,充分利用...
全球与中国原子层沉积(ALD)设备行业发展规模及前景趋势预测报
4.3中国原子层沉积(ALD)设备行业企业市场类型及入场方式4.3.1中国原子层沉积(ALD)设备行业市场主体类型(投资/经营/服务/中介主体)4.3.2中国原子层沉积(ALD)设备行业企业入场方式(自建/并购/战略合作等)4.4中国原子层沉积(ALD)设备行业市场供给状况4.5中国原子层沉积(ALD)设备行业招投标市场解读4.5.1...
微导纳米连续3个交易日下跌,期间累计跌幅7.92%
层沉积镀膜系统、iTomicPE系列等离子体增强原子层沉积镀膜系统、iTronix系列CVD系统、夸父(KF)系列原子层沉积系统、祝融(ZR)系列管式PEALD/PECVD系统、羲和(XH)系列低压工艺系统、后羿(HY)系列ALD/PEALD/PECVD薄膜沉积系统、iTomicMWLite批量轻型系列原子层沉积镀膜系统、卷对卷柔性封装系列原子层沉积镀膜系统...
如何让您的锂电池发挥更大效能?试试Forge Nano 原子层沉积(ALD...
试试先进原子层沉积(ALD)技术!当今世界正处于转变期,全力迈向电动社会——一个节能减排、实现气候目标并抵御严峻气候变化的社会(www.e993.com)2024年11月1日。为了实现这一转变,我们需要新的材料和技术,而锂已成为这一转变的标志性元素。可持续、可预测的锂供应链对于电动汽车(EV)、储能和电力网络的重要性日益明显。据国际能源协会(IEA)...
Swiss Cluster ALD原位多层复合原子层沉积系统-瑞士真空-新品
导读:近日,溢鑫科创科技集团在仪器信息网发布SwissClusterALD原位多层复合原子层沉积系统新品瑞士SwissCluster公司介绍:SwissCluster起源于EMPA瑞士联邦材料科学与技术实验室孵化的高科技公司,通过特有技术开发出全Qiu首台ALD和PVD原位多层复合薄膜沉积系统,并取得了非凡的成就和成熟的应用案例;其位于瑞士EMPA的...
韩国成功研发原子层沉积技术 可减少EUV工艺步骤
据韩国半导体公司周星工程最新研发出原子层沉积(ALD)技术,能够在生产先进工艺芯片中减少对极紫外光刻(EUV)工艺步骤的需求。EUV又称作超紫外线平版印刷术,是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前广泛应用于7纳米以下的先进制程。周星工程董事长ChulJooHwang表示当前DRAM和逻辑芯片的扩展已经达到了极限,因此需要像NAND...
发力原子级制造,微导纳米ALD产品市场领先
目前,国内具备原子级制造能力的企业凤毛麟角。位于无锡的微导纳米(26.530,-0.96,-3.49%)为其中之一,自2015年成立至今,微导纳米以原子层沉积(ALD)技术为核心,专注于先进微米级、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产与销售。加速形成新质生产力,ALD设备助力半导体产业加速实现国产替代...
哈工大霍华/付传凯、浙大王利光等综述:全固态锂电池中有机-无机...
通过某些技术方法也可以改善无机填料在聚合物中的分散性,Xie等人利用原子层沉积(ALD)将ZnO量子点均匀分布在PEO基固体电解质基质中。该方法实现了VPI-ZnO与PEO之间的强化学相互作用以及VPI-ZnO在PEO中的均匀分布。结果表明,电解质上表面松散的O-Li??配位和剩余的VPI-ZnO导致Li??迁移数显著增加,界面对锂金属的电阻...