从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘
刻蚀是指使用化学或物理方法有选择地在硅片表面去除不需要的材料的过程,根据工艺的不同,刻蚀机可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀,目前,干法刻蚀已占据大部分市场。干法刻蚀中根据离子能量不同,可以主要分为ICP刻蚀设备(硅刻蚀、金属刻蚀)、CCP刻蚀设备(电介质刻蚀),二者市场份额几乎相当。从全球市场来看,Lam、TEL和AMAT几乎...
俄罗斯:我们拥有EUV光刻机核心技术,会比中国更快造出光刻机!
其实呢,除了光刻机之外,我国也在弄其他一些替代方案,刻蚀机就是其中比较有名的一个。其实咱们国家的刻蚀机技术,发展得特别快,现在咱们国家的中微公司,主要就是搞刻蚀设备的设计、生产还有出口的。所以啊,对于俄罗斯造出自己的EUV光刻机,而且在芯片半导体领域比中国更快走向自主化这个消息呢,咱们就看看就行了...
项立刚怒怼某著名教授:想看中国的光刻机,你有资格么?
而且我们国家也并没有因为阿斯麦(ASML)对我们继续提供光刻机,就停止研发光刻机的技术,我们一直在努力!信息来源:环球时报2022年07月08日智库思享项立刚:中国技术生态链在美重压下快速形成从基础设备到刻蚀机再慢慢的向光刻机发展,也许科技的钻研会有一定的难度,但是我们国家的科研家们从来没有放弃!我们...
重磅!国产DUV光刻机研制成功!美国啥反应?
光有光刻机还不够,芯片制造是个系统工程,涉及的设备和技术多如牛毛。从原材料到刻蚀机、化学气相沉积设备,再到后期封装测试,每一个环节都不能掉链子。所以,氟化氩光刻机的亮相是个好消息,但中国芯片产业链的整体升级才是未来的大戏。展望未来,我国芯片产业将迎来一个新的时代。在这个时代,机遇与挑战并存,...
国产光刻机取得重大进展 氟化氩光刻机套刻≤8nm
光刻机、刻蚀机等芯片生产关键设备取得突破,也就意味着我国芯片制造商在关键设备上有了更先进的国产设备可用,有利于芯片产业链的国产化,也将提升国产芯片的水平,保障供应。工信部在官网公布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,包括15大类重大技术装备,除了长期困扰我国芯片产业的光刻机,还有高端...
...刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备领域(附调研问答)
答:公司通过优异的研发能力、可靠的产品质量和细致的客户服务,构建起了较强的行业竞争优势,为公司持续经营能力提供了强有力的支撑(www.e993.com)2024年10月2日。公司陶瓷加热器已有多款型号装配于SACVD、PECVD、LPCVD和激光退火设备等,装配于刻蚀机的8寸型号静电卡盘也已经量产。公司将把握泛半导体行业快速发展的战略机遇,进一步完善陶瓷加热器、8寸...
半导体刻蚀设备行业研究:半导体制造核心设备,国产化之典范
刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺,刻蚀机被视为半导体制造三大核心设备之一。刻蚀设备主要用于去除特定区域的材料来形成微小的结构图案,与光刻、薄膜沉积并称为半导体制造三大核心设备,重要性凸显,地位举足轻重。刻蚀设备:三大核心设备之一,市场规模可观刻蚀机作为半导体制造三大设备之一,价值量高,市场规模可观。根据Gar...
全球及中国刻蚀机行业发展现状及竞争格局分析,市场规模有望持续...
刻蚀机是一种用于制造微细结构的设备,常见于半导体、光学和电子工业中。该设备通过将化学反应物和物理能量相结合,去除材料表面的一部分,从而创建所需的微细结构。刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀,湿法刻蚀各向异性较差,侧壁容易产生横向刻蚀造成刻蚀偏差,通常用于工艺尺寸较大的应用,或用于干法刻蚀后清洗残留物等。
芯源微涨6.05%,短期趋势看,该股当前无连续增减仓现象,主力趋势不...
2、产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。3、根据公司2022年报介绍:公司后道先进封装领域用涂胶显影设备、单片式湿法设备实现批量销售超百台套,近年来已作为主流机型批量应用于台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、中芯绍兴、中芯宁波...
盛合晶微“一种具有应急切换功能的真空管路及其干法刻蚀机台...
天眼查显示,盛合晶微半导体(江阴)有限公司近日取得一项名为“一种具有应急切换功能的真空管路及其干法刻蚀机台”的专利,授权公告号为CN220604612U,授权公告日为2024年3月15日,申请日为2023年8月24日。本实用新型涉及一种具有应急切换功能的真空管路,设有第一干泵、第二干泵;在第一干泵、第二干泵的上方均设有...