格林达:公司产品显影液属于光刻胶配套产品,是作用于光刻胶的超净...

格林达董秘:尊敬的投资者你好,公司产品显影液属于光刻胶配套产品,是作用于光刻胶的超净高纯湿电子化学品。谢谢。投资者:董秘您好!请问贵公司有什么产品可以用于玻璃基板的生产格林达董秘:尊敬的投资者你好,公司主要产品为显影液、蚀刻液、稀释液、清洗液等,主要用于显影、蚀刻、清洗等电子产品制造工艺中,谢谢。

【培育】投资350亿元,TCL华星广州t9项目投产

生产ArF光刻胶所需的配套材料,如重要单体、显影液等,均由公司自主研发生产,对于国内具备生产能力的材料,公司采用国内采购的方式解决。公司始终坚持从根本上解决ArF光刻胶的“卡脖子”问题,建设从配套材料到先进光刻胶产品的全系列完整产业链。

电子行业深度报告:先进封装助力产业升级,材料端多品类受益

晶圆凸块技术制作过程复杂,需要清洗、溅镀、曝光、显影、电镀去胶、蚀刻和良品测试等环节,其对应材料需求为清洗液、靶材、电镀液、光刻胶、显影液、蚀刻液等。具体工艺如下:首先,采用溅射或其他物理气相沉积的方式在圆片表面沉积一层钛或钛钨作为阻挡层,再沉积一层铜或其他金属作为后面电镀所需的种子层。在...

功能型光刻胶问世,复旦团队助力芯片行业飞跃

复旦团队还开发了一种新型显影液,与传统显影液相比,它在显影过程中能够提供更温和的化学环境,减少对光刻胶的侵蚀。新型显影液与光刻胶的相互作用更加精准,确保显影过程中的高精度和高可靠性。通过一系列严格的实验测试,复旦团队的新型功能型光刻胶在多项关键性能指标上均表现出色。实验结果显示,新型光刻胶的分辨率...

全球芯片关键技术研究最新进展

同时,传统化学放大光刻胶使用四甲基氢氧化铵溶液作为显影液,易造成中毒及环境问题。此外,这类光刻胶体系在放置过程中还极易产生暗反应,影响储存和光刻稳定性。针对上述挑战和问题,浙江大学伍广朋教授团队利用自主开发的高活性有机硼催化剂,以二氧化碳和带有酸敏环状缩醛结构的环氧化合物为原料,制备了兼具高透明性碳酸...

艾森股份:打造高端品牌 努力跻身电子化学品材料领域世界第一方阵

围绕电子电镀、光刻两个半导体制造及封装过程中的关键工艺环节,形成了电镀液及配套试剂、光刻胶及配套试剂两大产品板块布局,产品广泛应用于集成电路、新型电子元件及显示面板等行业(www.e993.com)2024年11月5日。依托自身配方设计、工艺制备及应用技术等核心技术,公司能够为客户提供关键工艺环节的整体解决方案,满足客户对电子化学品的特定功能性要求。

探究pcb板中显影工艺的重要作用是什么?

2.优化电路板的可靠性和稳定性:显影工艺的准确性和可控性能够保证电路板的可靠性和稳定性。通过适当调整显影液的成分和浓度,可以使其与光刻胶更好地相互作用,从而得到更稳定和可靠的电路板。3.提高电路板的工艺效率:显影工艺是电路板制造过程中的一个关键步骤,它可以帮助提高整个制造过程的效率。通过合理的显影参...

pcb板怎么镀铜,pcb镀铜的作用及流程

1.制作铜化液先准备一定比例的铜化液,一般由硫酸铜、硫酸和盐酸组成。将硫酸铜和硫酸按照一定比例混合,加入足够的水,并搅拌均匀。然后再将盐酸逐渐加入混合液中,并继续搅拌。最后获得的液体就是铜化液。2.清洗PCB板将制作好的PCB板使用丙酮或其他清洁剂进行清洗,去除表面的脏物和氧化层。然后用清水冲洗干净,...

从砂到芯:芯片的一生

芯片前期工艺包括光刻、干蚀刻、湿蚀刻、化学气相沉积、物理气相沉积、等离子冲洗、湿洗、热处理、电镀处理、化学表面处理和机械表面处理等,其中多个工艺会重复使用,非常复杂。每个前期工艺都对应着相应设备,包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入设备、热处理设备(氧化退火设备)、化学机械平摊(CMP)设...

从砂到芯:芯片的一生_腾讯新闻

芯片前期工艺包括光刻、干蚀刻、湿蚀刻、化学气相沉积、物理气相沉积、等离子冲洗、湿洗、热处理、电镀处理、化学表面处理和机械表面处理等,其中多个工艺会重复使用,非常复杂。每个前期工艺都对应着相应设备,包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入设备、热处理设备(氧化退火设备)、化学机械平摊(CMP)设...