ASML掀开台积电的老底,28纳米以后的芯片工艺升级都是假的!

ASML指出在28纳米以上工艺的时候,芯片制造工艺的栅极间距都低于芯片工艺的名字,即是65纳米,芯片的栅极间距低于65纳米,但是在28纳米以下工艺,芯片的栅极间距难以迅速缩短,芯片制造企业的命名已是脱离了这样的命名规则。ASML表示3纳米工艺的栅极间距为23纳米,2纳米、1.4纳米工艺的栅极间距分别为22纳米、21纳米,预计1纳米...

台积电和三星电子的16/14纳米之争

三星电子原本属于FD-SOI阵营，当梁孟松意识到三星电子的20纳米处于落后地位时，他力排众议，建议三星电子放弃2D晶体管的20纳米FD-SOI技术的研发，直接开始3D晶体管的14纳米FinFET技术的研发。结果，三星电子凭借FinFET技术成功地从28纳米直接跨代至14纳米，并于2014年12月初开始量产。梁孟松力推三星电子跳过20纳米(2D...

国产65nm光刻机公布,市场反应出乎意料!

咱们来聊聊生产成本和好货比例，跟那些高大上的8纳米、14纳米比起来，28纳米的芯片制造成本低得不是一星半点。用一台65纳米的光刻机来做28纳米的芯片，既能控制成本，又能提高合格产品的比例。换个说法，用这台65纳米的光刻机做芯片，既划算又实惠，还能让国产光刻机顺利进入稳定的量产阶段。相比之下，追求那些...

专家访谈汇总:铜线取代PCB?

而对于需要28纳米、14纳米甚至7纳米工艺的芯片制程则需结合晶圆厂的工艺,其中EUV光刻机的高NA版本已经实现交付,对应的理论精度达到8纳米。为什么14纳米、28纳米的主流设备是光刻机?在半导体制造中,14纳米、28纳米的主流设备采用光刻机的原因在于其基本原理涉及到多重曝光。光刻过程包括在被刻蚀的介质层上先铺一...

重磅好消息:国产28纳米/14纳米芯片有望今明年量产

在国家大力推进集成电路产业发展的大背景下,从国内大陆地区芯片制造业发展现状及火热发展势头综合分析,行业预判28纳米将是100%国产芯片的新起点,和国产14纳米芯片将分别有望在今年和明年实现量产。这一预判得到了专业人士的认同,据环球网科技报道,中国电子信息产业发展研究院电子信息研究所所长温晓君在接受采访时...

覆盖28-14纳米,华虹六厂建设运营取得新突破

根据公开信息,华虹六厂为909工程二次升级改造项目,位于上海康桥基地,2016年11月启动建设、2018年10月建成投片,工艺技术覆盖28-14纳米节点,设计月产能4万片12英寸晶圆,2020年初华虹集团总工程师赵宇航曾在行业活动中透露,集团14纳米FinFET工艺已实现全线贯通(www.e993.com)2024年11月23日。(校对/Aileen)...

7纳米、14纳米、28纳米芯片制造工艺市场价值对比

更何况不是所有的芯片都像CPU、GPU那样需要极高的性能，很多芯片只是能够实现特定的功能就可以了，由此看来28纳米工艺是一款极具“性价比”的工艺。如果一个芯片项目对于性能有一定要求但不是很高，并且需要控制成本。那么对于这类芯片来说，28纳米工艺目前是一个非常好的“妥协点”。7纳米工艺的“高端圈子”以台积电...

至纯科技:公司产品可覆盖28纳米全工序段,今年度陆续交付4台14纳米...

公司回答表示,您好,公司产品主要包括半导体制程设备、工艺支持设备,以及由此衍生的高纯工艺系统建设、电子材料、部件清洗及晶圆再生等服务。公司产品可覆盖28纳米全工序段,今年度陆续交付4台14纳米以下制程的设备,并且14纳米以下制程的其他工艺机台的研发也在进一步有序开展。

华特气体:产品已用到中芯国际28纳米和14纳米工艺制程供应链中

证券时报e公司讯,华特气体(688268)在互动平台表示,公司产品已用到中芯国际的28纳米和14纳米工艺制程的供应链中,公司新研发的产品也在陆续投入到市场中。海量资讯、精准解读,尽在新浪财经APPAPP专享直播开播时间|10-2120:00创金合信基金甘静芸:创金看市丨激烈博弈期,如何进退有度?

中芯国际获7家机构调研:主要为客户提供0.35微米至14纳米多种技术...

问:28跟40纳米现在看起来是市场比较担心的一个节点,我们怎么样去衡量订单的虚实,然后怎么样动态调整资本开支?答:我们一直在很谨慎地观测和分析整个市场的走向。中芯国际在实体清单内,去年能够取得这么好的一个成绩,来自于大家的同心协力,这个同心协力主要的体现是:第一,我们做事情花更大的功夫,更加地认真来做事情...