...北方华创中标湖大粤港澳大湾区创新研究院1套感应耦合干法刻蚀...

1、中标北方华创中标湖大粤港澳大湾区创新研究院1套感应耦合干法刻蚀机2、中标华虹宏力干法去胶设备采购项目中标结果公布3、摩芯半导体完成数千万元Pre-A轮融资,专注汽车半导体芯片设计4、宏芯宇完成数亿元A+轮融资,用于新型存储产品的持续研发5、睿芯完成数亿元F轮融资,专注混合模拟集成电路设计6、中...

深圳天狼芯半导体取得一种干法刻蚀设备的腔体清理方法、装置...

金融界2024年9月30日消息,国家知识产权局信息显示,深圳天狼芯半导体有限公司取得一项名为“一种干法刻蚀设备的腔体清理方法、装置、终端和介质”的专利,授权公告号CN113808902B,申请日期为2021年8月。本文源自:金融界作者:情报员

盛吉盛取得一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统专利

金融界2024年9月30日消息,国家知识产权局信息显示,盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司取得一项名为“一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统”的专利,授权公告号CN112599400B,申请日期为2020年12月。本文源自:金融界

无锡邑文微电子科技申请一种干法蚀刻进气喷嘴及刻蚀设备专利,整体...

无锡邑文微电子科技申请一种干法蚀刻进气喷嘴及刻蚀设备专利,整体的密封性好,灵活性高,能够适用于不同的工艺要求,喷头,干法,密封性,灵活性,进气喷嘴,刻蚀设备,微电子科技

中国科学院半导体研究所低损耗光波导干法刻蚀系统采购项目公开...

中国科学院半导体研究所低损耗光波导干法刻蚀系统采购项目招标项目的潜在投标人应在oitccas获取招标文件,并于2024年09月23日13点30分(北京时间)前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号:OITC-G240570365项目名称:中国科学院半导体研究所低损耗光波导干法刻蚀系统采购项目...

Semicon半导体工艺:干法刻蚀与湿法刻蚀的区别和特点

干法刻蚀的优点是能够实现100纳米以下的精细图形转移,缺点是成本高、产能低、材料选择性不如湿法、等离子体可能对芯片造成电磁辐射损坏(www.e993.com)2024年11月25日。刻蚀方向是各向异性。图:干法刻蚀与湿法刻蚀的区别,来自kingsemi2、湿法刻蚀①定义湿法刻蚀是在大气环境下,利用化学品溶液去除品圆表面的材料的工艺过程。湿法刻蚀主要利用溶液中...

北方华创:公司发布的国产首台12英寸CCP晶边干法刻蚀设备自发布后...

对公司业绩有多大影响?公司回答表示,您好,公司发布的国产首台12英寸CCP晶边干法刻蚀设备自发布后已通过多家主流客户的工艺认证,并已获得多家客户的重复采购订单。感谢关注!

半导体刻蚀设备行业研究:半导体制造核心设备,国产化之典范

刻蚀设备:干法刻蚀为主,ICP、CCP平分秋色刻蚀可分为湿刻和干刻,湿刻各向异性较差,侧壁容易产生横向刻蚀造成刻蚀偏差,通常用于工艺尺寸较大的应用,干刻是目前主流的刻蚀技术,其中,等离子体干刻应用最广。根据等离子体产生方法不同,等离子体刻蚀又划分为ICP(电感性等离子体刻蚀)和CCP(电容性等离子体刻蚀)两大类...

一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻

3.2、刻蚀的目标和实现方法刻蚀的目标是实现精确的器件结构和电路图案,以满足电子器件的功能需求。实现这些目标的方法可以根据刻蚀介质、刻蚀方式和器件要求的不同而有所差异。物理刻蚀、化学刻蚀、干法刻蚀和湿法刻蚀是材料加工中用于微电子制造、金属加工等领域的不同技术。

科学家成功改进等离子体深硅刻蚀技术,将晶圆微纳技术提至10nm级别...

基于干法刻蚀的微纳加工技术,能够以精确图案化的方式,制造特征尺寸更小的半导体器件。进而能在量子信息、人工智能、集成电路、微机电系统和微电子器件制造中发挥举足轻重的作用。随着微细加工技术的不断进步,以及电信、汽车、生物医疗等行业对于微型设备需求的推动之下,在开发更小、更高效、更高性能的设备上,等离子体...