重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

中国芯片制造业迎来了一个历史性的重要时刻——“我国首台自主研发的28纳米光刻机顺利交付”。这一消息传出后，立即在科技界和产业界引发了广泛的讨论。长久以来，光刻机作为芯片制造的关键技术，一直被荷兰ASML公司所垄断，而中国此次成功自主研发出28纳米光刻机，无疑打破了这一垄断局面，标志着中国半导体产业迈上...

给中国图纸也造不出来?5年后最强的中国芯片反击战开始!

在过去的5年里,我国芯片产业高歌猛进,2020年自主研发的90纳米光刻机交付,2023年华为的7纳米级麒麟9000芯片问世。今年9月份,工信部更是亮相首台子部件国产化的氟化氩光刻机,虽说和EUV光刻机相比仍有一些差距,但已解决我国常规芯片的生产需求,彻底打破西方设备和技术的依赖。更令人振奋的是,我国正在全力突破芯片的...

【突破】工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机...

中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件等。《目录》中的电子专用装备目录下提到,集成电路生产设备方面包括化氟化氪光刻机,光源248纳米,分辨率≤110nm,套刻≤25nm;氟化氩光刻机,光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。

中国首台芯片光刻机成功交付,振奋人心的重大进展!

2024年，中国芯片制造业迎来重大突破。首台28纳米大芯片光刻机研发成功，标志着我国在高端芯片制造领域取得了关键性进展。这一成就不仅体现了我国科技实力的飞跃，更为国产芯片产业链的发展注入了强劲动力。大家都知道，芯片是现代电子设备的核心部件，从手机到电脑，从汽车到家电，几乎无处不在。而在芯片制造过程中，...

“光刻机”第一真龙,沉睡三年,有望从17元涨到69元

数据显示,2023年全球半导体光刻机翻新市场的销售额达到了13.51亿美元。预计到2030年,这一市场销售额将显著增长至24.22亿美元,显示出9.4%的年复合增长率。为此,我经过深度复盘,挖掘出了5家“光刻机概念”潜力龙头,尤其是最后两家,记得保存收藏,新来的伙伴点点关注!

全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...

而在存储芯片领域,新增产能有限,发展重点依然是技术转型,以满足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求(www.e993.com)2024年11月11日。佳能交付首台新型纳米压印光刻机在光刻机市场竞争中,佳能的策略是专注于KrF和i-line,而不涉及EUV和ArF等尖端产品,这种策略非常有效。这是因为,在半导体制造中,无...

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新一代纳米压印光刻机

财联社9月27日讯(编辑史正丞)全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布,成功交付首台新一代纳米压印光刻机。(来源:佳能公司官网)这里首先需要解释一下,佳能的纳米压印光刻(NIL)系统,与阿斯麦的光刻技术有什么区别。

首台纳米压印光刻机,佳能出货了

纳米压印光刻机真的来了。佳能宣布,向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻NIL系统FPA-1200NZ2C。这台纳米压印光刻机将交付给德克萨斯电子研究所,该研究所是德克萨斯大学奥斯汀分校支持的联盟,成员包括英特尔和其他芯片公司以及公共部门和学术组织。该设备将供...

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

实际情况中,阿斯麦跳过了65纳米光刻机直接进入浸没式技术,用于32纳米、28纳米芯片的大规模生产。不过,历史资料显示,该公司曾探索使用数值孔径为0.93的65纳米干式光刻机,通过双重曝光技术实现40纳米分辨率,这在2006年的IEEE会议上有论文记载。该研究指出,对于0.93数值孔径的65纳米光刻机,单次曝光要求的套刻精度为8...

从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘

2024年9月9日,工信部印发了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》通知,在文件列表中包含国产氟化氪(KrF)光刻机,和氟化氩(ArF)光刻机的内容。9月10日,SMEE(上海微电子)公开一项关于极紫外(EUV)辐射发生装置及光刻设备的新专利。今年以来,以国产光刻机为代表的国产先进半导体前道设备消息频发,其产业...