探秘光刻机:芯片制造的核心利器

用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光，而EUV光刻机则采用波长更短的极紫外光，能够实现更高的分辨率和更小的制程。用于封装...

华为站在风口浪尖!7纳米光刻机专利为何让全球芯片巨头紧张?

在全球半导体制造领域，光刻机可谓“镇国神器”，尤其是最先进的极紫外（EUV）光刻机，直接决定了芯片的制造精度。光刻机通过将复杂的电路图案转印到硅片上，形成芯片的核心结构。但光刻机制造过程复杂、成本高昂，尤其是EUV光刻机需要具备极高的精度和稳定性，这让全球仅有荷兰的ASML公司掌握了这一核心技术。光刻...

想要解决国产EUV光刻机卡脖子情况,必须要攻克两个核心难点

目前全球最先进的光刻机产品是荷兰ASML公司生产的双级EUV光刻机，波长为13.5nm，分辨率达到8nm。由于该光刻机的光源为极紫外线，属于软X光，因此无法在光源中央添加介质。这意味着，EUV光刻机与前两代的干式和浸润式光刻机相比，实际上是一种全新的技术产品，以往的技术必须完全重建。EUV光源技术首先，我们来探...

【风口解读】光刻机概念活跃波长光电收涨6.81%,美国正在向日本和...

泡财经获悉,7月18日,A股光刻机概念活跃,波长光电(301421.SZ)收涨6.81%。消息面上,据财联社7月17日电,外交部发言人林剑17日主持例行记者会。记者提问称,美国正在考虑采取更严格的措施,对日本和荷兰等国的公司施加压力,限制其与中国的芯片贸易。中方对此有何评论?林剑对此表示,中方已多次就美国恶意封锁打压中国半...

重大突破!极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业标准界限,功耗比...

——EUV光刻机于近十年间兴起随着半导体技术的更新换代,光刻机也从最开始的g线(436nm)逐渐发展为近十年间兴起的EUV光刻机,从接触式向接近式,最后演变成步进式为主。EUV光刻机,又称极紫外线光刻机,是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响,其中,小于5纳米的芯片晶圆,只能...

光刻机的故事(上):如何用极紫外光制造电路板?

随着摩尔定律的推进,芯片上的晶体管数量持续增加,对光刻技术的要求也越来越高(www.e993.com)2024年11月23日。从最初的紫外线到深紫外线,再到极紫外光刻技术,每一次进步都伴随着巨大的技术和工程挑战。光刻机是如何发展起来的?本文分为上下两篇来介绍这个故事:●第一:光刻技术的基础和早期发展,包括极紫外光刻技术(EUV)的起源和初步挑战。

俄罗斯,会比中国先造出EUV光刻机?

到了EUV也就是13.5纳米波长,工业界和学术界原先自然也想沿着这个思路推进,形成了一度势头很好的放电等离子体(DPP)光刻光源研究路线。然而初步实践表明,当时DPP所使用的氙气在13.5纳米处极紫外光转化率很差,而更理想的介质锡又极难气化,沸点高达2200多摄氏度,为此,研究人员想出了先用激光轰击锡靶产生初始等离子体的...

...FDA警告信,股价表现亮了!全球光刻机巨头暴跌近13%,A股受益股曝光

早盘,光刻机板块快速拉升,东方嘉盛、京华激光涨停,蓝英装备、同飞股份盘中20cm涨停,波长光电、张江高科、芯源微、容大感光、广信材料、富乐德、同益股份、艾森股份、强力新材等均跟涨。消息面上,由于阿斯麦第三季度业绩指引未能达到市场预期,加之美国再次向其盟友施压,要求限制与中国的芯片贸易,美国股市芯片股在盘前...

极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效

极紫外线光刻机(ExtremeUltra-violet),又通常被称为EUV光刻机,它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造。本文引用地址:httpseepw/article/202408/461906.htm

极紫外光刻技术获突破:可大幅提高能源效率 降低半导体制造成本

凤凰网科技讯8月2日,冲绳科学技术大学院大学(OIST)的教授新竹俊(TsumoruShintake)提出了一种极紫外(EUV)光刻技术。基于这种设计的EUV光刻技术可以使用更小的EUV光源工作,从而降低成本,显著提高机器的可靠性和使用寿命。而在消耗电量上不到传统EUV光刻机的十分之一,有助于半导体行业变得更加环境可持续。