施奈仕技术创新:推出新一代高阻燃UV光固胶
1、纳米技术应用:引入特定纳米填料,增强UV光固胶的结构强度和阻燃能力。这些纳米填料在胶体中形成网络结构,大大提高了材料的热稳定性和火焰抑制性。2、配方优化:研发团队在不断调整原料配比和观察反应条件中,发现了一种新型光引发剂。该引发剂在紫外线照射下能迅速引发固化反应,同时不影响胶体的物理性能,确保了产品...
非开挖修复工艺介绍|软管|树脂|管径|内衬|衬垫_网易订阅
工人进入待修复管道部位,先将不锈钢环片预拼装成比管道内径略小的套环,后将EPDM橡胶圈套在套环外面,然后将套环正确放置在拟修复部位并采用专用安装工具将快速锁套环撑开张紧,使套环及橡胶圈与管壁紧密、无缝贴合后将专用锁紧螺栓锁死,完成对管道的局部修复。腐蚀修复前腐蚀修复后三、紫外光原位固化采用牵拉方式...
UC胶水光固胶压敏胶无影胶紫外固化胶成分分析含量配比
uv复合胶水uv光固胶水uv胶水助剂uv紫外光固化胶知分析技术,可通过光谱、色谱、质谱等科研仪器,运用多元分析手段,为化工行业产品提供成分分析、失效分析、对比分析、异物分析等服务,帮助客户分析样品的化学组成和成分含量,或按照客户要求定性定量分析指定成分及含量,鉴别原材料、特定成分、含量及异物成分等分析服务。
中钢天源申请提高钕铁硼渗透工段效率的方法专利,显著减少固化工段...
为解决渗透工段能耗高、效率低的问题;本发明包括取制好的钕铁硼基体,将重稀土原料与光固胶充分混匀后附着在钕铁硼基体上,连续传送待固化钕铁硼基体依次经过紫外线固化工段后,烧结回火得到烧结钕铁硼磁体;本发明能够显著减少固化工段的时间和能耗,将原本的处理时间缩短了约90%,能耗节约了99%左右,极大地提高了渗透工段的...
东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...
②涂胶:对晶圆表面按照指定的厚度和均匀性涂抹光刻胶,同时将边缘和多余的光刻胶清洗掉。③软烘:去除光刻胶里的溶剂,增加粘合性。④对准曝光:将掩膜版和晶圆对准后进行光照曝光。⑤曝光后烘:通过适度的温度来激发光刻胶,使部分光刻胶能够更好的溶于显影液,提高显影的分辨率。⑥显影:向已经曝光的晶圆涂抹显影液,...
世人皆言光刻胶难,可到底难在哪里
比如光刻、光刻机,以及本文的主角光刻胶(www.e993.com)2024年9月18日。但这些如今普遍以“卡脖子”形容的先进领域,往往只是名字天下知,细节无人问——它们究竟是什么?上下游是怎样的?市场有多大?为什么会被卡脖子?为什么过去没人花大钱,下大力气开发?本文将聚焦这两年因芯片而备受关注的光刻胶,为读者解析这一产业的基本情况,以及目前国...
最新《AFM》:紫外线光降解的有机凝胶
然后,使用注射泵将作为模型杂质的玫瑰红在水中的溶液循环通过有机凝胶表面上的通道30分钟。玫瑰红的浓度从17.5??molL-1降低到12.25??molL-1。证明了紫外线图案的有机凝胶如何在废水处理或微流体应用中有用。此外,为了测试固有可光降解有机凝胶作为光刻胶的适用性,作者用有机凝胶薄膜(200??m)...
用于皮肤应用的天然产品的系统综述:针对炎症、伤口愈合和光老化
方法:使用PubMed、ScienceDirect和GoogleScholar等数据库检索、分析和收集文献。使用的搜索词包括“皮肤”、“伤口愈合”、“天然产物”、“皮肤微生物组”、“免疫调节”、“抗炎”、“抗氧化剂”、“感染”、“紫外线辐射”、“多酚”、“多糖”、“脂肪酸”、“植物油”、“肽”、“抗菌肽”、“银屑病”、...
与EUV相比,这一光刻技术更具发展潜力
掩膜版的生产主要包括以下几个流程:图形光刻,显影,蚀刻,脱膜,清洗。其中,图形光刻是通过光刻机进行激光光束直写,以完成图形曝光,掩膜版制造都是采用正性光刻胶,通过激光作用使需要曝光区域的光刻胶内部发生交联反应。在光刻过程中,曝光机的核心是曝光光源,光源通常使用紫外线灯管,其波长一般在350nm~400nm之间。曝...
摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望
这是芯片生产过程中重要操作,也是芯片工业中的重头技术。蚀刻技术把对光的应用推向了极限。蚀刻使用的是波长很短的紫外光并配合很大的镜头。短波长的光将透过这些石英遮罩的孔照在光敏抗蚀膜上,使之曝光。接下来停止光照并移除遮罩,使用特定的化学溶液清洗掉被曝光的光敏抗蚀膜,以及在下面紧贴着抗蚀膜的一层硅。