【东吴晨报0725】【固收】【行业】机械设备、工程机械、环保...
SPE产品包括涂胶显影设备、热处理设备、干法刻蚀设备、薄膜沉积设备(CVD、PVD、ALD)、湿法清洗设备、测试设备等,几乎覆盖了半导体制造的全部流程;FPD产品主要是涂胶显影设备和等离子刻蚀/灰化设备。其中涂胶显影设备的市占率长期稳定在90%左右,EUV光刻涂胶显影设备的市占率更是达到100%,其他设备市占率普遍呈现下滑趋势。
至纯科技:湿法清洗设备向涂胶显影设备拓展,6/8寸线领域发展待关注
您好,公司主要以湿法清洗设备的生产销售为主,向外延扩展至涂胶显影设备,主要聚焦于6/8寸线领域,目前尚未量产,相关进展请关注公司后续公告。
【概念股】至纯科技湿法清洗设备可实现国产替代;
3.至纯科技:湿法清洗设备可实现国产替代;近日,至纯科技在接受机构调研时表示,公司湿法清洗设备可覆盖28纳米全工艺工序段并有重复订单,在14及7纳米制程也有数台订单交付客户,公司在湿法清洗领域可实现国产替代。据介绍,单片硫酸设备为湿法设备中难度最高的工艺机台,至纯科技S300SPM机台已交付给多家国内主流晶圆厂,...
至纯科技:公司主要以湿法清洗设备的生产销售为主,向外延扩展至...
至纯科技(22.780,-0.15,-0.65%)(603690.SH)7月22日在投资者互动平台表示,公司主要以湿法清洗设备的生产销售为主,向外延扩展至涂胶显影设备,主要聚焦于6/8寸线领域,目前尚未量产,相关进展请关注公司后续公告。(记者蔡鼎)
兆声波清洗机行业现状!2024年中国兆声波清洗机行业市场研究报告...
据资料显示,2022年我国兆声波清洗机产能为3300台,同比增长17.9%;产量为2879台,同比增长15.1%;需求量为4534台,同比增长14.9%。盛美上海成立于2005年,公司主要从事对先进集成电路制造与先进晶圆级封装制造行业至关重要的单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备和前道涂胶显影设备和等离子体...
湿法清洗设备:半导体制造中的精密净化之道
环保型清洗剂:传统的清洗剂可能含有有机溶剂和有害化学物质,对环境和健康造成潜在威胁(www.e993.com)2024年7月27日。新的趋势是开发更环保、更可持续的清洗剂,以减少对环境的影响。自动化与智能化:湿法清洗设备正在向自动化和智能化方向发展,通过自动加载和卸载芯片、智能监控和调整清洗过程参数等,提高生产效率和一致性。
投资者提问:公司子公司硅密电子官网的产品介绍中,有全自动清洗...
公司子公司硅密电子官网的产品介绍中,有全自动清洗蚀刻机,应用范围是半导体和先进封装,由于半导体行业比较专业,所以投资者不太懂,请问这类设备在先进封装领域起的作用是什么?谢谢董秘回答(元成股份SH603388):尊敬的投资者,您好,先进封装领域的工艺流程中涉及到的设备也包含湿法清洗设备、湿法去胶设备、湿法刻蚀设备等...
科创板助推半导体设备龙头加快发展 行业回暖信号显现
华海清科在纳米级抛光、纳米精度膜厚在线检测、纳米颗粒超洁净清洗、大数据分析及智能化控制等关键技术层面取得了有效突破和系统布局。9月26日,该公司公告,首台12英寸单片终端清洗机HSC-F3400机台出机发往国内大硅片龙头企业,是公司继CMP设备、减薄设备之后,在湿法设备系列产品中推出的又一项重要成果。
北方华创:穿行于半导体周期的舞者
第三代半导体方面,公司SiC刻蚀、GaN刻蚀、介质刻蚀、PECVD、PVD以及湿法清洗机等关键制程设备成为行业主流配置机台;新型显示设备持续为客户产线配套,真空定制化设备不断被高端应用客户采购。2021年,公司的刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机等产品在集成电路及泛半导体领域实现量产应用。集成电路装备面向...
半导体设备行业专题报告:CMP,“小而美”,国产装备崛起
第1代CMP后清洗技术:该阶段半导体CMP设备市场初步形成,市场主要设备包括Strasbaugh公司的6DS-SP以及Westech的PEC372/372M。这时期的CMP后清洗,主要是抛光后再将整盒的晶圆提出来放置到单独的清洗机进行清洗,采用多槽浸泡化学湿法清洗技术,主要应用于较大线宽的集成电路,而且清洗时间较长,一般都会大于1个小时,与...