荷兰的反击!ASML的60台光刻机与中美芯片争夺战的关系

依然表示将继续向中国客户出口DUV光刻机，并声称将根据国际规则和荷兰政府的许可，决定是否向中国出口EUV光刻机。这一举动无疑是对美国试图封锁中国芯片产业的回击。但世事无常，2023年初，荷兰政府在美国的强大压力下，对ASML的EUV光刻机出口实施了新的限制。这一限制意味着ASML无法再自由地向中国出口其最先进的光刻...

中国芯片崛起:光刻机的远程操控与中美科技战的博弈

在产品价格方面，如果中国在某些技术上实现突破，随之而来的就是产品价格的下降，比如过去的盾构机和液晶屏幕。今年五月，ASML更是发出威胁，警告若中国大陆采取相关行动，他们能够远程关闭芯片制造设备，连最先进的EUV光刻机也会面临这个命运。这意味着，只要美国下令，ASML可以远程把全球任何一台光刻机变成无用之物。...

国产光刻机与华为芯片的关系,真相如何?

光刻机能够生产出相对先进制程的芯片这一点毋庸置疑，然而与8纳米芯片相比，仍然有一段不小的距离。此时，一些人依旧固执地将光刻机与华为的新芯片强行捆绑在一起，的确显得相当奇怪。毕竟华为芯片的来源和制作时间，外界并无法得知，也不会被告知。无论如何，芯片始终会浮现。即使在mate60系列正式发布前，几乎没有...

光刻机无望?美国都造不来,中国永远都不能造出来?为什么这样说

在芯片制造过程中,光刻机需要将电路图案准确地投射到硅片上,这对精度要求达到几纳米甚至更高,这就需要光刻机的机械系统能够在极小的尺度上进行精准操作,不能失误,稍稍有些偏差就可能导致芯片报废。包括光学系统,这是光刻机制造的关键部分,光刻机通过光学透镜将电路图案投射到硅片上,因此光学系统需要具备高透镜质量...

没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?

目前ArF光刻机的镜头可将sinθ值做到0.93,EUV光刻机目前只能达到0.33,Hyper-NAEUV的目标值是0.75,也是ASML的终极项目。如果未来没有新技术发明出来,这很可能是芯片物理光刻技术的终结。2)缩短波长:材料与镜头的精准搭配缩短波长主要依靠光源的改变,比如g-Line,i-Line的UV(紫外光),KrF,ArF的DUV(深紫外光)...

绕开EUV光刻机:中国芯片产业开始破局,能实现“弯道超车”吗?

三、开辟新赛道:光电芯片与纳米印压技术的崛起面对EUV光刻机的封锁,中国芯片产业并未坐以待毙,而是积极寻找替代方案,开辟新的技术路径(www.e993.com)2024年11月6日。其中,光电芯片和纳米印压(NIL)光刻机技术成为两大热门方向。光电芯片:作为一种全新的芯片类型,光电芯片利用光子而非电子作为信息载体,具有传输速度快、带宽大、能耗低等优势。

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

在光学系统方面,ZEISSSMT于2010年研发全球第一套EUV光学系统并在EUV光刻领域形成绝对的技术壁垒,是ASMLEUV光刻机镜头的唯一供应商。2.构建体系化发展战略框架ASML建立了市场、产品、技术三大战略路线图,精准把握未来光刻机的核心特征和关键参数,并有效满足芯片制造厂商的前沿需求;然后,由其技术部门研究产品路线...

芯片那些事儿

从个人电脑到智能手机,从汽车到家用电器,芯片不可或缺。而芯片制造技术以及芯片全球供应链的复杂性,使其成为了当下国际竞争的焦点。芯片制造作为现代科技的前沿领域,其理论研究和技术探索历史承载着人类智慧的结晶,如备受关注的阿斯麦EUV光刻机,更是被誉为迄今为止人类制造的最为复杂的机器。从最初的晶体管概念到如今...

关于芯片的8个关键疑问 我们和中科院微电子研究所王晓磊聊了聊丨...

“晶圆制造能实现的器件最小特征尺寸是决定芯片性能的重要指标。”王晓磊表示,晶圆制造,是指按一定流程对硅晶圆进行清洗、薄膜制备、光刻图形、刻蚀及掺杂等加工工艺,在硅晶圆上形成不同元器件和连线的过程。疑问六光刻机技术为什么重要?据介绍,目前产业界已实现等效特征尺寸小至3纳米的器件,3纳米是头发丝直径1/...

??光刻机之战

但为了拯救光刻机项目,飞利浦方面最终主动联系了ASM。会议只持续了一个多小时,刨除普拉多离席与团队商量的时间,双方交谈的时间不到15分钟,ASM即决定与飞利浦合作。光刻机业务符合普拉多的雄心壮志。ASM制造了芯片生产过程中每一道工序需使用的机器,但对最具战略性的光刻机,他此前却未涉及。