中国半导体芯片制造技术突破:仅次于光刻,打破欧美日技术垄断
氢离子注入这项技术是半导体晶圆制造中仅次于光刻的重要环节,在集成电路、功率半导体、第三代半导体等多种类型半导体产品制造过程中起着关键作用,该领域核心技术及装备工艺的缺失严重制约了我国半导体产业的高端化发展,特别是600V以上高压功率芯片长期依赖进口。核力创芯的技术突破,解决了垄断和卡脖子的问题,意义非常...
国内半导体大佬承认差距:先进芯片很难追上,应优先成熟工艺
即使是华为目前的麒麟新芯片,采用了类似7nm的工艺,但大概率也是利用DUV光刻机多重曝光后的产物,良率和成本都远远不如海外,性能上也和海外的芯片差距较大。毕竟现在国内利用海外DUV光刻机生产的少量7nm芯片,但海外利用EUV光刻机生产3nm芯片都已经比较成熟了。尽管在芯片生产设备上,国内在美国阻止ASML提供光刻设备后,...
稳了,国内193nm的DUV光刻机,也能制造5nm芯片
而光刻机又是芯片制造中,必不可少的一种,同时也是美国限制我们的一种。所以在当前情况之下,能不能从国外买到先进光刻机,成为了国内芯片制造技术能不能突破的关键之一了。比如芯片工艺要进入40nm必然使用浸润式DUV光刻机(ArFi),但这种浸润式DUV最多也就使用至7nm,而进入7nm以下,必须使用EUV光刻机……如下图...
正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏
海外的相关人士也指出,虽然用这种方式可以生产出5纳米工艺,但是后果是良率偏低、成本很高,对于海外的芯片制造企业来说,他们能买到EUV光刻机,用EUV光刻机生产5纳米工艺可以达到更加的经济成本,这种技术对于海外的芯片制造企业来说没多大意义。对于中国芯片行业来说,用现有的DUV光刻机生产5纳米工艺则具有重要意义,如今...
国产手机芯片4nm工艺到来,技术突破彰显深层考量
不过,最近国产芯片也传来重磅喜讯,有两家手机芯片成功流片,采用4nm制程工艺,这意味着国产4nm芯片已迫在眉睫。那么,这将为国产半导体及芯片产业带来哪些影响?背后的逻辑和价值又是什么?一、紫光展锐、小米4nm芯片流片成功当全球巨头争相抢夺台积电3nm产能之时,国产芯片方面也传来喜讯——紫光展锐和小米的4nm手机SoC...
比纳米还小的原子级制造技术是什么?离我们有多远?
以芯片制造为例,想在国外已经完善的领域实现赶超非常困难(www.e993.com)2024年9月18日。而原子级制造是一条国外尚未系统化实施的新技术路线,国内已经具备一定基础。如果我国能集中力量进行科研攻关,就有可能建立起一个独特且世界领先的制造技术体系。虽然原子级制造具有巨大应用价值,但是目前并没有全面开展技术体系和工艺装备的开发。面临挑战不小...
芯片内部为什么能这么小?100多亿个晶体管是怎么装进去的?
芯片制造中光刻是最复杂、昂贵且关键的工艺,通常使用投影式光刻系统将掩模版的电路结构图投射到硅晶片的表面。光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量,在光刻技术中为得到尽可能小的图案,在掩模板和光刻胶之间采用了一种具有缩小倍率的投影成像物镜。投影式光刻系统|图源网络...
【ICCAD2023】特色工艺将成未来中国半导体制造主旋律
荣芯半导体成立于2021年4月,总部位于中国浙江省宁波市,是一家立足于成熟节点上的特色工艺集成电路制造企业,主要业务涉及为CIS(CMOS图像传感器)、Driver(驱动芯片)以及电源管理等产品提供诸如BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)特色制造工艺平台等服务。“特色工艺制造专注于小众市场,在先进工艺的发展瓶颈越来越凸出的背景下,特色工...
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
而且如今,纳米压印技术也已经发展出了不少分支,光是压印方式就有三种:热压印、紫外压印和微接触压印,其中紫外压印常用在芯片制造中,在紫外光的照射下,压印胶很容易凝固脱模。根据固化方式、压印面积等分类也衍生出了很多不同的工艺。这些工艺,除了造芯片之外,还能用在LED、OLED、AR设备中。
芯片内部为什么能这么小?电路城市的打造和精进
芯片制造中光刻是最复杂、昂贵且关键的工艺,通常使用投影式光刻系统将掩模版的电路结构图投射到硅晶片的表面。光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量,在光刻技术中为得到尽可能小的图案,在掩模板和光刻胶之间采用了一种具有缩小倍率的投影成像物镜。投影式光刻系统|图源网络...