【IPO价值观】供货上海微电子,茂莱光学实现光刻机核心光学器件...
据悉,半导体光学透镜用于半导体光刻机光学系统中耦合、中继照明模块,是光刻机实现光线均匀性的关键模块;大视场大数值孔径显微物镜系列主要功能为利用光线使被检物体一次成像,是半导体检测系统中的核心光学镜头;此外,高精度快速半导体制造工艺缺陷检测光学系统主要用于半导体装备晶圆检测,可提升有效视场范围和提高检测速度。据...
国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么
根据知名公式——瑞利判据,即CD=k1*λ/NA。CD代表线宽,即芯片可实现的最小特征尺寸;λ代表光刻机使用光源的波长,NA指的是光刻机物镜的数值孔径,也就是镜头收集光的角度范围;k1是一个系数,取决于芯片制造工艺有关的众多因素。根据这个公式,如果要制造更小线宽的芯片,即CD值越小,可使用波长更短的光源、...
Jim博士:65纳米光刻机的前世今生
下图就是2018年验收的这套数值孔径0.75NA、分辨率为90纳米的DUV镜头,型号EpolithA075。下图就是这套系统的曝光结果,图中的线条是85纳米分辨率。制作这套镜头,花了9年时间。而工艺水平,可能是阿斯麦供应商、德国蔡司30年前的水平。它的镜头虽然是0.75NA,但是其他光学指标远远低于阿斯麦的65纳米分辨率光刻机的St...
国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么 国产光刻机向前迈了一小步
光刻机性能如何,有两个关键所在:一是光刻机波长,二是物镜系统的数值孔径(NA)。根据知名公式——瑞利判据,即CD=k1*λ/NA。CD代表线宽,即芯片可实现的最小特征尺寸;λ代表光刻机使用光源的波长,NA指的是光刻机物镜的数值孔径,也就是镜头收集光的角度范围;k1是一个系数,取决于芯片制造工艺有关的众多因素。根...
永新光学:除激光雷达光学元组件产品,公司车载镜头元件业务近年来...
其中,公司所生产的NA1.49物镜是世界上数值孔径最大的显微物镜。自研生产的激光共聚焦显微镜自2021年问世以来销售连续三年快速增长,2023年发布的NSR950超分辨显微镜突破光学衍射极限,达到百纳米级分辨率和百帧速度的超分辨图像拍摄,实现了我国高端显微镜的“跨越式”发展,谢谢!
国产光刻机突破28nm了吗
CD是线宽,即可实现的最小特征尺寸,λ是光刻机使用光源的波长,NA代表光刻机物镜的数值孔径,也就是镜头收集光的角度范围,K1是一个系数,取决于芯片制造工艺有关的众多因素(www.e993.com)2024年10月20日。按照公式,如果芯片制造要实现更小的线宽,即CD值越小,主要就是透过使用波长更短的光源、更大数值孔径(NA)的物镜,以及想办法降低K1。
东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...
高数值孔径的镜头意味着可以吸纳更大范围的光源,也就意味着数值孔径的高低一定程度上决定了光刻机的分辨率以及套刻精度。现阶段主流光刻机的照明与投影物镜系统均内置光学调整功能组件,能够根据掩膜版的图案结合优化算法,采用最佳的曝光优化方案。光刻机通过照明系统、掩膜版、投影物镜、光刻计算等步骤的相互配合,实现...
芯片内部为什么能这么小?100多亿个晶体管是怎么装进去的?
NA为数值孔径,它描述了透镜对光的汇聚能力,具体表现为平行光入射后的偏折程度(汇聚到焦点),计算表达式为:数值孔径(n为折射率)|图源Searchmedia-WikimediaCommons瑞利判据常用来评价成像质量,而光刻系统是在光刻胶中成像的。光刻胶是一种高对比度的成像介质,在某些曝光条件下,虽然光学分辨率已经达到了瑞...
公司前线|永新光学题材要点调整更新
通过自主研发及产学合作研发,公司掌握了超分辨显微系统的大数值孔径物镜,高性能荧光滤光片等核心部件设计与制备技术,完成FSED超分辨显微系统制造等技术。曾先后承担“嫦娥二,三,四号”星载光学监控镜头的制造,承制国内首台“太空显微实验仪”,为空间站航天医学,太空生命科学等技术研究提供支撑,进一步提升公司在高端显微...
ASML:光刻机的故事(图)
EXE系统的最大亮点是HighNA,其中“NA”指的是数值孔径—衡量光学系统收集和聚焦光线的能力。NXE系统的NA为0.33,而EXE系统为0.55。NA越高,系统的分辨率就越高。数值孔径的增大需要使用更大的光学镜头,这会增加光线照射到需要打印图案的刻线的角度。在较大角度下,掩模版会失去反射率,导致图案无法转印到晶圆上。