如何制作一台属于自己的相机:详细步骤与技巧分享

如果使用的是感光纸,可以在黑暗的环境中将其放入显影液中进行显影。如果使用的是胶卷,则需要送到专业的冲洗店进行处理。相机的工作原理(HowtheCameraWorks)相机的核心工作原理是光的直线传播。光线通过小孔进入相机内部,形成倒立的图像。由于小孔的存在,光线的路径被限制,图像的清晰度和细节取决于孔的大小和相...

从零开始:如何制作属于自己的相机

可以使用遮光布或手遮住光敏材料,直到准备好拍摄。然后,迅速移开遮光物,开始曝光。步骤四:冲洗照片(Step4:DevelopthePhoto)拍摄完成后,需要将光敏材料冲洗,以显现出影像。如果使用黑白胶卷,可以在暗房中进行冲洗;如果使用感光纸,可以使用显影液进行处理。常见问题(CommonQuestions)1.我可以使用什么样...

修图的我,真实的我

以移动端拍照和分享为核心功能的Instagram(照片墙)创始人凯文·斯特罗姆通过编写滤镜程序成功吸引了用户,第一款滤镜应用被称为X-ProII,以此致敬交叉冲印这种显影技术(莎拉·弗莱尔:《解密Instagram》,张静仪译)。在胶片冲印时代,商业人像拍摄曾经广泛使用这种技术,用负片显影液处理彩色正片,获得高反差、高饱和度、粗颗...

晶圆级封装(WLP),五项基本工艺

如图6所示,显影方法可分为三种,包括:水坑式显影(PuddleDevelopment),将显影液倒入晶圆中心,并进行低速旋转;浸没式显影(TankDevelopment),将多个晶圆同时浸入显影液中;喷淋式显影(SprayDevelopment),将显影液喷洒到晶圆上。图7显示了静态显影方法的工作原理。完成静态显影后,通过光刻技术使光刻胶形成所需的电路图案...

半导体后端工艺|第七篇:晶圆级封装工艺

首先在晶圆上涂覆一层被称为“光刻胶”的光敏聚合物,然后透过刻有所需图案的掩模,选择性地对晶圆进行曝光,对曝光区域进行显影,以绘制所需的图案或图形。该工艺的步骤如图2所示。图2:光刻工艺步骤在晶圆级封装中,光刻工艺主要用于在绝缘层上绘制图案,进而使用绘制图案来创建电镀层,并通过刻蚀扩散层来形成金属...

【科普】芯片制造工艺:光刻(上)

光刻这个步骤中,首先是涂光刻胶:涂光刻胶的过程:将光刻胶涂在晶圆上,并让晶圆高速旋转,使光刻胶均匀分布图源:SankenElectric光刻胶是一种对辐射敏感的化合物,分为正胶和负胶(www.e993.com)2024年11月10日。正胶的曝光部分在显影时更易溶于溶剂而被去掉,所得的图图像与掩模上的相同。负胶的曝光部分在显影时更不易被溶解,因此所得...

【沃信科普之】翘板摇床在实验室脱色试验中具体应用举例

硝酸银染色是一种常用于检测DNA或RNA等核酸分子的方法。在硝酸银染色过程中,脱色摇床同样用于固定、染色和显影步骤。通过振荡摇晃,确保固定液、染色液和显影液能够均匀地分布在样品表面,提高染色的均匀性和实验的准确性。3.放射自显影实验中X光底片的显影、定影...

冲洗一卷胶卷要多少钱 自己怎么样冲洗胶卷?【详细步骤】

提示:使用塑料片芯,缠卷前应确定片芯是否干燥,片芯上残存的少量水滴就足以阻滞装片进程。2、把装入胶卷的片芯放到显影罐中,扣上盖子。此时可以将显影罐置于明室,进行接下来的显影步骤了。黑白胶卷冲洗过程图解(二):显影篇1、根据药品说明和显影罐的容量配制好工作液。在显影前用温度计测量一下,保证药液温度。

从砂到芯:芯片的一生

涂胶显影(或涂覆显影)设备虽在结构上比不上光刻机的复杂程度,但也不可或缺,它是光刻过程中必要的设备。[21]对光刻工艺来说,晶圆上光刻胶涂覆的厚度和均匀性至关重要,直接影响着后续光刻工艺质量,从而影响芯片成品的性能、良率和可靠性[33]。所以,怎么涂好光刻胶是一门学问,负责涂覆光刻胶的设备便是涂胶显...

从砂到芯:芯片的一生_腾讯新闻

芯片前期工艺包括光刻、干蚀刻、湿蚀刻、化学气相沉积、物理气相沉积、等离子冲洗、湿洗、热处理、电镀处理、化学表面处理和机械表面处理等,其中多个工艺会重复使用,非常复杂。每个前期工艺都对应着相应设备,包括光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入设备、热处理设备(氧化退火设备)、化学机械平摊(CMP)设...