翡翠豆种的透光性:了解它的光学特性和种植要求
1.折射率(Refractiveindex)折射率是介质中光线传播速度与真空中光线传播速度的比值。对翡翠对于,它具有相对较高的折射率(介于1.60至1.67之间),这使得光线在进入翡翠后发生弯曲和折射。2.折射率随波长的变化翡翠的折射率随着光的波长而有所变化。对大部分翡翠对于,蓝色光具有更高的折射率,而红色光则具有更...
关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的 10 件事
193nm的深紫外光,在水中的折射率为1.44,波长可以进一步缩短到134nm。“刀刃”,就这样变得更锋利了。太聪明了。这个方法,把DUV光刻设备,从“在空气里刻”的干式时代,直接带进了“在水里刻”的浸没式时代。但是,还不够。靠这个方法迭代“刀刃”,你有可能在你班里提提名次,把制造水平从28nm制程提升到2...
椭圆偏光法是什么?它是如何研究离子注入的损伤和退火效应的?
用电子计算机对测定数据进行处理,算出折射率n和消光系数的分布,所用公式,程序.图1是No.32样品(150keV,1016/cm2注入)的结果.主要是n分布;值精度较差,示以虚线.从本工作结果看,损伤层中折射率n与完整硅晶体的值不同,变大了,但该层的n的变化形状近似一个平台.Adams等、罗晋生等的结果却显出尖峰.离子注入...
国产光刻机突破28nm了吗
浸没式ArF光源本质上没有变化,还是193nm(光源功率才是量产机核心),只不过是在光刻机物镜和晶圆之间加入了超纯水,折射率提升到了1.44,变相的将193nm波长,等效缩小为134nm,进而提升了光刻机的分辨率。为什么会这样?前面说了,瑞利判据即CD=k1*λ/NA。由于加入了水的折射,我们可以对其做个变型,CD=k1*λ/n...
芯片内部为什么能这么小?100多亿个晶体管是怎么装进去的?
根据光刻分辨率公式中的三项,我们有了三种方案来打磨光这把刻刀。·增大光刻系统的数值孔径光刻成像系统中的投影物镜的数值孔径越大,分辨能力就越优越。具体操作是设计浸润式光刻机,即在晶圆和投影物镜最后一面镜头之间填充高折射率的介质。·缩短波长
没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?
以193nm光源的浸润式光刻机为例,其k1为0.28,水的折射率n为1.44,sinθ为0.93,其HalfPitch=(0.28×193)/(1.44×0.93)=54.04/1.3392≈40nm,即分辨率为40nm(www.e993.com)2024年10月20日。所以,如果要提高光刻机的分辨率,可以调整公式中的变量,扩大分母或者缩小分子,对应有四种可能性:即增加聚光角度,提升sinθ、提高介质的折射率n、降低k1系...
空芯光纤,为什么这么火?
在中学物理里面,我们学过一个重要的公式:v是光在某种介质中的传播速度。c是光在真空中的传播速度,也就是众所周知的约30万公里/秒。n是这种介质的折射率。光在不同的介质中,传播速度是不一样的。空气的折射率约等于1。而其它介质的折射率,都大于1。例如水的折射率是1.33,水晶是1.55,钻...
芯片内部为什么能这么小?电路城市的打造和精进
根据光刻分辨率公式中的三项,我们有了三种方案来打磨光这把刻刀。增大光刻系统的数值孔径光刻成像系统中的投影物镜的数值孔径越大,分辨能力就越优越。具体操作是设计浸润式光刻机,即在晶圆和投影物镜最后一面镜头之间填充高折射率的介质。缩短波长光刻过程的光波长已经经历了G线(432nm)、I线(365nm)、KrF(248...
折射率可以是复数和负数吗
从公式可以看出,电场的振幅随着x的增加而指数衰减,这就是吸收的效果。电场的相位随着x的增加而线性变化,这就是色散的效果。因此,复数折射率的实部n1(ω)决定了光在介质中的相位变化,也就是色散;复数折射率的虚部n2(ω)决定了光在介质中的振幅衰减,也就是吸收。
非均匀折射率场中光传输现象研究
本文中基于掠入射原理的阿贝折光仪(折射率测量范围1.300~1.700,精度0.001)进行测量[15],实验结果如图4所示。从图中可以看出,NaCl溶液折射率n在给定波长激光下随c呈线性变化关系,证明了公式(11)的正确性。我们在尺寸为23.40×78.40×39.20cm的玻璃水槽中按如下浓度分布...