三氯氢硅还原法制取高纯硅的化学原理
2022年10月13日 - 百家号
SiO2+3C=SiC+2CO(g)↑2SiC+SiO2=3Si+2CO(g)↑总反应式:SiO2+2C=Si+2CO(g)↑生成的硅由电炉底部放出,浇铸成锭。用此法生产的粗硅经酸处理后,其纯度可达到99.9%。第二步:SiHCl3的合成SiHCl3是由干燥的氯化氢气体和粗硅粉在合成炉中(250℃)进行合成的。其主要反应式如下:Si+3HCl...
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芯片制造过程中的化学反应
2022年5月24日 - 网易
净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺,高纯SiHCl3在H2气氛中还原沉积生成多晶硅,SiHCl3—Si反应见式(3):SiHCl3+H2一Si+HCl(3)多晶硅纯度:4N~6N(4个~6个9,99.99%~99.9999%)。3.3单晶硅制备由于多晶硅在力学性质、电学性质等方面均不如单晶硅,因此还须转变成单晶硅。将高温熔融的多晶硅采用旋转拉伸的...
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三孚股份: 三孚股份:年产5万吨三氯氢硅项目的可行性研究报告
2021年10月9日 - 证券之星
??????????????????????????????????????????????????三氯氢硅??5??万吨/年、四氯化硅??2??万吨/年,土建考??????????????????????????????????????????????????????????????????????????...
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