《环球时报》答读者问:芯片制程所说的“几纳米”指什么?

一般来说,芯片的纳米数,指的是芯片的制造工艺,或者晶体管电路的大小,单位是纳米。纳米是长度单位,等于十亿分之一米。在处理器芯片中,晶体管之间的距离就是间距。例如,晶体管间距为10纳米的芯片,就可称为“10纳米工艺”。晶体管间距越小,意味着同样尺寸的芯片上可以集成的晶体管就越多,芯片的结构就越复杂,相应...

苹果A15和A14有什么区别 有哪些机型?

高通对骁龙8+Gen1做出的重大改变之一是采用了台积电的制造工艺。所以苹果A15BionicSoC和骁龙8+Gen1都是由台积电制造的。高通采取这一步是为了改善速度和省电问题。但即便如此,仍然发现它落后于A15仿生芯片组。经过一系列性能测试,骁龙8+Gen1在渲染时比A15仿生芯片组消耗更多的电量。换句话说,在电池管理...

如果说7nm是制程工艺物理极限 那么1nm是什么概念?

芯片的制造工艺常常用90nm、65nm、40nm、28nm、22nm、14nm来表示,比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm制造工艺。现在的CPU内集成了以亿为单位的晶体管,这种晶体管由源极、漏极和位于他们之间的栅极所组成,电流从源极流入漏极,栅极则起到控制电流通断的作用。所谓的XXnm其实指的是,CPU上形成...

对话纳米压印技术发明人周郁:用变革性的新技术突破光刻瓶颈!

周院士：纳米压印替代的只是光刻环节，只有光刻的步骤被纳米压印技术代替，其他的刻蚀、离子注入、薄膜沉积等这些标准的芯片制造工艺是完全兼容的，能很好的接入和兼容现有产业，不用推翻重来。最重要的就是行业厂商要有信心和兴趣来使用纳米压印技术。Q：如何看待纳米压印技术与光刻技术的关系？是相互取代还是并存？周院...

重大突破!俄罗斯自研光刻机成功,已能制造350纳米级工艺芯片

中国目前的芯片工艺水准以14纳米和90纳米为主，正朝着7纳米甚至5纳米领域攻关。虽然外界长期以来一直认为中国研发芯片只是近十几年的事情，但实际上早在上世纪60年代，中国就已经开始关注这方面的技术空间。当时我们只有研发人员，缺乏相关配套的研究室和机器，再加上资金有限，无法负担如此庞大的项目，因此研发一直局限...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么?接近ASML 2015年的水平

光刻机性能如何,有两个关键所在:一是光刻机波长,二是物镜系统的数值孔径(NA)(www.e993.com)2024年11月9日。根据知名公式——瑞利判据,即CD=k1*λ/NA。CD代表线宽,即芯片可实现的最小特征尺寸;λ代表光刻机使用光源的波长,NA指的是光刻机物镜的数值孔径,也就是镜头收集光的角度范围;k1是一个系数,取决于芯片制造工艺有关的众多因素。

小米自研芯片消息如期而至:台积电N4P工艺,2025年亮相?

另外,芯片制造也不容易。目前,全球最先进的芯片制造工艺掌握在少数几家厂商手中,如台积电、三星等。小米要想制造出自己的芯片,就必须与这些厂商合作。但是,这些厂商的产能有限,订单也很多,不一定能满足小米的需求。而且,芯片制造过程中还会遇到各种技术难题,如良品率低、成本高等。

骁龙870有哪些手机 巅峰版和870有啥区别?

2.天玑1100具有CortexA78内核,采用6nm制造工艺,而骁龙870具有CortexA77内核,采用7nm制造工艺。3.与天玑1100上的MaliG77MC9相比,配备Adreno650的骁龙870具有更好的图形性能。4.骁龙870支持4k@60Hz显示,但联发科支持FHD+@144Hz显示。

考研集成电路就业方向

半导体工艺线生产是集成电路制造企业中的关键环节。研究生可以在这个岗位上负责半导体芯片的制造和加工工艺。他们需要掌握半导体材料的特性和制造工艺,能够根据产品需求和工艺要求,制定出合理的生产工艺流程,并进行工艺参数的优化和调整。此外,他们还需要具备良好的数据分析和问题解决能力,以及对新技术的敏感度,不断推动工艺...

英特尔与美国国防部深化合作,采用 18A 工艺生产芯片

IT之家4月23日消息,美国芯片制造商英特尔与美国国防部进一步加深合作,共同研发全球最先进的芯片制造工艺,这项合作是双方在两年半前签署的“快速可靠微电子原型”(RAMP-C)项目的第一阶段基础上拓展而来的。IT之家注意到,此次合作将使美国政府首次能够获得用于制造尖端芯片的领先技术。双方将合作生产采用英特尔未来...