中国台湾宣称要限制2nm芯片技术出口,日本如何还能分一杯羹?

该光刻机的功能主要是用于先进制程的芯片生产，能够生产2纳米及更小尺寸的芯片。Rapidus计划于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将包括EUV光刻机在内的200余台设备。按照Rapidus计划，2027年，公司开始量产2纳米芯片，并有可能进一步生产1.4纳米芯片。除Rapidus外，日本未来还有至少两家晶圆厂将先后导入先进的...

详解中国的芯片瓶颈到底在哪里?看懂了,投资机会才不会溜走

中国领先的生产商中芯国际可以生产28纳米芯片，远远落后于全球领先的2至3纳米。据报道虽然中国目前正在为最新的华为智能手机生产7纳米芯片，但据信这款芯片使用了一种不太先进、效率较低的光刻技术，所使用的机器是在美国管制生效前从ASML获得的。中芯国际在每片晶圆上的芯片成功率可能很低，在商业...

中国拥有了光刻机为什么让美国害怕到发抖?真正的原因谁都没想到

完全自主的光刻机如果是28nm制程,那可以自主生产出来相当于每西方水准多少纳米水准的芯片呢?很好算,就是10nm。现在中国用自主的完全自己生产的光刻机,已经可以完全不需要美西方就生产出10nm制程的芯片了,这才是让美西方瑟瑟发抖、魂飞魄散的真相了。要知道,现在全世界使用的芯片,90%以上都是14nm制程以上的芯片。

天大的好消息,全新国产光刻机曝光,套刻≤8纳米,什么水平?

阿斯麦的“NXT:1980Di”那可是浸润式DUV的典型呢，它分辨率能到38纳米，靠着多重曝光，7纳米制程的芯片它都能生产。全球最牛的光刻机得数阿斯麦的“EXE:5000”了，它用的是13.5纳米的极紫外光源，分辨率能达到8纳米呢，这是朝着3纳米制程去研发的。不过啊，这玩意儿现在少得很，就英特尔买了一台，还在样机阶...

突破!俄罗斯制造出了第一台可以生产350nm芯片的光刻机

第一台俄罗斯国产光刻机问世,2024年,350纳米!多……多少?我以为我多看了一个0,俄罗斯和世界差距25年。虽然落后25年,但是还是可以追一追嘛!总归比F22A强,F22A用的500纳米芯片,可见俄罗斯军用90纳米芯片全是进口生产线量产的。350nm属于什么水平呢?中国落后美国两代,俄罗斯落后美国20代!因为美国制裁,现在俄罗斯进口...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米(www.e993.com)2024年11月28日。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

中国芯片加速5纳米量产,以现有设备实现先进工艺的突破

据了解北京一家企业正在研发一种利用现有光刻机生产5纳米工艺的技术,预计很快就能实现量产,该工艺的核心技术是自对准四重图案化(SAQP)技术,类似技术曾被台积电用于7纳米,Intel也曾试图利用该项技术。Intel是最早考虑多重曝光技术的,2014年它就已量产14纳米工艺,2016年ASML还没量产EUV光刻机,Intel就试图利用DUV光刻...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国自己的7nm光刻机,是不是真的造出来了?起因,是9月9日国家工信部发布的一个通知:《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》。有人发现,《目录》里有2行,不对劲。很不对劲。看图。这两行,是什么意思?是连一个形容词都没有,就突然静悄悄地官宣了中国自己的新光刻机吗?

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么?接近ASML 2015年的水平

《中国经营报》记者注意到,该文件一经发布后,关于国产光刻机取得大突破的言论“喜大普奔”,还有人把“套刻≤8nm”误认为8nm光刻机。事实上,套刻精度指的是每一层光刻层之间的对准精度,而≤8nm的套刻精度并不一定代表能制造8nm工艺的芯片。“光刻机套刻小于8纳米,逻辑上对应的区间,也能上到成熟区间,甚...

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

“百业凋零”的俄罗斯,对中国越来越依赖俄罗斯造出光刻机,可量产350纳米芯片5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。俄罗斯曾经号称世界第二军事强国,但在半导体领域却落后西方至少25年。百业...