中国光刻机再创辉煌:从436纳米到7纳米,国产技术直逼阿斯麦

工信部提到的两款国产DUV光刻机，就是使用氟化氩和氟化氪这两种光源。最新一代的光刻机则厉害了，波长缩至13.5纳米，这就是我们常常听到的极紫外光（EUV）光刻技术。如今，顶尖的半导体芯片，举例来说像由台积电代工的苹果A18Pro，便是利用这一技术制成的。因此，光刻机的发展呈现出一个逐步升级的轨迹，波长越...

图说光刻机的4大核心技术

ArFi(ArF浸没式光刻):ArFi是"ArgonFluorideImmersionLithography"的缩写,指的是使用ArF(氟化氩)激光源的浸没式光刻技术。ArFi光刻技术使用193纳米波长的光源,通过浸没式在光刻机镜头和硅片之间使用液体(通常是水)作为介质,来提高光的分辨率。这种技术允许在45纳米及更大工艺节点的芯片制造中实现更高的精度。ArFi...

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新型纳米压印光刻机

佳能在去年十月发布了全球首台商业化纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C，公司表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案，相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。关键优势是便宜佳能表示，相较于传统光刻机需要复杂的光学镜片构造，纳米压印设备的构造更为简单，功耗仅需十分之一。同时还能通过单次压印形成...

生命科学领域“光刻机”全球竞速,中国企业在纳米孔测序仪新赛道...

“马达蛋白的工作需要ATP,它需要用镁离子才能激活,我们通过在纳米孔周围形成一个非常小的局部镁离子浓度的环境,且镁离子浓度可控,从而实现调控马达蛋白。”所谓的马达蛋白,是在DNA链穿过纳米孔时起牵引作用,也被称为是纳米孔测序的动力源。杭州华大序风科技有限公司(下称“华大序风”)总经理董宇亮对澎湃新闻(...

工信部首台套光刻机,到底是几纳米的

英特尔断供华为芯片,华为两大动作让其认清现实36评论2024-10-2000:35老婆说这个装备很厉害,兄弟们帮我看看是真的吗?广告伏魔战歌了解详情6073|03:01我们五十多年前的技术,至今仍然世界前三2评论2024-08-301.6万|02:27中国的灭蚊神器,印度想要购买9评论2024-08-281.4万|06:52八旬芯片大佬,...

专家访谈精华:国产光刻机突破65纳米

建议的设备分辨率为65纳米或更高,相比此前最先进的国产设备(上海微电子的90纳米光刻机),实现了重大提升(www.e993.com)2024年11月23日。■该公告虽未提及具体供应商,但包括氧化炉、干法刻蚀机等设备在内的多个国产芯片制造设备已被推荐使用。■当前,中国的芯片制造设备研发依然面临挑战,特别是与阿斯麦(ASML)等国际领先供应商的技术差距,尽管...

光刻机板块仅一家,掌握全球少数纳米光刻技术,腰斩后量能放大4倍

今天财报翻译官将深入分析一家深耕光刻工艺10多年,在国内率先实现MEMS光刻工艺产业化应用的企业,它就是泰晶科技。公司是全球少数几家掌握晶体微纳米MEMS光刻技术的企业,并在国内率先实现了国产替代。目前,这家企业已经大幅回撤了72%,并于近期量能开始放大。在本周四,公司的成交金额只有7275万元。而在周五,这家企业...

3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?

第一步:理解光刻技术。光刻技术是指通过使用光将电路图案转移到硅片上的过程。传统上,我们使用的是193纳米的深紫外(DUV)光源。然而,随着芯片特征尺寸越来越小,传统DUV光源难以实现精细的图案。图:EUV光刻机第二步:引入EUV技术。EUV(极紫外光刻)使用13.5纳米的波长,可以更好地刻蚀出精细的图案。EUV技术有助于...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

“光刻机套刻小于8纳米,逻辑上对应的区间,也能上到成熟区间,甚至更高一些。但别指望它覆盖手机用的处理器工艺,主要还是面向成熟区间。”半导体行业资深观察人士王如晨对记者表示,工信部文件表格里不止氟化氩光刻机,还有配套设备,是个小生态,“看工艺节点,都侧重成熟区间,尤其28纳米”。

厉害了!俄罗斯首台光刻机制造完成,可生产350纳米工艺的芯片

5月25日,据塔斯社报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试!消息显示,该设备可生产350纳米工艺的芯片!消息强调,350纳米芯片可用于汽车、能源和电信等多个行业,而且俄罗斯接下来的目标是在2026年制造出130纳米工艺的光刻机!目前,我国可以生产7纳米芯片,但仍有很多人指出远远落后于欧美国家。其实,...