5nm已量产,3nm还会远吗?重要性比肩光刻机的刻蚀设备——中微公司

CCP刻蚀设备:主要用于刻蚀氧化物、氮化物等硬度高、需要高能量离子反应刻蚀的介质材料,为65纳米到5纳米及更先进工艺的芯片制造提供创新的解决方案。ICP刻蚀设备:主要用于刻蚀单晶硅、多晶硅等材料,为1X纳米及更先进工艺的逻辑和存储器件刻蚀应用提供创新的解决方案。图|中微刻蚀设备来源:公司公告在逻辑芯片...

光刻机概念股开盘走强 张江高科、永新光学均2连板

消息面上,广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年),其中提出,大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。

2024年中国刻蚀机市场现状及重点企业预测分析

中商情报网讯：刻蚀机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器，主要用于制造微细结构，通过将化学反应物和物理能量相结合，去除材料表面的一部分，从而创建所需的微细结构。市场规模刻蚀机主要用来制造半导体器件、光伏电池及其他微机械等。近年来，全球刻蚀机市场规模呈增长趋势。中商产业研究院发布的《2024-2029...

从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘

刻蚀是指使用化学或物理方法有选择地在硅片表面去除不需要的材料的过程,根据工艺的不同,刻蚀机可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀,目前,干法刻蚀已占据大部分市场。干法刻蚀中根据离子能量不同,可以主要分为ICP刻蚀设备(硅刻蚀、金属刻蚀)、CCP刻蚀设备(电介质刻蚀),二者市场份额几乎相当。从全球市场来看,Lam、TEL和AMAT几乎...

中国5nm刻蚀机研发成功 复杂程度不亚于“两弹一星”

钛媒体视频尹志尧谈刚刚研发成功的国产刻蚀机,是世界上最有顶尖水平的刻蚀机,复杂程度不亚于“两弹一星”

离子束刻蚀机项目(第2次)招标公告(2023-YK01-W1371)

离子束刻蚀机招标项目的潜在投标人应在湖南省长沙市获取招标文件,并于2024年10月10日09点00分(北京时间)前递交投标文件(www.e993.com)2024年11月20日。一、项目基本情况项目编号:2023-YK01-W1371项目名称:离子束刻蚀机预算金额:0.000000万元(人民币)最高限价(如有):720.000000万元(人民币)...

国际先进芯片制造生产线用了中国公司近600台刻蚀机?上海半导体...

如果将芯片制造比作雕刻，光刻机就是将雕刻线稿（电路图）描绘在材料（晶圆表面）上的画笔，刻蚀机就是负责剔除线稿多余部分的雕刻刀。尹志尧在论坛上介绍，中微公司的等离子体刻蚀机，相当于在头发丝直径七千分之一到上万分之一的尺度上加工微观结构。一台刻蚀机每年要加工10的18次方，相当于打出百万万亿个又细又...

全球及中国刻蚀机行业发展现状及竞争格局分析,市场规模有望持续...

刻蚀机是一种用于制造微细结构的设备,常见于半导体、光学和电子工业中。该设备通过将化学反应物和物理能量相结合,去除材料表面的一部分,从而创建所需的微细结构。刻蚀可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀,湿法刻蚀各向异性较差,侧壁容易产生横向刻蚀造成刻蚀偏差,通常用于工艺尺寸较大的应用,或用于干法刻蚀后清洗残留物等。

半导体刻蚀机行业专题报告:国产替代空间充裕

(1)刻蚀设备是半导体器件加工的上游核心环节之一,上游零组件逐步国产化,下游晶圆扩产逐步带动国产设备技术进步与占有率提升。1)刻蚀机产业链的上游为各类零件及系统的生产供应商,主要分为预真空室、刻蚀腔体、供气系统、真空系统四大部分,各个环节均涉及一定的核心零部件。目前国内已有多家厂商涉足相关核心零件的生...