国产光刻机突围!上海国产光刻机在国内产线上实际应用情况

接下来，要想清楚光刻机为什么这么难突破，需要简单了解一下光刻机的工作原理。简单说，光刻机主要通过一个特定波长的光源，将芯片设计的电路图案投影到芯片上。它类似于“投影仪”，但是精度要求却高得令人发指。为了实现图案的稳定精准转移，那必须得用极紫外光（EUV）或深紫外光（DUV）光源系统。不同的工艺节...

特大喜讯!中国第一台芯片光刻机,成功交付使用!

众所周知，光刻机被称为“芯片制造的皇冠明珠”，它的重要性简直不用赘述。要生产出一颗微型芯片，光刻机的精度和能力就是最大的制约因素。当前全球光刻机技术被荷兰的ASML公司牢牢控制着，而打破这一垄断，真不是一朝一夕的事，更像是啃硬骨头，碰一鼻子灰的大冒险。实际上，早在十多年前，中国就已经对这项...

茂莱光学:公司基于核心技术生产的大口径光刻机曝光物镜用光学器件...

公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜,以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件,是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。公司基于核心技术生产的大口径光刻机曝光物镜用光学器件突破常规透镜尺寸和精度的指标要求,面形精度可达到小于30nm。感谢您对公司的关注!点击进入交易所官方互动...

旭光电子:大功率电子管产品已应用于国内头部光刻机企业并实现批量...

旭光电子：大功率电子管产品已应用于国内头部光刻机企业并实现批量供货旭光电子：大功率电子管产品已应用于国内头部光刻机企业并实现批量供货财联社10月24日电，旭光电子在互动平台表示，公司生产的大功率电子管产品已应用于国内头部国产光刻机及半导体设备制造企业，并实现批量供货。

重大突破!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

我们必须认识到，我国在高铁技术领域已经积累了数十年的研究经验，而光刻机技术则刚刚起步。要想达到3纳米、2纳米等尖端工艺水平，我们还有很长的路要走。但是，只要我们坚定信心，稳扎稳打，持续加大科研投入力度，必定能够取得新的技术突破。总结来说，这款国产光刻机的顺利交付，无疑是一个重大的历史性进展。尽...

...用5到8年等一批“未来”?不用这么久,光量子芯片生物医药光刻机...

康码解决的是生物医药底层制造技术,好比生物医药下一代的“光刻机”(www.e993.com)2024年11月6日。郭敏自主研发的D2P(DNA-to-Protein)无细胞蛋白质合成创新技术,最早从一个理论模式出发,需要漫长的时间验证,还需要实现材料、技术、软件、算法、工艺等突破,成功机率很低。然而早在8年前,蔡伦路781号张江药谷孵化器内,康码就有了自己的实验室。

光刻机,被老美卡脖子。大飞机,曾经要用8亿件衬衫才能换一架

光刻机,被老美卡脖子。大飞机,曾经要用8亿件衬衫才能换一架。在AI领域,美国又一次率先发力。当今大国之间的竞争是全方位、多维度的,必须承认,由于起步晚,我们很多领域的科技实力不如欧美,唯一能做的,就是努力追赶。让人惊喜的是,在中国科技企业孜孜不倦的努力下,我们许多高端制造业已经超越欧美,成为世界...

光刻机的故事(上):如何用极紫外光制造电路板?

光刻机是如何发展起来的?本文分为上下两篇来介绍这个故事:●第一:光刻技术的基础和早期发展,包括极紫外光刻技术(EUV)的起源和初步挑战。●第二:EUV技术如何克服这些挑战,并最终成为半导体制造中的关键工具。Part1光刻技术的发展在半导体fabrication中,光刻是使用光敏感化学物质在硅晶圆上刻印电路的过程。

台积电掀桌子,用旧光刻机也能生产2nm芯片,不花冤枉钱

但是,问题来了,当工艺再前进,这些光刻机又要更新换代,比如生产2nm及2nm以下芯片时,可能需要用到NA=0.55的High-NAEUV,如果又要买上百台,就是300多亿美元。这对台积电这样的巨头而言,也是一笔无法承受的开支,自己辛辛苦苦赚钱,最后全被ASML赚去了,真的是忍无可忍啊。

俄罗斯仍有5台ASML光刻机可用!就是……太老了

需要指出的是,除了在制裁前进口的少数西方光刻机外,俄罗斯制造商还可以从明斯克的Planar工厂获得光刻机。这些光刻机在350nm的波长下工作,最小特征尺寸为500nm,代表了1995年出现的一种技术,但到1999年已经过时。半导体原材料供应俄罗斯自己制造芯片还存在另一个问题,那就是其本土缺乏必须的半导体材料供应商,比如半...