中国7nm光刻机技术突然申请专利!外国议论纷纷,背后更多人急了

这项专利的核心技术主要集中于对光刻机中极端紫外线光源系统的优化以及创新。通过精心设计，利用电场来限制带电粒子的运动路径，这项技术能够高效地收集并处理光刻过程中产生的有害带电粒子，例如锡碎片等，从而有效地延长收集器镜的使用寿命，同时也能显著提升光刻设备的整体性能和稳定性。工业和信息化部早前发布的《...

光刻产业链是半导体“皇冠上的明珠”!这些光刻机概念股有望受益

光刻机根据光源不同（对应波长不同）可分成：紫外（UV）光刻机、深紫外（DUV）光刻机、极紫外（EUV）光刻机三类，对应不同纳米制程节点款芯片的制造需求。EUV是目前最先进的光刻设备，整体结构与DUV类似，它对各子系统的精密度要求极高，目前EUV市场被ASML公司垄断。光刻机主要由光源系统、曝光系统（分为照明模组...

图说光刻机的4大核心技术

光线在经过水时,会有折射,所以虽然ArFi光刻机采用193nm波长光源,等经水折射时,等效于134nm波长的光源,所以这种光刻机,叫做浸润式光刻机。EUV(极紫外光刻):EUV代表"ExtremeUltravioletLithography",即极紫外光刻技术。它使用波长大约为13.5纳米的极紫外光进行芯片制造过程中的光刻过程。由于EUV光的波长远远小于传...

源达研究报告:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

四、光刻机国产化曙光已现,65nm光刻机有望突破上海微电子是最有望打破光刻机进口垄断的国产公司。根据公司公众号信息,公司在LED系列光刻机和先进封装光刻机领域全球市占率第一,目前公司官网发布的SSA600/20光刻机,采用深紫外光源(DUV),光刻精度达90nm。同时公司正在进行28nm浸没式光刻机的研发工...

Jim博士:EUV专利等于有了光刻机?对于EUV光刻的基本认知误区!

Jim博士:EUV专利等于有了光刻机?对于EUV光刻的基本认知误区!很多社交平台网友对于技术发展的理解,可能停留在某某公司发表了一个专利的水平。如果看到某个公司发表了一个EUV专利,就认为它快要攻克光刻机,那就是一个典型的笑话。比如,韩国三星2024年4月12日在中国的一个专利申请公开,其内容就是“极紫外光源”...

上海微电子突破极紫外光刻技术,中国半导体崛起国际舞台

上海微电子的最新行动在半导体领域引发了无数热议(www.e993.com)2024年11月14日。该公司选择在德国申请了6项极紫外光刻机(EUV)关键专利，立即成为全球焦点。这无疑透露出一个信号：中国在高端半导体设备上的技术水平和市场地位，正在迅速崛起。这一事件背后，包含了中国企业在国际舞台上力争上游的决心和策略。半导体行业一直被视为高科技领域的皇冠...

重大突破!极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业标准界限,功耗比...

日前,据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校的津守教授设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞线)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氩)、ArFi(浸润式氟化氩)、EUV(极紫外)五大类。此次入选推广目录的氟化氩光刻机,应属于干式ArF光刻机。在具体指标上,与ASML旗下TWINSCANNXT:1470以及TWINSCANXT:1460K类似。

光刻机的故事(上):如何用极紫外光制造电路板?

光刻机是如何发展起来的?本文分为上下两篇来介绍这个故事:●第一:光刻技术的基础和早期发展,包括极紫外光刻技术(EUV)的起源和初步挑战。●第二:EUV技术如何克服这些挑战,并最终成为半导体制造中的关键工具。Part1光刻技术的发展在半导体fabrication中,光刻是使用光敏感化学物质在硅晶圆上刻印电路的过程。

国产光刻机重大突破 工信部印发推广指导

而更先进的极紫外(EUV)光刻机此前早已被完全禁止出口中国。中国商务部新闻发言人9月8日表示,近来,中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上,进一步扩大对光刻机的管制范围,中方对此表示不满。文/北京青年报记者朱开云...