...芯片制造工艺:光刻(中)--新曝光方式之电子束、X射线、离子束
离子束与电子束的区别在于他们的质量,最轻的离子如氢离子也是电子质量的1840倍。离子源:液态金属离子源(LMIS)是利用液态金属在强电场作用下产生场致离子发射所形成的的离子源。LMIS最早是以镓为发射材料,目前仍是应用最普遍的离子源。气体场离子源(GFIS)是通过高电场使气体原子电离形成的离子源。氦离子GFIS是最...
超高效液相色谱质谱UPLC-q-tof-MS步骤
10.MSTune在3-4天不用或一星期不用时,将Source温度降至60℃或80℃;11.清洗离子源:(1)先降温,再清洗;(2)若不是很脏,则50%甲醇+50%水清洗;(3)若很脏,清洗试剂依次为:45%甲醇+45%水+10%甲酸;100%水;100%甲醇;d.N2吹干;12.样品制备:(1)用流动相溶样;(2)用0.22μm样品过滤膜过滤...
关于质谱仪的使用,这篇文章都全了!
1.负离子:PPG300010ul/min。2.正离子:1/10PPG5ul/min(API3000)1/50PPG5ul/min(API4000)。3.每次重新开机,不关机时,每三个月。三、清洗CurtainPlate,Orifice,Skimmer和Q0:1.清洗CurtainPlate:用无尘纸加甲醇擦洗。2.清洗Orifice外部:拆卸CurtainPlate后,用无尘纸加50水/50甲醇擦洗。
LCMS-IT-TOF | 离子阱飞行时间质谱日常维护
03清洗离子源为了仪器有良好的性能建议进行离子源的日常清洗,在进行离子源清洗前,需要将离子源高压电源,加热及气体关闭。等待离子源温度降至室温后再进行维护,日常离子源维护使用无尘纸或无尘布,并使用甲醇水清洗。(注:清洗过程请全程戴好手套)首先用手拧松两颗离子源固定螺母,将离子源从离子源腔内拿出,然后使用...
7.42亿元!复旦大学107项仪器采购意向
质谱离子源部分-2.1.1离子源包含可加热电喷雾离子源2.1.2离子源包含纳升电喷雾离子源2.1.3质谱可以直接进样2.1.4质谱软件须具备实时监控并反馈喷雾稳定性功能2.1.5离子源腔体具有观察窗口2.2离子传输系统2.2.1须配置离子传输管2.2.2须配置电动离子漏斗2.2.3须配置主动离子束传输组件2.3第...
RIE反应离子刻蚀机在半导体工艺中的应用
RIE反应离子刻蚀机中的刻蚀过程需要在真空环境下进行,因此设备内部有一个真空室(www.e993.com)2024年10月26日。真空室通过抽气系统将气体抽成真空,使真空度达到所要求的工坐条件。离子源产生高能离子束,用于蚀刻材料表面。常用的离子源包括高频电离源和射频电离源。离子源通过加热或电离气体将气体转化为离子。
中华人民共和国农业农村部公告第355号
8.阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂或无机阴离子可使本品失去活性,勿将本品与自来水、其它化学品、消毒剂或其它用于乳头、乳房护理的产品混用,勿使用本品清洗或消毒挤奶设备。9.使用本品过程中,避免接触眼睛。若溅入眼睛,请用大量水先冲洗并就医,若误食本品,需大量饮水并就医,使用本品后,请洗手。
液质联用仪常见器件的维护|毛细管|锥孔|润滑油|过滤器_网易订阅
同时,清洗时也应当将离子源温度降到室温、关闭阻断阀、旋开固定锥孔的螺丝,在取下锥孔后滴数滴甲酸,将其浸润几分钟后进行超声清洗即可。需要注意的是,在锥孔超声清洗过程中,操作人员应避免手触碰到锥孔尖以免影响到灵敏度。2.粗真空泵的维护真空泵包括需油的回转泵及无油的涡旋泵,故而真空泵需注意观察润滑...
芯人必读丨破译圈内暗语!收好这份半导体词典
在半导体工业上常在很纯的硅芯片上以预置或离子植入的方式做扩散源(即红墨水)。因固态扩散比液体慢很多(约数亿年),故以进炉管加高温的方式,使扩散在数小时内完成。这样的炉管就叫做扩散炉。DIWater去离子水IC制造过程中,常需要用酸碱溶液来蚀刻,清洗芯片。这些步骤之后,又须利用水把芯片表面残留的酸碱清除。
长假前,实验室必做的几件事—色谱篇
放假前除尘和离子源的维护除尘内部除尘:采用吸尘器或软毛刷清洁质谱处的灰尘,以下是我们除尘后图片:表面清洁:釆用棉质的毛巾,擦试仪器外表面。离子源维护GC-MS的话,如果要大维护,那就是弄质谱那边了。洗离子源比较费时间,如果比较脏,又不太熟练,一台机弄一天也是常见的事。如果放假之前没啥做的话可以提...