中国越来越强大,科技产业高速发展,光刻机技术已经处于世界前列
现在呀,ASML的中国区公司讲了2024年校园招聘活动开始啦,要开放总共200多个岗位呢,招聘的岗位把光刻机技术、计算光刻和量测业务这三大业务线都涵盖啦,一起就组成了ASML光刻解决方案的“铁三角”。这么一看呀,ASML作为光刻机领域的领头企业,对中国优秀工科人才的认可与欣赏呢。同时,阿斯麦公司选择继续...
光刻胶产业化又传利好 背后公司成立不足5个月 成色几何?
目前,我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显示,其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重,国产化率均仅在1%水平。西部证券(7.990,-0.27,-3.27%)指出,我国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口,本土厂商虽起步较晚,但目前处于国产化加速期。彤程新材(31.780,-0.35,-1.09%)、华懋科技(21.630,-0.21,-0.96%)...
我国实现半导体关键技术突破:重要性可与光刻技术匹敌
长期以来,我国半导体产业由于该领域核心技术及装备工艺的缺失,在高端化发展中受到严重制约,尤其是高压功率芯片(600V以上)长期依赖进口。但面对外国技术封锁,核力创芯团队毫不退缩。在短短三年内,他们凭借坚韧不拔的科研精神和卓越的创新能力,成功突破多项关键技术壁垒,实现了从技术研发到设备制造的全面国产化。这一...
港媒:国产光刻机宣布重大技术突破,但半导体自给之路仍负重致远
国产光刻机此次取得的突破,尽管尚未达到国际领先水平,但其意义极为重大。这一成就表明,中国正在逐步实现半导体技术的自主可控,为未来科技产业的长远发展奠定了坚实基础。光刻机被称为“芯片制造皇冠上的明珠”,研发难度极大,融合了光学、精密机械、材料、化学、软件等多学科的综合技术。因此,光刻机并非只是单一的...
我国又一半导体关键技术突破 不亚于光刻技术
长期以来,由于该领域核心技术及装备工艺的缺失,我国半导体产业的高端化发展受到严重制约,尤其是高压功率芯片(600V以上)长期依赖进口。面对外国技术封锁和装备禁运的不利局面,核力创芯团队在短短三年内,凭借坚韧不拔的科研精神和卓越的技术创新能力,成功突破了多项关键技术壁垒,实现了从技术研发到设备制造的全面国产化...
我国半导体制造核心技术突破 仅次于光刻的重要环节打破国外垄断
国家电投表示,这标志着我国已全面掌握功率半导体高能氢离子注入核心技术和工艺,补全了我国半导体产业链中缺失的重要一环,为半导体离子注入设备和工艺的全面国产化奠定了基础(www.e993.com)2024年10月17日。据国家电投介绍,氢离子注入是半导体晶圆制造中仅次于光刻的重要环节,在集成电路、功率半导体、第三代半导体等多种类型半导体产品制造过程中起着关...
仅次于光刻、我国半导体制造核心技术突破,核力创芯首批氢离子注入...
核力创芯的技术突破,打破了国外垄断。核力创芯在不到三年的时间里,突破多项关键技术壁垒,实现了100%自主技术和100%装备国产化,建成了我国首个核技术应用和半导体领域交叉学科研发平台。首批交付的芯片产品经历了累计近万小时的工艺及可靠性测试验证,主要技术指标达到国际先进水平,获得用户高度评价。IT之家查询...
我国半导体制造核心技术突破 仅次于光刻的重要环节打破国外垄断...
核力创芯的技术突破,打破了国外垄断。核力创芯在遭遇外国关键技术及装备封锁的不利条件下,坚持自力更生,自主创新,打造新质生产力,在不到三年的时间里,突破多项关键技术壁垒,实现了100%自主技术和100%装备国产化,建成了我国首个核技术应用和半导体领域交叉学科研发平台。首批交付的芯片产品经历了累计近万小时的工艺...
“半导体+光刻机”第一黑马,国家大基金加仓7368万股!空间直冲1000...
过去,我国高端光刻机主要依赖进口,尤其是ASML的产品。然而,随着美国及其盟友的技术封锁加剧,光刻机等关键设备的进口之路愈发艰难,给我国半导体产业带来了严峻挑战。但挑战往往伴随着机遇。面对外部压力,中国科技界迎难而上,自主创新步伐坚定。短短数年间,我国光刻技术取得了从90纳米到28纳米的显著进步,并正向14纳米...
从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘
从工艺覆盖角度来看,除了光刻机,国产设备在成熟制程上基本已经突破,除了提升成熟制程设备的工艺覆盖度以外,正在积极进行先进技术节点的突破。图表3:2023年细分半导体前道设备的国产化率情况数据来源:公开资料、来觅数据整理美国对我国先进技术节点的生产设备等禁运,导致国内先进技术节点发展受阻;成熟制程的扩产符合...