化学品装完不洗就装食品,港航人不这么做 | 港口圈

为了清洗到位,罐箱界发展出了好几套“搓澡清洗”方法。1、化学“泡澡”,使用化学清洗剂,使物体表面污垢转化、溶解、并剥离开,适用于一些化学品货物;2、蒸汽“桑拿”,采用高温去脂或消毒,适用于食品级酒精等;3、人工、机械“搓澡”,清洗人员进入罐内利用工具或设备进行清洗,适用于硅溶胶等货物;4、物理“冲澡”...

做大海思,实现中国半导体全产业自主可控

清洗、光刻、研磨四大工艺化学材料全覆盖，具体产品线上，电镀液及添加剂产品覆盖90-14nm，其中20-14nm产品实现量产销售；干法蚀刻后清洗液14nm以上全覆盖；用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液打破国外技术垄断；PCMP已进入客户端；KrF光刻胶持续通过客户验证，2022年6月开始批量连续出货，ArF光刻胶处于客户...

硅溶胶在化学机械抛光(CMP)领域的应用

因为抛光浆料的选取要满足易清洗、抛光速率快以及抛光均匀性好等特点,而硅溶胶作为一种软质磨料是在SiO2磨粒表面包覆一层无色透明胶体,使其硬度比SiO2磨粒更软,其粒度约为0.01-0.1um,加工时抛光表面不易造成划伤,同时其胶体粒子直径为纳米级,具有较大的比表面积,高度的分散性和渗透性,因其粒子表面常吸附OH-而带...

集装箱的清洗消毒与人员防护

1、化学清洗,如集装箱活动房装运货物为环氧树脂、环氧氯丙烷等货物的清洗。2、机械清洗,如装运货物为硅溶胶等货物的清洗。3、蒸汽清洗,如集装箱活动房装运货物为食品级酒精等货物的清洗。蒸汽清洗一般对集装箱箱体无损伤,但有可能会导致阀门密封件因热胀冷缩和挤压受力而泄漏。蒸汽清洗适用于需要高温去脂、...

从砂到芯:芯片的一生

资料来源丨上海硅产业招股书[6]不同类型晶圆片生产流程极为复杂:抛光片生产环节包含拉晶、滚圆、切割、研磨、蚀刻、抛光、清洗等工艺;相对于其他工艺过程,每片晶圆的每道工艺只需1美元,外延生长每片晶圆大约需要20～100美元,所以外延工艺是集成电路制造中最昂贵的工艺过程之一[7],外延片主要为在抛光...

从砂到芯:芯片的一生_腾讯新闻

资料来源丨上海硅产业招股书[6]不同类型晶圆片生产流程极为复杂:抛光片生产环节包含拉晶、滚圆、切割、研磨、蚀刻、抛光、清洗等工艺;相对于其他工艺过程,每片晶圆的每道工艺只需1美元,外延生长每片晶圆大约需要20～100美元,所以外延工艺是集成电路制造中最昂贵的工艺过程之一[7],外延片主要为在抛光片的基础上...

加快固废资源转化,协同推进减污降碳,助力双碳目标实现

本书的研究内容是作者团队在高铝粉煤灰铝硅锂镓综合利用领域多年研发工作的总结,旨在为煤基固废等复杂人工矿物资源的高效清洁循环利用提供重要的科学借鉴。本书可作为高等院校化工、材料、矿物加工等专业的本科生和研究生参考书,亦可作为科研工作者、工程人员、企业技术人员的参考书。

安集科技2021年年度董事会经营评述

在化学机械抛光液板块,公司与国内具备优质研发及生产能力的合作伙伴合资成立子公司山东安特纳米材料有限公司,建立关键原材料硅溶胶的自主可控生产供应能力,其开发的多款硅溶胶已在公司多款抛光液产品中通过内部测试,并在积极与客户合作进行测试验证中;同时,公司通过自研自建的方式加强了氧化铈颗粒的制备和抛光性能的自主...

CMP工艺技术浅析

在化学机械抛光液板块,公司在用于28nm技术节点HKMG工艺的铝抛光液取得重大突破,打破国外厂商垄断;基于氧化铈磨料的抛光液实现国产自主供应,目前已在3DNAND先进制程中实现量产并逐步上量;衬底抛光液取得突破性进展,已进入量产的准备阶段;公司通过合资成立子公司山东安特纳米建立了关键原材料硅溶胶的自主可控生产供应能力、通...

中共陕西省委 陕西省人民政府 中央第三生态环境保护督察组交办...

试验中工人使用少量硅溶胶(白色、似涂料),采用手工覆砂,在密闭厂房内进行,不产生有机废气和粉尘污染。未发现新增的沾浆机、浮砂机等设备存在使用痕迹。属实市生态环境局灞桥分局要求企业在施工过程中严格按照环评要求落实各项污染防治措施;督促企业在项目建成后立即进行环保竣工验收,确保污染物达标排放。D2SN...