广州德芯申请基于移动磁场的磁控溅射镀膜专利,提高生产效率
金融界2024年9月28日消息,国家知识产权局信息显示,广州德芯半导体科技有限公司申请一项名为“基于移动磁场的磁控溅射镀膜方法及设备”的专利,公开号CN118703956A,申请日期为2024年7月。专利摘要显示,本发明涉及一种基于移动磁场的磁控溅射镀膜方法及设备。其采用圆柱靶材和移动磁场进行磁控溅射,通过控制系统控...
胜利精密:磁控溅射技术已应用在公司玻璃镀膜和复合集流体等产品上
公司回答表示:公司磁控溅射技术是氩气电离后在电场作用下不断轰击靶材,将靶材以原子状态溅射沉积在工件表面,形成致密的镀膜层,是一种高精密的真空镀膜加工工艺。相关技术已应用在公司玻璃镀膜和复合集流体等产品上。本文源自:金融界作者:公告君
品牌认证:溅射靶材市场规模分析及发展趋势分析预测-中金企信
(1)国产化进程加速,国内溅射靶材厂商迎来良好发展机遇:溅射靶材是各类薄膜材料工业化制备的关键材料,其纯度、致密度、品质等均会影响镀膜效率和成本,并对膜层性能、最终产品的质量和性能起着至关重要的作用。受国际大型溅射靶材厂商的技术封锁和国内溅射靶材行业起步发展较晚等因素的共同影响,我国平面显示、半导体...
东威科技取得驱动装置、配合结构及磁控溅射双面镀膜系统专利,便于...
利用第一驱动件和第二驱动件分别通过驱动第一转移件和第二转移件进入或者退出镀膜腔,以带动溅射磁极结构和镀膜辊结构进入或者退出镀膜腔,在溅射磁极结构中的阴极靶材使用结束后,利用第一驱动件驱动第一转移件带动溅射磁极结构退出镀膜腔,以对阴极靶材进行更换,更换过程是在退出镀膜腔后以外的工作空间,操作更换阴极...
博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗-博远微纳-新品
导读:近日,北京博远微纳科技有限公司在仪器信息网发布博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗新品SD-650MHT双靶磁控溅射仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于...
宝来利蒸发镀膜和溅射镀膜分析
真空镀膜设备镀膜技术大方向来分有三种,蒸发镀膜技术,离子镀膜技术,磁控溅射镀膜设备,每种镀膜技术都有各自的优缺点,镀制不同的基材,不同的靶材,选择的镀膜技术是不相同的(www.e993.com)2024年10月23日。电阻蒸发镀膜技术采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术,一般用于蒸发低熔点材料,如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等;加热电阻一般采用...
曼恩斯特获得实用新型专利授权:“一种可调节的阳极装置和磁控溅射...
专利摘要:本实用新型涉及钙钛矿电池应用技术领域,具体涉及一种可调节的阳极装置和磁控溅射设备,可调节的阳极装置应用于磁控溅射设备,磁控溅射设备包括镀膜腔体,镀膜腔体的内侧壁设有用于对基板进行磁控溅射的靶材,阳极装置包括:两组阳极组件,分别位于靶材的两侧并沿水平方向滑动连接在镀膜腔体内,且阳极组件位于靶材和基板之...
【指南】关于发布上海市2024年度“科技创新行动计划”超导项目...
方向3:大尺寸超导靶材批量化制备技术研究研究目标:研制大尺寸高温超导镀膜靶材(直径≥254mm,致密度达到理论密度的85%以上,纯度≥99.9%),实现百米级超导带材连续制备(临界电流Ic≥120A/4mm@77K,Ic均匀性在±10%以内)。研究内容:研究大尺寸、高纯度、组分可调的超导靶材批量化制备关键技术,建立高性能靶材检...
汇成真空:相关业务应客户要求处于保密阶段
金融界6月13日消息,有投资者在互动平台向汇成真空提问:非常高兴看到半导体行业有汇成真空这样优秀的企业,公司研发薄膜沉积设备、磁控溅射镀膜设备、光刻掩膜版/铬版镀膜设备,与哪些下游客户开展了适配性研究合作?比如溅射靶材企业,掩膜版企业等。谢谢!公司回答表示:目前相关业务应客户要求处于保密阶段,详情请关注公司定...
日久光电2023年年度董事会经营评述
在发展早期,公司开展以磁控溅射镀膜为主的核心技术的开发工作,并于2013年实现了关键技术突破,完成了ITO导电膜的量产。与此同时,公司通过对磁控设备的磁场改造,增加了溅射镀膜效率和成膜致密性,实现了产品在相同阻值下ITO镀膜层的薄化,提升了产品的光学透过性。公司通过对磁控设备抽气装置气能的改造,提升了设备抽力,...