国产光刻机虽落后ASML 20年,但距离浸润式技术仅一步之遥

国产光刻机虽然比ASML落后约20年，但实际上已经接近浸润式光刻技术的边缘。在现代芯片制造中，光刻技术至关重要，而光刻机是这一技术的核心，目前全球仅有ASML、尼康、佳能及上海微电子四家主要厂商。ASML凭借超过85%的市场份额和独占的EUV光刻机，巩固了其行业领导地位，而上海微电子的市场份额几乎为零。最近一台...

想要解决卡脖子的情况,发展国产EUV光刻机,有两个核心问题至今没有...

极紫外线技术,最早是英特尔提出的,并且美国政府还组建了一个名为EUVLLC的技术联盟,其中包括了英特尔、国家能源部、摩托罗拉、AMD、IBM等来自于美国的高科技企业,一起攻克极紫外线的光刻机技术。有了技术联盟,还需要有一个光刻机厂商,来测试新技术。当时ASML还没有发展起来,日本的尼康是国际光刻机的老大。但是...

想要解决国产EUV光刻机卡脖子情况,必须要攻克两个核心难点

2019年，ASML发布了EUV光刻机NXE3400C，专门用于5nm工艺芯片的制造。这台光刻机重达180吨，由超过10万个零部件构成，调试与安装的过程大约需要一年时间。ASML的上方还有两家同类的大型企业，其中一家专注于薄膜沉积设备的研发，另一家则致力于半导体元件的集成与封装。这两家公司涉及芯片制造的前端和后端供应链，并且...

重大突破!极紫外光刻新技术问世,超越半导体制造业标准界限,功耗比...

目前,全球光刻机市场的集中度极高,前三大厂商的市场份额占比达90%以上。数据显示,2015-2020年,全球光刻机销售量总体增长,2020年达413台,同比增长16.7%。光刻机随着光刻技术的更迭,已从最初的g-line,i-line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。2020年,全球光刻机销量仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主,合计达26...

...理论上可以激发极紫外光,但光刻机的极紫外光源的技术难度相对...

同花顺金融研究中心07月10日讯,有投资者向海目星提问,您好,董秘,请问下成果中第7条产生极紫外辐射,是否可用于生产极紫外线光刻机公司回答表示,您好。中红外飞秒激光技术为平台型技术,理论上可以激发极紫外光,但光刻机的极紫外光源的技

海目星:中红外飞秒激光技术可激发极紫外光 但光刻机技术难度较高

您好,董秘,请问下成果中第7条产生极紫外辐射,是否可用于生产极紫外线光刻机董秘回答(海目星(39.200,-2.32,-5.59%)SH688559):您好(www.e993.com)2024年11月26日。中红外飞秒激光技术为平台型技术,理论上可以激发极紫外光,但光刻机的极紫外光源的技术难度相对较高,目前我们的激光技术距离专业光源尚有差距。感谢关注。

光刻机的故事(上):如何用极紫外光制造电路板?

随着摩尔定律的推进,芯片上的晶体管数量持续增加,对光刻技术的要求也越来越高。从最初的紫外线到深紫外线,再到极紫外光刻技术,每一次进步都伴随着巨大的技术和工程挑战。光刻机是如何发展起来的?本文分为上下两篇来介绍这个故事:●第一:光刻技术的基础和早期发展,包括极紫外光刻技术(EUV)的起源和初步挑战。

青岚: 俄罗斯,会比中国先造出EUV光刻机?

至于文章内容,前一半分析了目前EUV光刻机供需格局,核心信息在中国读者看来都算是大路货,后一半则是梳理了俄罗斯研究人员在EUV光源和反射镜上的积累,作者据此认为,俄罗斯可以直接跳过浸没式DUV光刻机,一步到位攻关EUV光刻机:“与中国不同的是,我们拥有成为世界第二大超现代极紫外线光刻机制造商所需的一切。”...

极紫外光刻新技术问世,大幅降本增效

极紫外线光刻机(ExtremeUltra-violet),又通常被称为EUV光刻机,它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,该设备当前可被应用于14纳米及以下的先进制程芯片的制造。极紫外线光刻机是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产...

阿斯麦秘密承诺 一旦解放军对台动武 将迅速使台积电光刻机失效

图未尽，匕首已露。最近据彭博社报道，荷兰的光刻机巨头ASML公司向荷兰政府承诺，若解放军启动对台湾地区的军事行动，ASML有能力远程使台积电所用的光刻机，包括目前最先进的极紫外线光刻机（EUV），停止工作。（ASML官网上的光刻机展示）报道日期为5月21日，再次使用了“不愿透露姓名的知情人士”的表述，指出由于...