国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

光刻机，这个芯片制造过程中的核心设备，被誉为“皇冠上的明珠”。过去，我们在这一领域一直受制于荷兰ASML和美国企业，这无疑让我们的生产能力和市场竞争力深陷困境。然而，现在我们终于研发出了自己的5纳米光刻机。这项技术虽然艰辛，但却为国内半导体产业带来了巨大的希望。通过浸润式DUV光刻技术的应用，中国的光...

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

更让人兴奋的是，2024年9月的时候，工信部发布消息说，中国研制出了两台新光刻机呢。氟化氩光刻机里比较先进的那种，照明波长是193nm，分辨率最多是65nm，套刻最多是8nm。看这台光刻机的技术参数就能知道，我国的光刻机技术有重大突破了，它8纳米的套刻精度在全球都算比较高的。这款新的国产光刻机一问世，...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

从工信部公布文件的参数来看,这台光刻机的最小分辨率是65nm,最小套刻精度是8nm。在国产光刻机工件台唯一供应商华卓精科的招股书中有这么一段话,公司研发的DWS系列纳米精度运动及测控系统主要适用于「干式步进式扫描光刻机」,可用于65nm及以上工艺节点IC前道光刻机。两个65nm是巧合么?显然不是。所以,这台设备大...

国产光刻机65nm节点有望突破!5~10年内研发重点在哪?

智能制造网了解到，极紫外光刻技术(EUVlithography)是一种使用波长为13.5纳米的极紫外光作为光源的下一代光刻技术，广泛应用于半导体制造中，是面向7nm及以下节点的主流光刻技术。东海证券认为，目前国产光刻机整机技术与海外差距较大，5~10年内90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键。智能制造网坚信，只要不断提高...

国产光刻机解决0到1,更先进的光刻机有了希望,ASML慌了

在ASML仅能卖给中国DUV光刻机的情况下,去年和今年一季度,中国市场都为ASML贡献了超过四成的收入。如果中国的先进DUV光刻机实现大规模量产,ASML将失去四成的收入,而台积电、三星和Intel采购2纳米光刻机也将有限并且很快得到满足,ASML的未来该往何处去?ASML已表示,在2纳米光刻机之后,研发更先进的光刻机已几乎没...

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

此外,对于EUV光刻技术,阿斯麦也在不断研发新的型号(www.e993.com)2024年11月2日。如高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机,其NA值已从0.33提升至0.55,分辨率从13纳米降至8纳米,并承诺未来将进一步优化套刻精度和产能,有望突破2纳米甚至更小的工艺节点。实现8纳米制程对于制造计划在2025-2026年上市的3nm以下制程芯片至关重要...

激烈交锋,中荷已经谈崩,光刻机管制将升级,中方反砸250亿破局

就拿阿斯麦准备年底交付的High-NAEUV光刻机来说,这种每台售价高达3.8亿美元的顶尖光刻机,可以让英特尔、三星等芯片制造商,将芯片制程缩小到2纳米以下。西方可以失去耶路撒冷,但是他们绝不能没有阿斯麦的光刻机技术。现在包括比尔·盖茨、黄仁勋在内多位硅谷巨头,都明确警告脱钩断链会造成“损人不利己”的严重后...

阿斯麦第一台2纳米光刻机给了英特尔;小米就某芯片公司事件辟谣

阿斯麦第一台2纳米光刻机,给了这家美国巨头:已采购6台据外媒12月22日报道称,荷兰阿斯麦公司将优先向美国英特尔公司交付其新型高数值孔径的极紫外光刻机。据悉,每台新机器的成本超过3亿美元,可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。(每日经济新闻)...

原创光刻机,俄罗斯人竟然搞定了!

光刻机,俄罗斯人竟然搞定了!近期,俄罗斯成功研发出首台国产光刻机,能够生产350纳米工艺的芯片。这一成就不仅在军事装备上具有重要意义,也在汽车、能源和电信等行业显示出巨大价值。尽管350纳米制程并不算先进,但对于俄罗斯来说,这是一次具有里程碑意义的突破,标志着其在芯片自主化道路上的重要一步。

硬核制造开始“服软”?光刻机零部件企业产值增十倍,工艺工程师却...

比如国内一家半导体设备精密零部件制造商,量产应用于7纳米工艺制程的光刻机零部件,就曾深陷烦恼——光刻机的零部件均由高精度的数控机床加工而成。过去,对那张加工图纸,工艺工程师纯以肉眼观察,凭经验琢磨,研究机床的切、削、钻孔等动作及其方向,再编出程序,教给数控机床。一般而言,5名以上工艺工程师齐上阵,编程...