盛合晶微“一种具有应急切换功能的真空管路及其干法刻蚀机台...
将第一干泵通过真空管路与刻蚀工作腔相连,第二干泵通过真空管路与预抽真空腔相连,即形成具有应急切换功能的干法刻蚀机台。本实用新型结构简单,易于对现有的干法刻蚀机台的真空管路进行改造,从而可提高刻蚀过程中的真空安全性,避免晶圆损坏,也避免损失扩大。
从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘
刻蚀是指使用化学或物理方法有选择地在硅片表面去除不需要的材料的过程,根据工艺的不同,刻蚀机可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀,目前,干法刻蚀已占据大部分市场。干法刻蚀中根据离子能量不同,可以主要分为ICP刻蚀设备(硅刻蚀、金属刻蚀)、CCP刻蚀设备(电介质刻蚀),二者市场份额几乎相当。从全球市场来看,Lam、TEL和AMAT几乎...
项立刚怒怼某著名教授:想看中国的光刻机,你有资格么?
而且我们国家也并没有因为阿斯麦(ASML)对我们继续提供光刻机,就停止研发光刻机的技术,我们一直在努力!信息来源:环球时报2022年07月08日智库思享项立刚:中国技术生态链在美重压下快速形成从基础设备到刻蚀机再慢慢的向光刻机发展,也许科技的钻研会有一定的难度,但是我们国家的科研家们从来没有放弃!我们...
国产光刻机重大突破 工信部印发推广指导 板块掀起涨停潮
除了光刻机,其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征金属膜层刻蚀机、化学气相沉积设备、物理气相沉积装备、化学机械抛光机、激光退火装备、光学线宽量测装备等。目前来说,光刻机共经历了六代的发展,从最早的436nm波长,再...
氟化氩光刻机带动光刻机概念大涨!A股巨头,集体异动拉升!除了贵州...
套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工业和信息化部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《指导目录》),其中在电子专用装备目录下,“集成电路生产装备”包括氟化氩光刻机、氟化氪光刻机、等离子干法刻蚀机、高能离子注入机等。
国产光刻机取得重大进展 氟化氩光刻机套刻≤8nm
除了光刻机,工信部在印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,还有多类集成电路生产装备,包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特种金属膜层刻蚀机、化学气相沉积装备、物理气相沉积装备、化学机械抛光机、激光退火装备、光学线宽量测...
...刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备领域(附调研问答)
问:公司产品是否可用于光刻机上或者服务光刻机维保?答:公司先进陶瓷材料零部件主要用于半导体制造前道工序,截至目前已覆盖刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备领域。陶瓷材料零部件既是设备的一部分,也是耗材。目前公司来自于光刻设备领域的营业收入较少,利润占比相对较低。
中国制造光刻机无望?中科大高层直言:中国永远无法实现
这使得许多对这一领域不太了解的网友感到疑惑,光刻机究竟是什么?连美国都没能制造出来吗?朱士尧解析了光刻机与刻蚀机之间的不同之处。提到光刻机,许多人可能会觉得它过于“科幻”,似乎与我们普通人的生活没有太大关联。但事实上,这些设备其实与我们的日常生活密切相关。如果对光刻机不太了解,可以把它想象...
媒体人梳理国产芯片设备的绝代双骄
这就是七星集团与北方微进入光伏设备领域的原因,完全就是为了赚钱养活企业,钱虽然赚到了,但也导致早期的七星与北方微在梦想的半导体高端设备,如离子注入刻蚀机、光刻机上毫无建树,最多只是制造了既可以用在光伏生产,也可以用在半导体芯片制造上的扩散炉、清洗机、立式氧化炉等设备。
半导体刻蚀设备行业研究:半导体制造核心设备,国产化之典范
刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺,刻蚀机被视为半导体制造三大核心设备之一。刻蚀设备主要用于去除特定区域的材料来形成微小的结构图案,与光刻、薄膜沉积并称为半导体制造三大核心设备,重要性凸显,地位举足轻重。刻蚀设备:三大核心设备之一,市场规模可观刻蚀机作为半导体制造三大设备之一,价值量高,市场规模可观。根据Gar...