上海新阳取得一种 193nm 干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用专利

金融界2024年11月21日消息,国家知识产权局信息显示,上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用”的专利,授权公告号CN116144015B,申请日期为2021年11月。本文源自:金融界作者:情报员...

产业化进程加速!久日新材年产4500吨光刻胶项目投产

对此,有半导体新材料行业人士对《科创板日报》记者表示,一方面,大晶新材光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶波长为365nm、436nm,主要用于250nm以上的工艺,属于中低端光刻胶;另一方面,该项目为年生产半导体光刻胶500吨,属于小规模试生产阶段。“目前国内中低端光刻胶领域,已有很多公司实现量产,且规模很...

久日新材:公司子公司大晶信息的光刻胶专用光敏剂可实现国产替代...

公司子公司大晶信息的光刻胶专用光敏剂可实现国产替代,产品已向部分国内下游企业小批量供货。久瑞生物为公司董事长个人控股的企业,公司不掌握其焦性没食子酸的市场销售情况。感谢您对久日新材的关注!

容大感光:国内PCB光刻胶龙头企业,产品性能达国际标准

您好,公司主要产品包括PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶等,公司的PCB光刻胶在国内同行业的企业中处于领先地位,多个系列产品的相关性能指标达到或超过国际/国内相关的行业标准,感谢您的关注。

超声电子:国产 OC 光刻胶材料研究开发中,尚未完成正式生产使用,无...

超声电子：国产OC光刻胶材料研究开发中，尚未完成正式生产使用，无具体成本分析数据金融界11月7日消息，有投资者在互动平台向超声电子提问：尊敬的管理层，2023年报中的第17页里的触控显示OC光刻胶国产化替代的材料和成套工艺研发及应用的研发项目，项目目地是研究开发国产OC光刻胶材料及其成套工艺，实现...

苏州威迈芯材半导体取得光刻胶主材生产用反应釜专利,减少反应介质...

苏州威迈芯材半导体取得光刻胶主材生产用反应釜专利,减少反应介质附着,离子,电机,介质,金属,威迈,反应釜,光刻胶,半导体

苏州明扬半导体取得一种光刻胶生产用烘干装置专利,满足更多使用需求

专利摘要显示，本实用新型属于光刻胶生产领域，具体的说是一种光刻胶生产用烘干装置，包括箱体，所述箱体底部左右两侧的前方与后方均固定连接有支撑块，所述箱体内部中心处开设有烘干槽，所述箱体左侧中心处上方贯穿固定有进口管，且所述进口管内部与所述烘干槽内部相通，所述箱体右侧中心处下方贯穿固定有出口管，且...

光刻胶是什么材料?这种材料在高科技产业中有什么应用?

在平板显示领域,光刻胶用于制造液晶显示器和OLED显示器中的像素图案,直接影响着显示的清晰度和色彩表现。在印刷电路板制造中,光刻胶能够帮助制作出高精度的线路和图案,确保电路板的性能和可靠性。对于半导体分立器件,光刻胶同样不可或缺,它能够实现器件的图形化加工,满足不同的功能需求。

光刻胶最新8大核心龙头股,这篇文章帮你梳理清楚

公司主营业务为致力于PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶、特种油墨等电子化学品的研发、生产和销售。根据南方财富网产业链数据显示,公司产品线涵盖电子化学品等产品;产品广泛应用于通讯、消费电子、计算机、汽车电子等领域。近年来,公司业务结构、营业收入、归母净利润、毛利率与净利率情况如下:以上数据由...

难怪阿斯麦崩了,中国半导体专用光刻胶正式量产

2024年初，武汉太紫微光电更是传出好消息他们研发的T150A光刻机已经通过验证，可以实现量产。这台设备的分辨率达到了120纳米，虽然与最先进的光刻机还有差距，但已经可以满足许多领域的需求。这一突破，无疑给了中国半导体产业一剂强心针。与此中国的操作系统研发也取得了重大进展。2024年3月，华为宣布鸿蒙纯血统版本...