中国光刻机技术突破:上海微电子在德申请EUV专利引关注

我们不妨简化一下理解：EUV光刻机的运行离不开强大而稳定的光源，现有的技术主要依赖极高能量的激光打在锡滴上，再通过一连串复杂的光学镜面系统，反射那些几乎无法捉摸的紫外线，最终精准到达芯片晶圆上。而上海微电子的专利恰恰是在这个链条上的核心光源和光学系统下功夫。如果这些技术确实能够在实际制造中运用，会如何...

发明专利都公布了,中国版光刻机技术真的来了?

上海微电子公开了一项名为"极紫外辐射发生装置及光刻设备"的发明专利。这项专利的出现，让不少人惊呼："中国终于攻克了EUV光刻机技术！"作为芯片制造的"皇冠明珠"，EUV光刻机长期被荷兰ASML公司垄断。美国还联合荷兰、日本等国对中国实施技术封锁，这让国内芯片产业一直处于"卡脖子"的困境中。现在，上海微电子的这...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

首先,国产光刻机技术突破或在美荷的预期之内,从这次“氟化氩光刻机”的参数来看,300mm晶圆、193nm波长,其分辨率≤65nm,套刻≤8nm。这只是ArF的DUV光刻机,用来加工12寸晶圆,按套刻精度与量产工艺1:3的关系,这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片,这说明,这是一款相对初级的DUV光刻机,没法用来加工7nm...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

上海微电子装备公司已经取得了可喜的进展,成功研制出了能够制造28纳米芯片的光刻机。虽然这与最先进的3纳米工艺还有一定差距,但中国正在积极研发更先进的光刻机技术,包括极紫外光刻机。更令人振奋的是,中国并未止步于此。国内多个研究机构和企业正在积极研发更先进的光刻机技术,包括EUV光刻机。在北京、上海、...

中科大教授:美国造不出光刻机,中国有机会吗?我国选择另开赛道

该光刻机采用的是X光技术。利用X光技术，可以将射线的波长调到最短，让刻蚀精度更高。在这种情况下，高端芯片就能完美出炉了。此外，像日本的铠侠公司，也在芯片制造这条路上摸爬滚打。该公司为了量产芯片，发明了一种NIL量产技术。按照研发人员的说法，他们可以利用电子束，将芯片的纳米设计图，刻印在晶圆厂上。

发明光刻机的人简直是个天才

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-fe48fe153f689a89190e2bda9d5df504发明光刻机的人简直是个天才2024-07-2115:33|1万观看33评论912手机看科普视界号粉丝6089|关注1+关注作者最新视频1783|02:29能防御核弹的末日坦克,如果投入战场后果不堪设...

芯碁微“一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法”专利公布

本发明公开了一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法,包括触发模块,该触发模块用于感应门板金属产生触发信号;控制模块,该控制模块与触发模块连接,所述触发模块用于接收触发信号并输出平台急停信号;以及平台急停模块,该平台急停模块与控制模块连接,所述平台急停模块用于接收平台急停信号,使运动平台所有的运动部件失去使能...

制造光刻机 40 年,一本新书重新发现了 ASML 成功的秘密

ASML光刻机的成像原理:通过投射光束,穿过印有电路图的掩模及光学镜片,将电路图曝光在带有光刻胶的硅片上。此时飞利浦已投入光刻机研发十多年,发明出了业内领先的对准系统和独一无二的电动晶圆台,但在和其他十家厂商激烈竞争中不占优势,始终没有订单。

大量采购ASML光刻机:国产光刻机正经历黎明前的黑暗

而经济学家黄江南此前表示,光刻机技术是人发明的,人就一定可以解决,中国人才济济,必能突破重重封锁,造出自己的光刻机。但是黄江南也强调了一点,如果我们依赖国外技术,中国光刻机根本发展不起来。现在光刻机在大量进口,是一种对国外设备的严重依赖,现在这形势,似乎美国对ASML的步步紧逼的状态消失了,更倾向于倾销...

芯碁微装申请光刻机控制方法专利,提高光刻机的生产效率

专利摘要显示,本发明公开了一种光刻机的控制方法、光刻机和计算机可读存储介质,其中,光刻机的控制方法包括:获取所有对位标记点的标记值;根据所述所有对位标记点的标记值确定所有对位标记点的分布区域;根据所述分布区域进行对位路径优化,以确定目标对位路径;根据所述目标对位路径控制光刻机平台移动至目标标记点。本发明...