特大喜讯!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

综合来看，28纳米光刻机的研发成功是一步重要的战略布局。它的意义不仅仅在于技术上的突破，更在于对国内外市场的深远影响。虽然道路仍然漫长且充满挑战，但这一步确实为中国半导体产业的自强之路加油助力。在全球科技竞争日益激烈的今天，这样的突破无疑为中国赢得了更多谈判的筹码和未来的发展潜力。以上内容资料均来源...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

光刻机的研发并不是一蹴而就的,背后凝聚了无数科技工作者的智慧与汗水。我国相关科研团队经过多年的不懈努力,逐步攻克了光刻机制造中的众多难题,特别是在精密加工、光学设计和材料选择方面取得了重大进展。这样的成果不仅是对我国科研能力的验证,也是国家战略推动的结果。我国在芯片领域的长期投入,形成了完整的产业...

在嘉兴,600多位专家谈光刻未来

国微芯研究院的HongChen分享了关于掩模厚度对28纳米及以下节点影响的重要性研究。随着半导体制造中的特征尺寸接近28纳米及更小，光刻中掩模厚度的影响变得越来越显著，导致关键尺寸（CD）变化和边缘放置误差（EPE），统称为三维效应。掩模三维效应的影响主要来自三个因素：吸收体形貌耦合、掩模结构引起的电磁场变化...

从沙子到芯片:芯片的原理和制造过程

光刻机的精度决定了芯片中晶体管的大小,光刻机的精度越高,制造出的芯片晶体管越小,硅晶圆中的晶体管数量就越多,数据存储量就越大。一块芯片中包含了至少上百亿个晶体管不仅如此,作为芯片投影用的母版,掩膜版的制造和芯片光刻流程很相似都要经过光刻工艺,但比芯片的光刻工艺更难,也是要在板子上涂上光刻胶,...

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

近期,互联网上关于“65纳米光刻机”的讨论颇为热烈,但诸多言论缺乏权威依据,导致不少人对这一技术概念的理解愈发模糊。有人仅凭“8纳米套刻精度”来阐释65纳米光刻机的分辨能力,这种简化处理加深了混淆。幸运的是,随着科普工作的推进,大众逐渐达成一项共识:提及的65纳米分辨率、搭配8纳米套刻精度的ArF光源光刻机...

3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?

第一步:理解光刻技术(www.e993.com)2024年11月27日。光刻技术是指通过使用光将电路图案转移到硅片上的过程。传统上,我们使用的是193纳米的深紫外(DUV)光源。然而,随着芯片特征尺寸越来越小,传统DUV光源难以实现精细的图案。图:EUV光刻机第二步:引入EUV技术。EUV(极紫外光刻)使用13.5纳米的波长,可以更好地刻蚀出精细的图案。EUV技术有助于...

中国生命科学领域的又一台“光刻机”:华大集团发布纳米孔基因测序仪

这是华大集团的又一台“光刻机”。从2015年发布BGISEQ-500开始，在短读长测序领域，华大早已实现中国生命科学领域的“光刻机”的自主研制，推动中国成为了目前“唯二”的掌握全产业链（技术、装备、市场应用等）的国家。（来源：资料图）CycloneSEQ纳米孔测序仪：能识别上百种病原，已完成上千个物种的单菌...

佳能首次出货纳米压印光刻机

佳能(Canon)9月26日宣布,将首次供应半导体的下一代制造设备——“纳米压印”光刻机(NIL),这批设备将交付给美国“得克萨斯州电子研究所”。据了解,该设备在半导体制程中用于在晶圆上绘制电路图。目前,标准方法是使用强光来绘制电路。佳能的设备采用的方法是一种像盖章一样的,将纳米级别的图案刻在掩膜上,然后将...

突发,光刻机供应商终止IPO审核!多地加快建设智算中心,两大资金...

根据华卓精科2020年6月首次递交的招股说明书,公司是国内首家自主研发并实现纳米精度运动及测控系统商业化生产的企业,是国产高端光刻机龙头企业纳米精度运动及测控系统产品及技术开发的供应商。值得注意的是,华卓精科IPO早在2020年6月24日获上交所受理,距离现在已过去长达4年时间,2021年9月10日已问询,2021年9月17日...

重大突破!俄罗斯研造出首台光刻机,350纳米到底啥水平?

现在俄罗斯最大的目标,就是自己能否把光刻机给研究出来,如果想要拿俄罗斯制造出来的光刻机,和台积电以及三星的光刻机来比的话,那肯定是不可能的,毕竟这一些企业他们能够生产出来的芯片,现在都已经达到了三纳米,所以从技术方面来看的话,俄罗斯确实不占据任何的优势,俄罗斯所制造出来的这个光刻机,生产出来的芯片相对来...