中国突破光刻机技术垄断,氟化氩光刻机自主研制成功

2024年9月9日，中国工信部宣布独立研制出氟化氩光刻机。这一消息瞬间引爆网络，标志着中国在光刻机领域取得了里程碑式的突破，使得我国彻底摆脱了西方在这一领域的技术垄断。对于一直以来以芯片技术为核心的国际高科技竞争，这无疑是一枚重磅炸弹。了解芯片制造的人都知道，光刻机是芯片生产中最核心的设备，掌握这一...

【芯历史】国产光刻机研发是如何与行业脱节的;高启全退休 传至少...

根据现存最早的国产光刻机的纪录,是1445所在1974年开始研制,到1977年研制成功的GK-3型半自动光刻机(吴先升.φ75毫米圆片半自动光刻机[J].半导体设备,1979(04):24-28.),这是一台接触式光刻机。1978年,1445所在GK-3的基础上开发了GK-4,把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米,自动化程度有所提高,但仍然是接...

把中国光刻机变“废铁”?我国光刻机成功维修,或将改变世界格局

在近段时间,荷兰光刻机巨头代表人更是发表了自己的言论,大致的内容就是:他们不应该当“拦路虎”,越是阻止??中国的发展,中国反而会发展得越快。但这说什么都晚了。而对我们国家而言,却是恰到好处。或许荷兰的这一次“倒戈”,对??我们??是一场机遇。更是中国突破光刻机的恰好时机,也是中国能够迎来高端...

美国媒体近日透露,中国已成功研制出DUV光刻机

速度洗脑循环Error:Hlsisnotsupported.视频加载失败河洛有话说3.0万粉丝扎根河洛文化,讲好中国故事01:01歼-20战斗机隐藏实力,台岛雷达无迹可寻01:12朝鲜半岛局势愈发紧张,朝韩军事分界线周边频传“声响”01:06美国国防部已确认,美军先遣队携带的“萨德”系统部件抵达以色列...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

同年5月,该项目相关论文发表在期刊《激光与光电子学进展》上。论文摘要写道,目前该系列仪器已成功应用于我国350nm至28nm多个工艺节点的光刻机样机集成研制和性能测试领域,为我国光刻机等高端装备发展提供了关键技术支撑和重要测量手段。哦?350nm至28nm,这里也出现了28nm,有点意思。

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

上海微电子装备公司已经取得了可喜的进展,成功研制出了能够制造28纳米芯片的光刻机(www.e993.com)2024年11月2日。虽然这与最先进的3纳米工艺还有一定差距,但中国正在积极研发更先进的光刻机技术,包括极紫外光刻机。更令人振奋的是,中国并未止步于此。国内多个研究机构和企业正在积极研发更先进的光刻机技术,包括EUV光刻机。

泽攸科技完全自主研制的电子束光刻机取得阶段性成果

国产电子束光刻机实现自主可控,是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日,泽攸科技联合松山湖材料实验室开展的全自主电子束光刻机整机的开发与产业化项目取得重大进展,成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控,标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。

凭一国之力造出光刻机,意味着什么?或将成第四次工业革命引领者

早在之前,我们就提出了《中国制造2025》,并将光刻机列为了重点的突破领域。如今更是一个个好消息随之传来,例如,我们国家已经自主研发了全新的光刻机,美国芯片封锁失败了;再到中国再次取得新突破,光刻机领域又迎来了新的核心装备。这一次次的好消息都意味着中国在光刻机领域是成功的、且自信的。可以说,一旦我国...

泽攸精密携手松山湖材料实验室成功研制出电子束光刻系统

导读:松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心产业化项目研发再获新突破:项目团队成功研制出电子束光刻系统,初步实现了电子束光刻机整机的自主可控,标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。国产电子束光刻机实现自主可控,是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日,松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心...

「党建治学」李慎明:正确认识毛泽东领导新中国经济建设的艰辛探索...

(二)独立自主、自力更生研发“两弹一星一潜艇”等早在1956年4月,毛泽东就指出:“我们现在还没有原子弹。”我们“不但要有更多的飞机和大炮,而且还要有原子弹。在今天的世界上,我们要不受人家欺负,就不能没有这个东西”。1958年6月,毛泽东又说:“我还是希望搞一点海军,空军搞得强一点。还有那个原子弹,听说就...