湿法工艺设备的完美合作伙伴
在这种情况下,它还包括清洗设备,但这里专门指用于载盒——SMIF(标准机械接口装置)和FOUP(前开式晶圆盒),或者用于石英制成的零件和化学品输送系统的零件或管道清洗设备。所以,我认为这是最基本的认知。生产所需的每一项制造,尤其是在承载箱或SMIF或FOUP清洗方面,我们看到在过去几年中,需求都在不断增加。当然,每个...
至纯科技2023年年度董事会经营评述
公司提供湿法清洗设备,包括湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备,聚焦晶圆制造的前道工艺,主要应用于扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等关键工序段前后。高端产品包括SPM高温硫酸、去胶、晶背清洗等清洗设备。单片高温SPM工艺主要用在刻蚀以及离子注入之后的有机物清洗,目的是把晶圆表面反应后残余的光刻胶聚合物...
【平安智能制造】智能制造行业专题报告(八):半导体清洗设备:筑...
盛美股份在单片清洗设备、北方华创在槽式清洗设备中已经取得成效。2019年清洗设备国产化率达到约13%。长江存储第14-38批清洗设备招标中,盛美股份、北方华创分别获得20%、2%的份额,高于其全球平均水平。截至2019年底,中国大陆共有14条8英寸及以上的产线在建,12条线产能正在爬坡,7条线规划中。受益于大陆芯片厂的...
半导体设备行业深度研究:光刻机、薄膜沉积、刻蚀机、清洗等
光刻机是光刻工艺的核心设备,也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备,包含上万个零部件,集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。作为整个芯片工业制造中必不可少的精密设备——光刻机,其光刻的工艺水平直接决定芯片的制...
...家机构调研:日本对半导体设备的限制措施中,其中对湿法清洗设备...
答:日本对半导体设备的限制措施中,其中对湿法清洗设备的限制对公司无影响,甚至有可能会加速国内下游厂商采购国产化设备的步伐,对除湿法清洗设备外的其他设备的限制可能会对公司业务产生间接影响,目前尚不确定。公司设备类部分零部件从日韩进口,公司已在国内寻找并培养可替代的国产零部件供应商,今年国产二供的比例争取进一...
盛美上海研究报告:从半导体清洗设备龙头到平台型设备企业
公司供应商中Ninebell是专注于生产机器人手臂的公司,工艺技术水平较高,其机器人手臂产品与公司产品具有较好的匹配性,因此为盛美清洗设备的传送系统中机器人手臂的主要供应商(www.e993.com)2024年7月27日。为进一步加深双方的业务合作关系,盛美控股股东ACMR持有其20%的股权,且盛美董事长王晖博士兼任Ninebell董事,因此Ninebell为公司...
国产替代正当时,半导体清洗设备龙头快速发展
目前,全球清洗设备市场主要被迪恩士SCREEN、东京电子TEL、泛林LAM与细美事SEMES把持,四家公司合计市场占有率达到90%以上,其中,迪恩士市场份额超过50%。在清洗方法上,国际巨头主要采用容器浸泡法、旋转喷淋法和机械刷洗法,其中旋转喷淋法是主流路线,目前已经能够完成7nm及以上规格的硅片清洗。而国内情况则差异较大,各大...
中国半导体设备进入“大清洗”时代
上周,中国半导体设备市场又传来一则重要信息,本土清洗设备厂商盛美上海推出新型化学机械抛光后(Post-CMP)清洗设备,这是该公司的第一款Post-CMP清洗设备,用于制造高质量衬底化学机械抛光工艺之后的清洗。该清洗设备6英寸和8英寸的配置适用于碳化硅(SiC)衬底制造;8英寸和12英寸配置适用于硅晶圆制造。
GB19210-2003《空调通风系统清洗规范》国家标准
机械搅动装置mechanicalagitationdevice用搅动方式来驱除通风系统内污染物和碎屑的机械装置。3.9机械清洗mechanicalcleaning对通风系统内部不该出现污染物和碎屑的物理去除。3.10空气负压机negativeairmachine是一种装有高效空气过滤器的风机驱动设备,用来收集尘粒、容纳尘粒和控制作业区压力。这个设备的排气口...
除了光刻机,哪类设备国产替代空间最大?「附41份精选报告」
清洗设备(66%)国内有较多企业涉足:盛美上海(上市)、创微微、至纯科技(上市)、芯源微(上市)、中电45所、北方华创(上市)等。在清洗设备领域,国有企业中盛美上海的规模最大,其最新旗舰产品SAPS、TEBO和Tahoe能够覆盖80%以上的清洗设备市场。刻蚀设备(56%)国内涉足企业有中微公司(上市)、北方华创(上市...