特大喜讯!中国第一台芯片光刻机,已然成功交付使用

我国第一台自主研发的28纳米光刻机已经成功交付使用。这无疑是一个重大的好消息，因为这意味着我国已经实现了芯片制造技术上的重大突破，而此前一直处于“卡脖子”状态。荷兰ASML公司在光刻机领域几乎占据了全部市场份额，其掌握的光刻机技术是世界上最先进的，因此，我国想要实现这一突破一直面临着巨大的困难。然而...

中国台湾宣称要限制2nm芯片技术出口,日本如何还能分一杯羹?

该光刻机的功能主要是用于先进制程的芯片生产，能够生产2纳米及更小尺寸的芯片。Rapidus计划于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将包括EUV光刻机在内的200余台设备。按照Rapidus计划，2027年，公司开始量产2纳米芯片，并有可能进一步生产1.4纳米芯片。除Rapidus外，日本未来还有至少两家晶圆厂将先后导入先进的...

5nm已量产,3nm还会远吗?重要性比肩光刻机的刻蚀设备——中微公司

已经在从65纳米到5纳米及更先进的各个技术结点大量量产;同时,先进逻辑器件制造对加工的精确性、重复性、微粒污染水平,以及反应腔之间的匹配度等都提出了更高的要求,公司着力改进刻蚀设备性能以满足、先进工艺关键步骤加工的要求。在存储芯片制造环节,公司的等离子体刻蚀设备已大量用于先进三维闪存和动态随机存储器...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

01中国自主研发的氟化氩光刻机顺利问世,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平。02该成果打破了荷兰阿斯麦公司的技术垄断,对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略构成有力回击。03由于此突破,荷兰政府开始担忧失去我国市场的潜在危机,光刻机市场的变局从依赖到自主掌控。04此外,我国在光刻机领域的突破对...

详解中国的芯片瓶颈到底在哪里?看懂了,投资机会才不会溜走

中国领先的生产商中芯国际可以生产28纳米芯片，远远落后于全球领先的2至3纳米。据报道虽然中国目前正在为最新的华为智能手机生产7纳米芯片，但据信这款芯片使用了一种不太先进、效率较低的光刻技术，所使用的机器是在美国管制生效前从ASML获得的。中芯国际在每片晶圆上的芯片成功率可能很低，在商业...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米(www.e993.com)2024年11月27日。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

台积电用旧光刻机生产1.6纳米,中国成ASML先进光刻机的救命稻草

可以说台积电舍弃2纳米EUV光刻机生产1.6纳米工艺影响巨大,ASML得赶快寻求与中国的合作,不然ASML收入下降将是大概率的,中国以外的诸多芯片代工厂的光刻机早已得到满足,只有中国市场仍然需要大规模采购光刻机,中国市场是ASML不可忽视的救命稻草。

中国芯片加速5纳米量产,以现有设备实现先进工艺的突破

据了解北京一家企业正在研发一种利用现有光刻机生产5纳米工艺的技术,预计很快就能实现量产,该工艺的核心技术是自对准四重图案化(SAQP)技术,类似技术曾被台积电用于7纳米,Intel也曾试图利用该项技术。Intel是最早考虑多重曝光技术的,2014年它就已量产14纳米工艺,2016年ASML还没量产EUV光刻机,Intel就试图利用DUV光刻...

中国光刻机技术实现重大突破,美国的制裁不灵了

众所周知,氟化氩光刻机作为集成电路生产的关键设备,其光源波长为193纳米,能够实现65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。这意味着中国氟化氩光刻机已经具备生产8纳米以下芯片的能力。这是什么概念?打个比方,光刻机的精度越高,那么生产的芯片就越强。当前世界最先进的光刻机是荷兰阿斯麦公司生产的极紫外光刻...

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

中国的光刻机技术,远远领先于俄罗斯“百业凋零”的俄罗斯,对中国越来越依赖俄罗斯造出光刻机,可量产350纳米芯片5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。