【突破】工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机...

1.工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机在列为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《目录》)通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化...

中国7nm光刻机技术突然申请专利!外国议论纷纷,背后更多人急了

关于中国无法研发光刻机技术的说法是错误的！近年来，我国在光刻机领域不断取得了多项技术进展。其发展速度之快，甚至引起了光刻机行业领军企业阿斯麦的注意，之前担任公司首席执行官的法国人克里斯托夫也对此持续关注。高精尖领域的前沿技术，我们会力争拥有，正如外国解除封锁一样；我们少了某些东西，他们则会设置障碍。

特大喜讯!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

在科技领域，国产28纳米光刻机的研制成功无疑是一件大事。这标志着中国半导体产业在追赶全球高端制造的道路上迈出了坚实的一步。然而，这一技术突破与荷兰ASML公司的3纳米技术相比，似乎还显得有些力不从心。这究竟是一个技术的大跃进，还是仅仅因为自给自足的需求而被高估了？2024年初，中国自行研发的28纳米光刻机...

手磨纳米芯片,工匠干翻光刻机!赴朝留学生的专业?专报世界第一

权威媒体报道,2023年度北京榜样,国家航天科工二院699厂的特级技师叶辉实现了芯片的手工精密加工,能把工件研磨误差减小到微米级,甚至纳米级,堪称钳工最高精度,凭一己之力,干翻光刻机,遥遥领先。人有多大胆,地有多高产,只要世界上存在的东西,天空飘过五个字:那都不是事。报道大国工匠手磨芯片,跟养鸭技术世界第一...

国产氟化氩光刻机公开:科技自立自强的里程碑

不过啊，咱们也得实事求是地说，这台光刻机的技术水平还不能和ASML最先进的EUV光刻机相提并论。毕竟，ASML的光刻机分辨率已经突破了10纳米大关，套刻精度更是做到了惊人的2纳米。但话说回来，国产氟化氩光刻机已经相当于ASML20年前的技术水平了，这在咱们国家半导体产业的发展历程中绝对是一个重大的突破。四、...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注(www.e993.com)2024年11月22日。几乎是与此同时,上海微电子披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

因此,去年华为Mate60开售第四天,也是荷兰此前宣布实施半导体出口管制正式生效的一天(9月1日),ASML快速回应,已向荷兰政府提出光刻系统出口许可证申请,表示可以继续向中国出售光刻机。因此,只要7nm没有突破,荷兰ASML就不担心他们的护城河被突破。其次,ASML在高端EUV上的护城河很深,28nm距离威胁到它的地位还很远。如今...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国自己的7nm光刻机,是不是真的造出来了?起因,是9月9日国家工信部发布的一个通知:《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》。有人发现,《目录》里有2行,不对劲。很不对劲。看图。这两行,是什么意思?是连一个形容词都没有,就突然静悄悄地官宣了中国自己的新光刻机吗?

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

俄罗斯造出光刻机,可量产350纳米芯片5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。俄罗斯曾经号称世界第二军事强国,但在半导体领域却落后西方至少25年。百业凋零的俄罗斯,越来越依赖中国。

光刻技术的过去、现在与未来

光刻技术作为一项精密的微纳米加工工艺,通过将设计好的微小图案转移到光敏感的材料表面,为各个领域的微细结构制造提供了技术支持。其核心在于利用光刻机,将精准的图案投射到光敏感材料上,从而实现微小结构的精确制造。在当今科技时代,光刻技术是推动半导体制造、光学器件、生物医学等领域发展的重要技术支撑。在半导体制...