追求极致产品,微间距下的MIP工艺技术

图4芯片电极在板层间的延展示意图MicroLED在微间距的生产制作过程,MIP的制造流程相当于COB工艺的进阶版(如下图5),主要是在前中段的芯片制作过程中,为加大电极面积和延展电路的设计可以提高量产直通率,因此多了黄光制备、绝缘层披覆、电极金属化、刻蚀电路等多道的半导体设备制程,并在中后端进行切割、测试分选,...

【AET阿尔泰】追求极致产品,微间距下的MIP工艺技术

图4芯片电极在板层间的延展示意图MicroLED在微间距的生产制作过程,MIP的制造流程相当于COB工艺的进阶版(如下图5),主要是在前中段的芯片制作过程中,为加大电极面积和延展电路的设计可以提高量产直通率,因此多了黄光制备、绝缘层披覆、电极金属化、刻蚀电路等多道的半导体设备制程,并在中后端进行切割、测试分选,...

中国半导体外延片行业报告:产业链图谱、发展现状及未来趋势预测

上海合晶是从晶体成长、衬底成型到外延生长全流程生产能力的半导体硅外延片一体化制造商，致力于研发并应用行业领先工艺，为国内外客户提供高平整度、高均匀性、低缺陷度的高端半导体硅外延片。作为国内知名的研究机构，我们始终坚持以客户为中心，以市场为导向，致力于提供最具价值的研究成果。我们相信，《2024-2030年...

西安炬光科技股份有限公司关于拟收购 SUSS MicroOptics SA 100%...

其具体制造工艺流程图如下:(八)核心竞争力1、标的公司核心技术标的公司核心技术均为自主研发,具体包括:2、技术研发优势标的公司通过持续研发投入,实现技术迭代升级,形成了突出的技术研发优势。标的公司的高精度折射和衍射微纳光学元器件采用光刻-反应离子蚀刻、纳米压印等先进的微纳光学加工制程工艺技术,确保了微...

20nm技术泄密!三星前董事总经理被捕

据韩国检方透露,崔振石在任职期间涉嫌非法获取三星和SK海力士的核心技术资料,包括半导体设计图、基本工程数据、工艺流程图等高度机密信息。这些技术资料对于任何一家半导体企业来说都是无价之宝,直接关系到企业的核心竞争力和市场地位。崔振石利用这些机密信息,计划在中国建立一家仿制芯片工厂,意图通过低成本生产来抢占市...

江西联创光电科技股份有限公司 第八届监事会第十一次 临时会议...

紧凑型核聚变用高温超导磁体生产工艺流程图②产业化情况:处于小试阶段联创超导于2023年11月,在国家相关主管单位、某合作央企领导和江西省政府领导的共同见证下,和某合作央企下属某研究院签订框架合作协议,发挥各自优势,开发基于高温超导技术的混合型核聚变反应装置,联创超导拟向项目方提供高温超导磁体系统和低温系统等...

证券代码:688167 证券简称:炬光科技 公告编号:2024-003

1、针对基于硅和熔融石英材料的微纳光学元器件,采用光刻-反应离子蚀刻法精密微纳光学加工制造技术。该工艺可以精确控制微纳光学元器件的形状、尺寸和定位,从而在最大8英寸晶圆上批量制造出高精度微纳光学结构。其具体制造工艺流程图如下:2、在以汽车应用为典型代表的微纳光学元器件应用领域,采用纳米压印工艺制造能够...

2024-2030年中国蓝宝石基片行业发展现状调研与市场前景预测报告

图表合晶光电蓝宝石晶体棒-基片制造工艺流程图表表格中美晶2寸蓝宝石基片技术参数一览表格图表中美晶蓝宝石基片加工工艺流程图表表格尚志半导体2寸3寸4寸蓝宝石基片技术参数一览表格表格协鑫光电公司信息一览表(产品,收入,原料设备,客户,扩产计划产地等13项内容)表格2018-2023年协鑫光电蓝宝石基片产量...

如何建一个200亿美元的晶圆厂?

半导体工厂的工艺流程图通过一遍又一遍地应用这四个基本过程,以及各种支撑过程,微芯片的结构慢慢地建立起来。随着越来越多的晶体管被塞进集成电路中,这种结构(以及创建它的过程)变得越来越复杂。早期的集成电路只需五到十个不同的掩模和数十个工艺步骤即可制成,但现代的尖端微芯片可能需要80个或更多掩模和数千个...

芯和半导体片上无源电磁场仿真套件通过三星8LPP工艺认证

芯片设计流程图“随着先进工艺节点设计复杂性的不断增加，精确的EM仿真对于我们的客户获得一次性芯片设计流片成功变得至关重要。”三星电子设计DesignEnablement团队副总裁JongwookKye表示：“芯和半导体的三维全波EM套件的成功认证，将为我们共同的客户在创建模型和运行EM仿真时创造足够的信心。”据芯和半导体介绍，...