芯片制造全工艺流程详情

4.2、湿蚀刻(进一步洗掉,但是用的是试剂,所以叫湿蚀刻)——以上步骤完成后,场效应管就已经被做出来啦,但是以上步骤一般都不止做一次,很可能需要反反复复的做,以达到要求。5、等离子冲洗(用较弱的等离子束轰击整个芯片)6、热处理,其中又分为:6.1快速热退火(就是瞬间把整个片子通过大功率灯啥的照到...

...浙大3教师入选ISSCC技术委员会;英伟达AI芯片架构Rubin宣布...

高通、博通、ADI、TI、联发科等,其余六成左右的芯片成果来自于高校和科研院所;历史上入选ISSCC的成果代表着当年度全球领先水平,展现出芯片技术和产业的发展趋势,多项“芯片领域里程碑式发明”在ISSCC首次披露,如:世界上第一个集成模拟

芯片工程师也要失业?谷歌AlphaChip入局AI设计

虽然近年来各大EDA公司都在积极将AI引入到自己的芯片设计工具当中,但是早在2020年,谷歌发表了一篇具有里程碑意义、题为《ChipPlacementwithDeepReinforcementLearning》预印本论文,首次向世界展示了其采用新型强化学习方法设计的芯片布局。随后在2021年,谷歌又在Nature上发表了论文并将其开源了。2022年,谷歌进一步...

西安交通大学教授:微纳制造技术的发展趋势与发展建议

文章概述了微纳制造技术体系,着重分析了芯片微纳制造、激光微纳制造和聚合物微纳制造等典型微纳制造技术的发展态势,概述了多尺度精密微纳加工、多功能材料合成制造、高度集成和多功能化、自组装技术与结构、生物纳米技术融合制造、量子信息与纳米器件及绿色环保制造技术等发展趋势,针对性提出了深化基础研究、创新材料与...

对话纳米压印技术发明人周郁:用变革性的新技术突破光刻瓶颈!

周院士:纳米压印替代的只是光刻环节,只有光刻的步骤被纳米压印技术代替,其他的刻蚀、离子注入、薄膜沉积等这些标准的芯片制造工艺是完全兼容的,能很好的接入和兼容现有产业,不用推翻重来。最重要的就是行业厂商要有信心和兴趣来使用纳米压印技术。Q:如何看待纳米压印技术与光刻技术的关系?是相互取代还是并存?

论文登计算机体系结构顶会,芯片架构成为边缘AI最佳并行计算选择

通过与英伟达同类GPU对比分析,基于RPP架构的R8芯片在延迟、功耗、面积成本、通用性和快速部署方面都表现出色,我们认为这是目前最理想的边缘AI并行计算架构(www.e993.com)2024年11月9日。在今年7月份阿根廷举行的ISCA2024学术会议上,关于RPP处理器架构的论文得到国际学术权威认可。随着边缘AI的发展,AI服务器和AIPC将...

我国科学家开发出可批量制造的新型“光学硅”芯片

中国青年报客户端北京5月9日电(中青报·中青网记者张渺)记者今天从中国科学院获悉,该院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣团队,在钽酸锂异质集成晶圆及高性能光子芯片制备领域取得突破性进展,成功开发出可批量制造的新型“光学硅”芯片。相关成果论文5月8日发表于国际学术期刊《自然》。据了解,随着全球集成电路...

35+AI芯片/Chiplet/RISC-V企业已确认演讲!生成式AI时代最火AI芯片...

产业生涯中已成功流片十余次,掌握从28nm到7nm各代制程工艺下大芯片设计与优化完整方法论,带领不同公司团队完成多次从芯片架构设计、流片生产到客户交付的全流程。演讲主题:《从GPU到TPU,AI大模型基础设施的变迁与未来》内容概要:每一次历史性的科技浪潮中,底层基础设施的革新总是扮演着至关重要的角色。

全球芯片关键技术研究最新进展

研发成果8英寸GaN电力电子芯片以"ReportofGaNHEMTson8-inSapphire"为题发表在高水平行业期刊IEEETransactionsonElectronDevices上,并被国际著名半导体行业杂志SemiconductorToday专题报道。8英寸蓝宝石上制作的GaNHEMT的横截面示意图和工艺流程图片来源:IEEE官网资料制作8英寸蓝宝石上GaN芯片图图片来源...

为什么英伟达将进入模型领域,而模型将进入芯片领域

模型构建者和芯片制造商之间将面临非常强的垂直整合压力。NVIDIA需要向模型方向发展。协同驾驶系统对现有企业来说是一个很好的战略，职场中的人变得更加多面手，同时，他们最终会监督一群专家级的AI副驾驶。副驾驶不会按工作定价，而是根据他们增强你做新事物的能力来付费的。长期记忆问题应由应用开发者来处理，而...